【課題】加工ヘッドを対向するガラス基板に対して走査しながらエッチャントをガラス基板との隙間に供給しこれを吸引排出することでガラス基板の表面を加工する際、走査速度を速めても、平坦化のために算出した目的の除去量（計算値）と実際の加工における除去量にずれを生じさせることなくガラス基板等の被加工物の表面を加工する。
【解決手段】加工ヘッド２によりエッチャントをガラス基板３の表面に供給し吸引することにより、加工ヘッド２とガラス基板３との隙間に一定面積のエッチャント流路を形成し、加工ヘッド２とガラス基板３とを相対的に走査してガラス基板３の表面を加工する際、加工ヘッド２の先端部に設けた加圧ガスノズル６１から乾燥窒素ガスからなる加圧ガス流を流出させてエッチャント流路を流れるエッチャントを加圧し、エッチャント流路内にエッチャントを封じ込むようにした。 （もっと読む）

【課題】生産タクトを低下させることなく、設備も導入することなく、且つ液晶パネルの歩留まりを低下させることなく、輝点不良が生じるのを防止できる液晶パネル用のガラス基板を提供する。
【解決手段】化学研磨が表面１１ｂに施されたＴＦＴ用ガラス基板１１において、表面１１ｂにＴＦＴ用ガラス基板１１の屈折率±５．３％以内である屈折率を有する硬化性の透明樹脂１７が平坦に塗布され、切断機によって切断された際に生じる切断面１１ｃにも透明樹脂１７が塗布される。 （もっと読む）

【課題】生産性を高めることを目的とする。
【解決手段】ガラス基板に処理液を供給するシャワーノズル１２を備えたチャンバ１０と、タンク１４等を含む循環供給経路を備えたガラス基板処理装置において、ガラス基板の処理に伴い請じる処理残渣を、循環中の処理液中から粗分離するサイクロン分離器２０と、粗分離された処理残渣をさらに精密分離する沈殿分離装置２４Ａ，２４Ｂ等と、分離された処理残渣を、循環供給経路の外部に排出する廃液管４７および残渣回収タンク４０等を備えている。 （もっと読む）

【課題】目詰まりを起こしにくく、ガラス基板に供給される気泡に位置的なバラツキがなく、高品質の化学研磨を実現する化学研磨装置を提供する。
【解決手段】フッ酸を含有する研磨液を閉鎖状態で保有する化学研磨槽と、直径０．３ｍｍ〜２ｍｍ程度の気泡開口ＨＯを所定の間隔で上向きに設けた複数列の中空パイプ２と、複数列の中空パイプ２に空気を連続的に供給して化学研磨槽に気泡を発生させる給気ポンプと、複数列の中空パイプ２の上部で、所定の拡散空間を隔てて複数のガラス基板を垂直姿勢で保持するバスケットとを備える。バスケット単位で実行される化学研磨処理を複数回繰り返した後、沈殿空間に沈殿する反応生成物を排出口から排出する。 （もっと読む）

【課題】構造が単純であり、また、歩留まりを向上することができる積層構造体およびガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】湿式エッチング処理により表面１０Ａに微細凹凸構造が形成されるガラス基板１０と、ガラス基板１０の表面１０Ａに積層配置され、湿式エッチング処理のエッチングマスク１１が形成されるマスク材膜１１Ａと、を備えた積層構造体３０において、マスク材膜１１Ａが、低応力で構成されている。 （もっと読む）

【課題】エッチャントによりガラス基板等の被加工物の表面を外周部を含めて目的とする形状に加工する表面加工方法の提供。
【解決手段】加工ヘッドによりエッチャントを被加工物３の表面に供給し、吸引することにより、該加工ヘッドと被加工物との隙間に一定面積のエッチング領域をなすエッチャントの流路を形成し、該加工ヘッドを該被加工物に対して走査することで被加工物の表面を加工する際に、前記被加工物３の端に面位置を合わせて板部材５１を当接させる。 （もっと読む）

【課題】加工ヘッドによりフッ酸等のエッチャントをガラス基板、半導体基板等の被加工物の表面との間に連続的に供給し吸引する際に、加工ヘッド側の先端面の形状が高平坦度の加工に影響を及ぼす。
【解決手段】被加工物３の表面と相対的に移動しながら、被加工物３の表面に液状のエッチャント５を供給口４４から連続的に供給しつつ排出口４５から吸引して排出し、供給口４４と排出口４５との間に形成される被加工物３の表面と接触するエッチング領域により、被加工物３の表面をエッチング加工するための加工ヘッド２における供給口４４と排出口４５とが設けられているヘッド前端部４１を１部材により形成して前端面を無段差の平坦面に形成した。 （もっと読む）

【課題】簡便な方法でアレイ状の凸部や線幅の異なる凸部や微細な凸部を、短時間で効率良くガラス基材表面や薄膜表面に形成すること。
【解決手段】ガラス基材表面２ａに、加工工具１により付与される圧力を吸収する緩衝層４を所定のパターンで形成する工程と、緩衝層上を通過するように、加工工具により圧力を付与しながらガラス基材表面を走査して、エッチング液に対するエッチングレートが圧力を付与しない部分と異なる圧縮応力部５をガラス基材表面及びその近傍に形成する工程と、ガラス基材２に対してエッチング液による化学的エッチング処理を行って、ガラス基材表面に凸部３を形成する工程と、を備え、緩衝層におけるパターンの最小寸法を、ガラス基材又は緩衝層と加工工具との接触領域の寸法のうち、パターンが最小寸法を示す方向における最大寸法よりも大きくなるように緩衝層を形成するガラス基材の加工方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】 硝子に微小な穴あけをする際、穴の周縁にギザギザが形成されない優れた方法及び装置を提供する。
【解決手段】 硝子より成る対象物１の表面を保護層４で覆い、保護層４の穴あけ箇所の部分に穴あけ用開口４０を形成する。硝子を溶出することが可能な溶出液２をノズル３から噴射させ、穴あけ用開口４０を通して対象物１の表面に当てて５×１０^−２Ｎ／ｃｍ^２以上２０×１０^−２Ｎ／ｃｍ^２以下の圧力で衝撃する。ノズル３から噴射される溶出液２は、穴あけ用開口４０よりも小さい直径２０μｍ以上４００μｍ以下の粒状である。溶出液２による衝撃を継続することで対象物１に貫通穴１０が形成される。 （もっと読む）

組成物は、約１００ｎｍ以上約１０μｍ以下のサイズの複数の固体粒子を有し、該粒子は、ナノ孔のうちの少なくとも一部が貫流孔を提供する複数のナノ孔を有し、粒子の表面は、該表面で突出する連続材料により別々に離間されたナノ構造特徴と、任意選択で少なくとも１つの相互貫通する陥没連続材料とを示す。突出材料が疎水性であるか、疎水性コーティングが粒子表面に施されている場合、粒子は超疎水性である。固体基材上への粒子のコーティングにより、超疎水性表面を備えた物を形成することが可能である。
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【課題】 表示ムラ等のない視認性の良いフラットパネルディスプレイを提供する。
【解決手段】 ガラスパネル１の表面の材料を溶出させる溶出液Ｌを噴射する噴射孔２０を有するノズル２をガラスパネル１の表面に平行な回転軸の周りに回転させ、噴射孔２０がガラスパネル１の表面に対向した際、噴射された溶出液Ｌがガラスパネル１の表面を衝撃することで表面を平坦化する削減が行われる。ノズル２が回転した際、噴射孔２０がガラスパネル１の表面と正対した時点でのその噴射孔２０の回転の向きと逆向きにガラスパネル１を移動させながら削減が行われる。表面が平坦化されたガラスパネル１でディスプレイを製造する。 （もっと読む）

【課題】 ガラスパネルの表面を均一に且つ高速に削減できる実用的な技術を提供し、ＦＰＤやタッチパネルの薄型化に貢献する。
【解決手段】 ガラスパネル１の表面の材料を溶出させる溶出液Ｌを噴射する噴射孔２０を有するノズル２をガラスパネル１の表面に平行な回転軸の周りに回転させ、噴射孔２０がガラスパネル１の表面に対向した際、噴射された溶出液Ｌがガラスパネル１の表面を衝撃することで削減が行われる。ノズル２が回転した際、噴射孔２０がガラスパネル１の表面と正対した時点でのその噴射孔２０の回転の向きと逆向きにガラスパネル１を移動させながら削減が行われる。 （もっと読む）

【課題】高い基板強度と低アルカリ溶出量の両方を兼ね備える磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【解決手段】アルミノシリケート組成を有する情報記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、金型成形された円盤型ガラス基板の中心部をくり貫いて作られたドーナツ型ガラス基板の内周端面をエッチング処理するエッチング処理工程と、エッチング処理されたドーナツ型ガラス基板の表層のアルカリイオンをプロトン交換によりアルカリ封止処理を施すアルカリ封止処理工程とを有する情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、前記製造方法により製造された情報記録媒体用ガラス基板上に、少なくとも磁性層を形成することを特徴とする磁気記録ディスクの製造方法および磁気記録ディスク。 （もっと読む）

【課題】 下向き式ガラスの薄型化の方法を提供する。
【解決手段】 ガラスを垂直に立て、前記ガラスの上部から下部にエッチング液を均一に流して前記ガラスを薄型化する構成とした。また、前記エッチング液はＨＦ溶液とする。重力によってエッチング液を自然に流して所望のガラスエッチングを達成できるため、パーティクルの発生を顕著に低減すると同時にガラスを超薄型化することが可能になる。また、ガラスを超薄型化する場合にも、ガラスの表面におけるスクラッチの発生を防止できるため、高い品質で薄型化したガラスを提供することができる。 （もっと読む）

【課題】ガラスディスクの側周面のエッチングによる研磨加工を簡単且つ高速に行うための方法を提供する。
【解決手段】ガラスディスク１０とスペーサ２０とが交互に積層されたガラスディスク積層体１の側周面１２，１４がエッチング液に接することによってガラスディスク１０の側周面を研磨加工する方法であって、スペーサ２０の側周面は、ガラスディスク１０の側周面より後退している。 （もっと読む）

【課題】 精密研磨工程後の薬液での洗浄によって研磨剤を基板表面から除去することができ、かつ洗浄後の基板表面が近年のＥＵＶリソグラフィー技術等で要求されるような極めて高い表面の平滑性を有する基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 ガラス又はガラスセラミックスからなる基板の表面を研磨し、表面粗さＲＭＳを１．０ｎｍ以下とした後、硫酸、硝酸、塩酸から選ばれる酸を少なくとも１種以上含む溶液を用いて前記基板の表面を洗浄し、洗浄前後の前記基板の表面粗さＲＭＳの変化量の絶対値が０．５ｎｍ以下である洗浄工程を含み、かつ前記溶液は、２００ｇの溶液で希土類酸化物０．００１ｇを３０分以内に溶解する溶液である基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ガラス材等の被加工材に生じた反り等の変形量を低減する。
【解決手段】ガラス基板１０，２０，３０の両面にドライフィルムを施し、各ガラス基板１０，２０，３０について一方のドライフィルムに所定パターンの開口を露光・現像により形成する。次に、サンドブラスト法によってその開口パターンに沿った溝をガラス基板１０，２０，３０に施す。次に、ドライフィルムを貼り付けた状態でガラス基板１０，２０，３０をエッチング液に浸漬し、溝の壁面部分をエッチングする。次に、溝に触媒を担持し、ガラス基板１０，２０，３０を接合する。 （もっと読む）

【課題】
ガラス板主表面にフッ酸をエッチャントとするエッチング法で溝を形成すると、溝とガラス表面の境にエッチピットが生じ、平滑な壁面を有する溝を形成できなかった。
【解決手段】
ガラス板表面を研削により所定厚みにし、その後精密研磨により研削面を平滑化するに際して、片面当たりの精密研磨取り代を２５μｍ以上として、研削により生じたガラス表面残留歪みを除去する。これによりガラス表面に最終的に残る歪みは、精密研磨のみになり、この歪みを除去するアニール温度をガラスの歪み点以下にすることができる。ガラス基板の平坦性を損なうことなく溝形成時にエッチピットが生じないガラス基板とすることができる。 （もっと読む）

【課題】液体吐出ノズルの内外径寸法が微小でかつ一定のノズル長を有する液体塗布装置用の液体吐出ノズルを提供する。また、内外径寸法が微小な液体吐出ノズルを寸法のばらつきが小さく、低コストで製造できる方法を提供する。
【解決手段】液体流入口と液体吐出口とを連通する通路を具える液体吐出ノズルであって、ガラス製中空管からなる母材が、所定の外径になるまで加熱延伸された後、所定の長さに切断され、液体流入口内面がテーパー状に加工されている液体吐出ノズルである。 （もっと読む）

【課題】 薄膜デバイス転写のためにガラス基板をフッ酸溶液に浸漬させてエッチングする従来技術では、高速且つ面内均一にガラスをエッチングすることができなかった。従来のエッチングレートでは、ガラス基板をエッチングするために２時間以上を要し、量産技術としてはスループットが非常に遅いという課題があった。
【解決手段】 ガラス基板１４にシャワー状のフッ酸溶液１６を吐出することによりエッチングが可能なエッチング装置１００、及びそれを用いたエッチングプロセスを提供する。シャワー１５の噴霧角度、シャワーノズル１３と基板１４との間の間隔、基板１４の揺動振幅長などを適切に設計することにより、シャワー１５を基板１４面内に均一に供給可能とする。基板１４表面への微粒子１７（フッ酸に対する不溶物）の付着を効果的に抑制でき、非常に高速且つ面内均一なエッチングを実現できる。 （もっと読む）