本発明は、ａ）窓ガラスをエッチングし、ｂ）エッチングされた窓ガラスを５００℃から８００℃の温度に加熱し、およびｃ）加熱されエッチングされた窓ガラスを、冷風ジェットを使用して３０秒から１５０秒以内に２５℃から７０℃の温度に冷却する、反射低減窓ガラス（３）を製造する方法に関する。
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【課題】ガラスの長所を有効に活用できるようにした電子装置用のガラス基板を提供する。
【解決手段】ガラス母材ＧＬの表裏面のうち、表面全体に反射防止膜を形成する成膜工程（ＳＴ１）と、反射防止膜を設けたガラス母材の表面全体に、耐フッ酸性のレジスト層を設けるレジスト工程（ＳＴ２）と、レーザ光又はカッタ刃によって、ガラス母材の表面から、貫通しない区画ラインＧＶを形成して、ガラス母材を複数の使用領域に区画する区画工程（ＳＴ３）と、区画工程を経たガラス母材を化学研磨して、ガラス母材を裏面側から薄肉化すると共に、区画ラインＧＶを表面側から深化させるエッチング工程（ＳＴ４）と、を有して一枚のガラス母材から複数枚の電子装置用ガラス基板を製造する。 （もっと読む）

【課題】ガラス板についての帯電性の評価精度を向上させる。
【解決手段】ガラス板を載置台に対して載置するステップと離間するステップとを含む剥離サイクルを、少なくとも、前記剥離サイクルの回数の増加に伴う前記表面電位の絶対値の増加が持続するまで、繰り返して実施し、ｉ）剥離サイクルを、ガラス板の表面電位が飽和帯電電位に達するまで、さらに繰り返して実施し、当該飽和帯電電位の絶対値が基準値Ａよりも小さい場合、またはｉｉ）表面電位の絶対値の増加が持続する期間にわたる表面電位の絶対値の増加量を、当該期間内に実施される剥離サイクルの回数で除算することによって得られる値が基準値Ｂよりも小さい場合、ガラス板の帯電性が低いと評価する。 （もっと読む）

防眩表面を有するガラス物品が記載されている。防眩表面は、９５未満の反射画像の鮮鋭性、および５０％以下のヘイズを有する。ある実施の形態において、このガラス物品は、防眩表面上に配置された防汚性表面をさらに含む。そのガラス物品および防眩表面を製造する方法も記載されている。
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【課題】互いに貼り合わされた２枚のガラス基板の厚さを薄くするためのエッチングの終了時点を決定するためのパラメータ数を少なくする。
【解決手段】エッチング速度がエッチング槽１２内のエッチング液１３の温度及び濃度に応じて一意的に決定されることに着目し、エッチング槽１２内のエッチング液１３の温度及び濃度を一定に維持して、互いに貼り合わされた２枚のガラス基板１、２のエッチング厚さをエッチング時間で管理すると、パラメータはエッチング時間のみであり、互いに貼り合わされた２枚のガラス基板の厚さを薄くするためのエッチングの終了時点を決定するためのパラメータ数を少なくすることができる。 （もっと読む）

【課題】 製品の薄型化等に対応し、取り扱いが容易で処理の際に立てた姿勢とすることが容易な薄板ガラスを提供する。
【解決手段】 元板ガラス１１の周縁をマスク４で覆った後、元板ガラス１１に溶出液Ｌを噴射して元板ガラス１１の厚さを削減することで薄板ガラス１２を得る。薄板ガラス１１は、薄板状の主部１２１と、主部１２１の縁に沿って延びるリブ１２２とから成る。ホルダー６によりリブ１２２の部分で保持して薄板ガラス１２を立てた姿勢とし、この状態で薄板ガラス１２を処理する。主部１２１は、１００μｍ以下の厚さ又はリブ１２２が無い場合には自立できない厚さである。 （もっと読む）

【課題】薄くても非常に高い強度を持つガラス基材及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のガラス基材は、加熱した化学強化用の熔融塩にガラス基板を浸漬す
ることにより、前記ガラス基板のイオンを前記熔融塩のイオンでイオン交換して前記ガラ
ス基板を化学強化し、前記化学強化により前記ガラス基板の主表面に形成されたイオン交
換層を除去することにより製造される。 （もっと読む）

【課題】液晶表示装置用ガラス基板の薄板化を目的とし、ガラス表面の傷などが小さくなり、ガラス表面の平坦性が向上するガラス基板のエッチング方法及びエッチング装置を提供する。
【解決手段】第１のガラス基板上に薄膜トランジスタ素子を形成し、第２のガラス基板上にカラーフィルタ素子を形成し、素子が形成された面を対向させて配置し、シール材を介して前記第１のガラス基板と前記第２のガラス基板とを貼り合わせ複数個の液晶表示パネルを有するガラス基板対１０とする。このガラス基板対１０を第１の液槽２１に入れ、研磨力の小さい化学研磨液Ａで第１研磨を行うことで、ガラス表面を平坦化し、次に、第２の液槽２３内の化学研磨液Ｂで所望の厚さまで薄板化する。 （もっと読む）

【課題】レーザ分断法の欠点を解消して、薄板化しても強度の劣らないＦＰＤ用ガラス基板を効率よく製造できる製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板の表面に、ガラス板厚Ｈの１／４未満で、且つ、その後の研磨量Ｗに対してＷ〜３Ｗの深さＤで、略Ｖ字状の区画ラインを形成して、ガラス基板を個々の電子装置の領域毎に区画する区画処理（ＳＴ１）と、区画されたガラス基板の表面に化学研磨液を接触させて、ガラス基板の表面を、厚さＷ≦８０μｍだけ研磨する研磨処理（ＳＴ２）と、薄型化されたガラス基板の区画ラインに沿ってレーザ光を走査して、前記区画ラインを、ガラス基板に対して貫通又はほぼ貫通させる走査処理（ＳＴ３）と、ガラス基板を個々の電子装置の領域毎に分離する分断処理（ＳＴ４）とを設け、その後の処理を経て電子装置を完成させる。 （もっと読む）

【課題】基板の厚さによらず保護対象部材を損傷させずに適確に基板を分断する方法を提供する。
【解決手段】レーザ光Ｄによって両基板用基材１１０、１２０の分断予定位置Ｃ_CF、Ｃ_TFTに改質領域１６０を形成し、エッチングによって改質領域１６０が形成された部分に溝部を形成する。そのため、両基板用基材１１０、１２０に照射するレーザ光Ｄのエネルギーを低減できる。それゆえ、レーザ光Ｄによって両基板用基材１１０、１２０に改質領域１６０を形成する際に、ＣＦ基板用基材１１０を透過したレーザ光Ｄが外部端子２３等の両基板用基材１１０、１２０間の各種部品に損傷を与えることを防止できる。したがって、液晶パネルを製造する際に、厚さが薄い液晶パネルを対象としても、外部端子２３等を損傷させずに適確に貼り合わせ基材１２を分断することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】凸状欠陥数を低減させ、非常に高いレベルの欠陥品質を要求される反射型マスクブランク用基板として好適なマスクブランク用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】チタン（Ｔｉ）の酸化物を含有する低熱膨張ガラス基板を研磨剤により研磨した後、フッ酸を含む水溶液を用いて処理し、次いでｐＨが４以下の酸性溶液を用いて洗浄処理し、更にアルカリ性溶液を用いて洗浄処理することによるマスクブランク用基板の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】レーザ分断法の欠点を解消して、薄板化しても強度の劣らないＦＰＤ用ガラス基板を効率よく製造できる製造方法を提供する。
【解決手段】第一ガラス基板Ｇ１と第二ガラス基板Ｇ２の間に、複数の表示セル領域を設けた貼合せガラス基板１について、第一ガラス基板Ｇ１の表面に、表示セル領域を区画する第一スクライブライン５ａを形成する予備工程ＳＴ１と、第一スクライブライン５ａに沿ってレーザ光を走査させる走査工程ＳＴ３と、第一スクライブライン５ａに対応して、第二ガラス基板の表面に、第二スクライブライン５ｂを形成して貼合せガラス基板を分断する切断工程ＳＴ４と、をこの順番で実行して、表示セル領域毎に分離されたガラス基板を製造する。 （もっと読む）

【課題】１平方インチ当たり４０ギガビット以上のような高記録密度での使用に供される磁気ディスクとして構成しても、サーマルアスぺリテイ障害を起こすことがなく、耐衝撃性にも優れた磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを提供する。携帯電話、デジタルカメラ、携帯型「ＭＰ３プレイヤ」、ＰＤＡ等の携帯情報機器や、「カーナビゲーションシステム」など車載用機器にも搭載できるように、例えば、外径３０ｍｍ以下の小型磁気ディスクとして構成しても、安定した動作を実現できる磁気ディスク用ガラス基板及び磁気ディスクを提供する。
【解決手段】磁気ディスク用ガラス基板の製造方法において、ガラスディスクの端面部を鏡面加工する鏡面加工工程を有し、この鏡面加工工程においては、端面部に対して研磨手段を摺接させて端面部の表面を鏡面研磨した後に、この鏡面状態を保持しつつ、端面部を化学処理し、表層部に存在するクラックを除去する。 （もっと読む）

【課題】基板表面に光不透過層を介して修飾層が設けられた表面修飾基板、その用途によらない効率的な製造方法及びその製造システムの提供。
【解決手段】基板表面１１ａを修飾剤で被覆して修飾層１３を設ける工程と、修飾層１３の所定箇所が露出するように、修飾層１３上にフォトレジスト層１４をパターニングする工程と、露出された修飾層１３を除去し、基板表面１１ａの所定箇所を露出させる工程と、露出された基板表面１１ａをエッチングして、基板表面１１ａに凹部１１０を形成する工程と、基板１１上に残存しているフォトレジスト層１４を除去する工程と、を有する表面修飾基板１の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の端面のクラックを十分に低減することができる磁気ディスク用ガラス基板の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】ガラス基板の端面を機械研磨した後に、キャリアで保持した状態でガラス基板の主表面を研磨し、その後に、ガラス基板の端面をエッチングし、その後に、キャリアを用いない枚葉研磨により再度主表面の研磨をすることとした。この方法により、ガラス基板のエッチングにより、端面の機械研磨によるガラス基板端面のクラックとキャリアとの接触によるガラス基板端面のクラックを除去し、枚葉研磨により、エッチングによるガラス基板の主表面の荒れを除去することができる。 （もっと読む）

【課題】ガラス表面を改良し、タッチパネルの操作性を向上させ、更にはガラスの機械的強度を高めること。
【解決手段】本発明のタッチパネル用ガラスの製造方法は、ガラス表面の全部または一部の表面粗さＲａを３〜５００００Åにする粗面化工程を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】加工ガラス基板を生産性良く製造することができる方法を提供すること。
【解決手段】本発明の加工ガラス基板の製造方法は、その表面に感光性樹脂層が形成された後に貫通孔が形成されたガラス基板を、当該感光性樹脂層を残存させた状態で酸に浸漬する浸漬工程を含んでいるので、浸漬工程の後に当該ガラス基板の表面を滑らかにする工程をさらに設ける必要が無く、貫通孔が形成された加工ガラス基板を生産性良く製造することができる。 （もっと読む）

【課題】使用時に半導体素子を汚染するパーティクルの発生がなく、かつ使用を重ねても処理条件を変動することがないシリカガラス治具を提供する。
【解決手段】半導体を製造する工程で使用するシリカガラス治具において、その表面の一部又は全部に中心線平均粗さＲａが０．１〜２０μｍの凹凸が存在し、前記凹凸が、大柄な波状の凹凸とその表面に存在する微細な浅いお椀状の凹部とからなる多層構造で、しかも前記お椀状の凹部の底の深さが凹部の縁径より小の浅さで凹部間の縁には鋭角な凸がなく、かつ、濃度３．０〜４．０％で液温が１７〜２３℃のフッ化水素水溶液にて１５〜１７時間エッチングした時の表面と、エッチング処理しない時の表面とを触針部先端のＲが２〜１０μｍの範囲にある触針式表面粗さ測定装置を用いてＪＩＳＢ０６０１に基づき測定した時の中心線平均粗さRaの変化率が５０％以下であることを特徴とするシリカガラス治具。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板に３次元の微小構造を形成させる構造体において、その構造を効率的に形成することができる技術を提供する。
【解決手段】この発明は、ガラス基板からなりそのガラス基板の厚さ方向に形成される貫通孔を有する構造体の製造方法であって、以下の２つの工程からなる。第１工程では、ガラス基板１の貫通孔２の内周面の形成が予定される内周面予定領域３にレーザ光４を照射してそのレーザ光４の焦点を内周面予定領域３内において走査することにより、内周面予定領域３に変質領域５を形成する。第２工程では、ガラス基板１に対してエッチングを行い、変質領域５に係る部位を除去することにより変質領域５で囲まれていた中子６を抜き落として貫通孔２を形成する。 （もっと読む）

【課題】ガラス母材の加工方法において、ガラス母材の表面にある傷や異物を除去して、これらがガラス母材の内部に混入することを防止する。
【解決手段】ガラス母材を回転チャックで保持して回転しつつ、加熱源２をガラス母材１の長手方向に移動させながらガラス母材１を加熱して加工するガラス母材１の加工方法において、ガラス母材１の表面を化学エッチングして、Δφ０．０２〜０．３ｍｍ溶解侵食させた後、該ガラス母材１を加熱して加工する。なお、化学エッチングにはフッ化水素酸を用いるのが好ましい。 （もっと読む）