【課題】意匠性に優れ、安全で、かつ、滑り防止性、特に泥水が付着した際の滑り防止性に優れた床用硝子板及びその製造方法を提供する。
【解決手段】強化硝子板の表面に粒径粗さ６０〜１３０メッシュの金鋼砂を圧縮空気により吹付け、表面張力を増大させる凹凸を設け、歩行時の滑り防止性に優れる表面とした。本発明の床用硝子タイルは、特に泥水が付着した際の歩行に対する滑り防止性に優れており、強化硝子板１の裏面側に、印刷層２を有する意匠フィルムが積層された層構成を有しており、前記強化硝子板の表面側には滑り防止効果を発揮させるために、ＪＩＳ Ｂ ０６０１に準ずる表面粗さが４０〜１０μｍの凹凸が形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】パネルのエッチング製作プロセスの方法及びその装置を提供する。
【解決手段】パネルのエッチング製作プロセスの方法及びその装置は、エッチングするパネルをエッチング液中に浸漬すると共に、エッチングの進行過程中、そのパネルの板面の平行方向に沿って上下及び(或いは)左右方向に往復移動させ、エッチング液を均一にパネル表面と接触させ、均一なエッチング効果を得る。またそのパネルとエッチング液間の相対運動により、エッチングで出る残渣を迅速にその表面から分離し、エッチング効率を高める目的を達成するものである。 （もっと読む）

【課題】ＣｅＯ₂などの金属不純物がほとんど検出されず、かつ表面粗さも１ÅＲＭＳ以下であっても、理論透過率より０．５％以上も透過率が低いことがあり、問題となる。
【解決手段】光学素材の表面をＨＦする前、又はＨＦ処理後、ｌ００℃以上１０００℃以下の温度で熱処理することを特徴とする紫外用光学素子の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】高平坦かつ高平滑なガラス基板を生産性良く製造する加工方法を提供する。
【解決手段】ガラス基板に対して、加工前のガラス基板面の表面形状を測定する工程と、場所ごとに加工条件を変えて基板面内を加工する工程（第１の加工工程）と、第１の加工工程が施されたガラス基板表面を仕上げ研磨する工程（第２の加工工程）と、を備える加工をおこなって、高平坦かつ高平滑なガラス基板を生産性良く得る。このとき、第１の加工工程における基板面内のそれぞれの場所の加工条件は、加工前のガラス基板面の凹凸形状と、同様の基板を用いて別途測定された第２の加工工程による加工量の面内分布と、から決められた加工量から決められる。 （もっと読む）

【課題】益々薄型化されるＦＰＤ用のガラス基板を適切に扱うことのできる後処理装置を提供する。
【解決手段】化学研磨により薄型化された貼合せガラス基板ＧＬを受入れて、その後の処理を実行する後処理装置ＥＱＵである。ガラス基板を搬送する回転ローラＲＬによる搬送路と、受入れたガラス基板を搬送路に引き渡す導入部１と、搬送路からガラス基板ＧＬを受取って取り出す導出部５とを備えて構成される。導入部１は、ガラス基板を保持する載置部１０と、載置部１０を起立及び降下させる駆動部２０とを有し、駆動部２０の往復運動に対応して、載置部１０が降下状態と起立状態とに切り換る。 （もっと読む）

【課題】 ガラス基板の表面に微細な傷等の凹部がある場合、ガラス基板の表面をより一層平坦化する。
【解決手段】 エッチング液として、ガラス基板に対するエッチングレートが０．０１μｍ／分以上で５μｍ／分未満と比較的遅い第１のエッチング液と、ガラス基板に対するエッチングレートが５μｍ／分以上で１５μｍ／分以下と比較的速い第２のエッチング液とを用意する。そして、ガラス基板に対して、まずエッチングレートの遅い第１のエッチング液を用いてエッチングを行うと、エッチングの進行が遅いため、ガラス基板の表面の凹部が特にガラス基板の厚さ方向に成長するのを抑制しながら、ガラス基板の表面層と共に凹部を除去することができ、次いでエッチングレートの速い第２のエッチング液を用いてエッチングを行うと、ガラス基板の表面をより一層平坦化することができる。 （もっと読む）

【課題】エッチング処理された内周端面上にポリシラザン化合物を用いて被膜が形成された磁気ディスク用ガラス基板の発塵性を低減する。
【解決手段】中央に円孔を有する円板状ガラス板の内周端面をエッチング処理しそのエッチング処理された内周端面にポリシラザン化合物を塗布し、焼成して前記内周端面に被膜を形成する工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法であって、被膜が形成された内周端面の表面の算術平均粗さＲａを０．５μｍ以下とする磁気ディスク用ガラス基板の製造方法。前記製造方法によって製造された磁気ディスク用ガラス基板の上に記録層となるべき磁性層を含む複数の層が積層されている磁気ディスク。 （もっと読む）

【課題】側面および底面に欠陥がなく、信頼性の高い薄膜状の表示装置用基板を低コストで製造する方法を提供する。
【解決手段】表面に複数の表示素子が区画形成されたマザー基板を、各区画毎に分離して個々の表示装置用基板にするにあたって、マザー基板表面の分離位置に溝部を形成した後、この溝部と連通するまでマザー基板裏面をウエットエッチングすることにより、表示装置用基板を薄膜化すると共に分離するようにした。 （もっと読む）

【課題】 互いに貼り合わされた２枚のガラス基板の厚さを薄くするためのエッチングの終了時点を決定するためのパラメータ数を少なくする。
【解決手段】 エッチング速度がエッチング槽１２内のエッチング液１３の温度及び濃度に応じて一意的に決定されることに着目し、エッチング槽１２内のエッチング液１３の温度及び濃度を一定に維持して、互いに貼り合わされた２枚のガラス基板１、２のエッチング厚さをエッチング時間で管理すると、パラメータはエッチング時間のみであり、互いに貼り合わされた２枚のガラス基板の厚さを薄くするためのエッチングの終了時点を決定するためのパラメータ数を少なくすることができる。 （もっと読む）

【課題】 反応副産物が吸着されることを防止し、全体的に薄くて均一な厚さを有するガラス基板を容易に製造することができる薄板化装置を提供する。
【解決手段】
本発明のガラス基板の薄板化装置は、長さ方向に形成される複数個の第１噴射口を有する第１チューブと、その内部に前記第１チューブを収容しながら前記第１噴射口の長さ方向と同一の方向にその一側または両側に連続的に形成される第２噴射口を有する第２チューブと、を含むケミカル噴射部を含む。また、前記ガラス基板の薄板化装置は前記ケミカル噴射部と連結される連結チューブと、前記連結チューブの端部に位置する加圧バンプと、を含むケミカル提供部、及び前記ケミカル提供部と連結されその底部にケミカルを収容するケミカル収容部と、その上部に四方を取り囲みながら前記ケミカル噴射部を位置させるフェンスと、を含む槽を備える。 （もっと読む）

【課題】高品質のフラットパネルディスプレイ用ガラス基板を高い歩留り率で製造できる製造方法を提供する。
【解決手段】フラットパネルディスプレイ用のガラス基板を、フッ酸を含有する水溶液で化学研磨する研磨工程（ＳＴ２）と、研磨工程で化学研磨された後のガラス基板のうち、最大直径が５０μｍ〜２０００μｍの凹部傷の有無を検査して、凹部傷を有する不良なガラス基板を抽出する検査工程（ＳＴ３）と、検査工程で抽出された不良なガラス基板について、凹部傷に第一塗布剤を塗布する第一塗布工程（ＳＴ１１）と、第一塗布工程を終えたガラス基板について、凹部傷から溢れ出るまで第二塗布剤を塗布する第二塗布工程（ＳＴ１２）と、塗布された第二塗布剤を硬化させる硬化工程（ＳＴ１４）と、硬化工程の後、凹部傷から隆起している第二塗布剤のみを除去して平坦化する平坦化工程（ＳＴ１６）とを備える。 （もっと読む）

【課題】簡便な方法で多品種少量品や比較的幅の広い又は複雑な突起形状を高精度に形成することができ、圧子加工面の微小な凹凸の影響を受けずにガラス基材表面や薄膜表面に凸部を形成すること。
【解決手段】ガラス基材１に外力を印加して圧縮応力部２を形成し、エッチング液による化学的エッチング処理を行ってガラス基材表面１ａに凸部３を形成する方法であって、圧縮応力部の形成が、加工工具４をガラス基材に対して第１の方向（Ｘ方向）に繰り返し掃引し、且つ、加工工具の掃引位置を、第１の方向と直交する第２の方向（Ｙ方向）に隣接して形成される圧縮応力部の一部が重なるように制御して行う、表面に凸部を有するガラス基材の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】目詰まりを起こしにくく、ガラス基板に供給される気泡に位置的なバラツキがなく、高品質の化学研磨を実現する化学研磨装置を提供する。
【解決手段】フッ酸を含有する研磨液を閉鎖状態で保有する化学研磨槽と、直径０．３ｍｍ〜２ｍｍ程度の気泡開口ＨＯを所定の間隔で上向きに設けた複数列の中空パイプ２と、複数列の中空パイプ２に空気を連続的に供給して化学研磨槽に気泡を発生させる給気ポンプと、複数列の中空パイプ２の上部で、所定の拡散空間を隔てて複数のガラス基板を垂直姿勢で保持するバスケットとを備える。バスケット単位で実行される化学研磨処理を複数回繰り返した後、沈殿空間に沈殿する反応生成物を排出口から排出する。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板の縦穴をフッ酸含有溶液によって選択的にエッチングできる態様とし、縦穴の内壁面の平均表面粗さを２０μｍ以下とすること。また、ガラス基板に微小な縦穴を効率的に形成するとともに、縦穴の内壁面の平均表面粗さが小さいガラス基板を簡易に作製方法を提供する。
【解決手段】板厚方向に縦穴を有するガラス基板において、少なくともガラス基板の一方の表面に耐フッ酸性酸化物被膜を備え、且つ前記縦穴の内壁面の平均表面粗さ（Ｒａ）が２０μｍ以下とする。また、ガラス基板の板厚方向に縦穴を形成する方法において、ガラス基板の表面上に耐フッ酸性酸化物被膜を形成した後、縦穴となる部位を開口部とする耐サンドブラスト性を有するレジストパターンを形成し、サンドブラスト法を用いて、前記開口部を通して前記ガラス基板に縦穴を形成し、フッ酸含有溶液を用いて、前記縦穴の内壁面をエッチングする。 （もっと読む）

【課題】研磨の難しい小径の内孔を有するガラス基板であっても、パーティクルの発生を防止し、基板強度を向上させることのできる磁気記録媒体用ガラス基板および磁気ディスクを提供する。
【解決手段】内孔２を有する円盤状の磁気ディスク用ガラス基板１において、内周端面１２は面取部１２ｂを形成した上で化学処理を行い、外周端面１１は面取部１１ｂを形成した上で化学処理および鏡面研磨処理を行っている。これによりパーティクルが極めて少ないガラス基板、および凸部の極めて少ない磁気ディスクを得ることができる。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、微細で均一な深溝を形成する無機材料の加工方法及び加工装置を提供することである。
【解決手段】 （Ａ）パルスレーザー光をパルス毎の照射範囲の一部が重なりあうように照射することで無機材料基板に連続する亀裂を生じさせるとともに該亀裂の周辺部に変質領域を形成させる工程、及び（Ｂ）該変質領域をエッチング処理する工程を含む無機材料の加工方法である。 （もっと読む）

【課題】 均一な突起高さを有する表面凸部を非晶質材料の所望位置に形成することができるようにする非晶質材料の加工方法を提案する。
【解決手段】 非晶質材料の硬度よりも大きな硬度を有する微粒子を、前記非晶質材料の表面に部分的に衝突させて、高密度化された圧縮層を形成し、次いで該圧縮層と該圧縮層以外の非圧縮層とで除去能力の異なる処理剤を使用して前記非晶質材料の表層面を除去し、前記圧縮層を凸形状に加工することを特徴とする非晶質材料の加工方法である。 （もっと読む）

【課題】 ガラス板の破損や割れが防止され、研磨量が制限されることのないガラス表面研磨方法の提供。
【解決手段】 複数の液晶セルを備える貼り合わされたガラス板１ａ、１ｂを載置板２に接置し、ガラス板１ａ、１ｂの端面をマスキングテープ４で被覆する工程と、研磨液貯留槽に載置板２を設置することによりガラス板１ａの上面を研磨する工程と、ガラス板１ａの上面を洗浄する工程と、マスキングテープ４を除去する工程と、を順次行なう研磨方法。この方法は、載置板２をほぼ水平状態に維持したまま行なわれ、途中の研磨と洗浄からなる研磨・洗浄は、複数回繰り返し行なわれることが好適である。 （もっと読む）

【課題】ブラスト法とエッチング法とを組合せてディスプレイパネルの隔壁を効率良く形成する。
【解決手段】パネル１の表面全面にわたって所定の厚さのエッチング用被膜２を設ける工程と、エッチング用被膜２の設けられた上面側に所定の厚さを有する感光性被膜３’を設けるとともに、この上面側に隔壁パターン５１、５５の形成されたマスターシート５を設置して感光性被膜３’を露光させて隔壁パターンの転写されたブラスト用マスキング被膜３を形成させる工程と、ブラスト用マスキング被膜３の上面側から所定のブラスト加工を施して所定の深さのキャビティ１１を形成させる工程と、所定の深さのキャビティ１１を有する半製品状態のものを所定のエッチング液４の満たされた槽４４内に浸してキャビティ１１の内面側をエッチング処理する工程と、エッチング用被膜２及びブラスト用マスキング被膜３の除去、並びにパネル１全体を乾燥させる工程と、からなる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、個々の基板のエッチング量を容易に把握することができる基板処理方法及びこれを用いた液晶表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明では、所定の薬剤を用いて基板をエッチングすることで、前記基板の板厚を薄くする基板処理方法であって、前記基板の被エッチング面に所定の凹部を形成する工程と、前記凹部の所定の箇所について、エッチング前後の寸法を計測する工程と、計測したエッチング前後の前記寸法に基づいて、前記基板のエッチング量を求める工程とを備える。 （もっと読む）