【目的】
多段構造の貫通孔が形成されたガラス基板を製造する。
【構成】
ガラス基板の一方の側から、所定の細い孔径を有する孔を所定深さまで形成し、次に、前記ガラス基板の他方の側から、前記細い孔径を有する孔の中心軸と同様の中心軸を有する所定の太い孔径を有する孔を、前記細い孔径を有する孔の底部まで形成して貫通させて、多段構造の貫通孔が形成されたガラス基板を製造する （もっと読む）

【課題】板ガラス基体をできるだけ高いエッチング速度で、構造の深さが大きく、構造の寸法がより小さい高品質構造に微細構造化する方法を提供する。
【解決手段】ａ）板ガラス基体の基体面に、構造化されたマスク層を少なくとも一層被覆する工程と、ｂ）化学エッチングガスを希ガス少なくとも１種と、希ガス少なくとも１種に対する化学エッチングの混合比を２：１〜６：１として混合して、エッチングガス混合物を生成する工程と、ｃ）化学反応性イオンエッチング処理を、上記構造化マスク層少なくとも一層を被覆した基体面がエッチングガス混合物に曝されるようにして行う工程と含んで成り、イオンエッチング処理で生じるスパッターエッチングの割合が、エッチングガス混合物に希ガス少なくとも１種が存在することで著しく増大するが、エッチングガス混合物の大半が化学エッチングガスから成るようにした方法。 （もっと読む）

半導体を製造する工程で使用するシリカガラス治具において、その表面の一部又は全部に中心線平均粗さＲａで０．１〜２０μｍの凹凸が存在し、かつ軽微な表層エッチング処理に対しても表面状態の変化が小さいことを特徴とするシリカガラス治具であって、使用時に半導体素子を汚染するパーティクルの発生がなく、しかも使用を重ねても処理条件の変動の少ない。また、本発明のシリカガラス治具は、シリカガラスの表面に物理的表層除去手段と化学的表層除去手段による処理を交互に２回以上繰り返し適用すことで容易に製造できる。
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【課題】 情報記録媒体用のガラス基板の端面は、従来は研削・研磨によって行っていたが、これを容易に加工できる、小径化に適した加工方法を提供する。
【解決手段】 多数の基板１を積層し、基板１間を仮着剤で仮着した積層品とする。その積層品を、その内径部を保持軸で貫通して保持する。その積層品を保持軸を中心にして回転させながら、その側面に、フッ化水素酸を主成分とする溶解剤５をシャワー状に噴射する。その結果、基板１の端面が溶解剤５によって溶解され、面取り加工された状態になる。 （もっと読む）

【課題】 簡易なプロセスによりガラス基材に微小針を作製する。
【解決手段】 ガラス基材１に、圧力を局所的に印加すること、または圧力と熱とを局所的に印加した後冷却することにより、ガラス基材１の表面及びその近傍に、使用するエッチング液に対するエッチングレートが他の部分と異なる圧縮応力部４を形成し、該圧縮応力部４を形成したガラス基材１に対し、非圧縮応力部のエッチング量に対する圧縮応力部４の残存量の割合であるエッチング選択比が第１の所定範囲にあるエッチング液による化学的エッチング処理を行う第１のエッチング工程と、エッチング選択比が第１の所定範囲とは異なる第２の所定範囲にあるエッチング液による化学的エッチング処理を行う第２のエッチング工程とにより、ガラス基材１の表面に微小針を形成する。 （もっと読む）

【課題】 耐熱性・耐薬品性を改善し、被検体の溶液として有機溶剤が使用できるようにする。
【解決手段】 ガラス基板１０の表面及びその近傍に、圧力印加によって、使用するエッチング液に対するエッチングレートが他の部分と異なる線状もしくは枠状の領域を設け、次いでこのガラス基板を前記エッチング液により化学的エッチング処理して、ガラス基板の表面に堤防状の凸部１６によるスペーサを一体的に形成するスペーサ一体型ガラス基板の製造方法である。 （もっと読む）

複合材物品は、陥没様相部用材料及び突出様相部用材料を含む第１の組成物を有する支持層（１６）と、支持層に結合されるとともに支持層（１６）の表面から突出している複数の離間した微小規模の鋭尖表面構造物（１８）とを備える。ナノ構造化した構造物の少なくとも先端は、基本的に、突出様相部用材料より構成される。鋭尖表面構造物を被覆して、表面超疎水性の材を製造しうる。
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【課題】ミラーやプリズムの材料である石英ガラスや波長変換素子などの材料である非線形光学結晶などの光学材料の表面加工工程において、安価で容易な無歪み表面加工装置およびこれを用いた表面加工技術を提供する。
【解決手段】超平滑に加工された面に網目状の溝を設けた円盤４を高速で回転させて、その回転面上に光学基板２を載せて多孔性スポンジ３で反応性溶液を微滴状に供給し、光学基板に対する垂直方向のエッチング速度を制御することで表面を化学反応だけで処理し、無歪みの光学的鏡面を得る。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、ウェットエッチングの際にエッチングマスク膜が除去されたり破れたりするのを防止して、十分に等方性エッチングを進行させることのできる、マイクロレンズ用凹部付き基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明は、基板（１０）表面にエッチングマスク膜（１２、１４）を形成する工程と、各凹部が形成される領域にレーザを照射して、該領域に貫通孔（１６）を形成するとともに、エッチングマスク膜（１２、１４）全体を加熱により変質させる工程と、貫通孔（１６）によって露出された基板（１０）の表面にエッチング液を接触させることによって、基板表面に凹部（２０）を形成する工程と、を含むことを特徴とするマイクロレンズ用凹部付き基板（Ｓ）の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、視野角が広く高性能なマイクロレンズの鋳型となるマイクロレンズ用凹部付き基板を、安価かつ少ない工程で形成することができる、マイクロレンズ用凹部つき基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 本発明は、基板表面に複数のエッチングマスク膜を積層形成する工程であって、前記各エッチングマスク膜を、隣接する基板側のエッチングマスク膜よりもレーザ加工されやすい材料で形成する工程と、各凹部が形成される領域の中央部にレーザを照射して上記複数のエッチングマスク膜に貫通孔を形成する工程であって、各エッチングマスク膜の貫通孔を、隣接する基板側の前記エッチングマスク膜の貫通孔よりも大きく形成する工程と、を特徴とする方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】 研磨後の表面の平坦性が高いガラス板表面の研磨方法、並びに、平坦性の高いフラットパネルディスプレイ用ガラス基板およびフラットパネルディスプレイの提供。
【解決手段】 パッドとガラス基板の間にフッ化水素水溶液またはフッ化水素ガスを介在させてガラス板表面を溶解研磨する。この研磨後のガラス基板は、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板として使用することができ、このガラス基板を使用してフラットパネルディスプレイを製造することができる。 （もっと読む）

【課題】 ガラス板表面に存在するうねりや傷を除去した後、研磨液中に存在するスラッジがガラス板表面に付着することを抑制した化学研磨を行うガラス板表面の研磨方法、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板、及び、フラットパネルディスプレイの提供。
【解決手段】 ガラス板表面の研磨方法は、ガラス板表面を機械的に研磨した後、ガラス板表面に連続的に流動している研磨液を接触させて更にガラス板表面を研磨することによって行われる。この方法においてガラス板表面に研磨液を接触させるには、気体と混合した研磨液が噴射されている研磨液中にガラス板を浸漬するか、又は、研磨液を直接ガラス板に吹き付けることが好適である。フラットパネルディスプレイ用ガラス基板は、前記研磨方法によって研磨したガラス基板である。フラットパネルディスプレイは、前記ガラス基板を使用したディスプレイである。 （もっと読む）

【課題】審美性の高い装飾品、時計、電子機器および装飾品の製造方法を提供すること。
【解決手段】カバーガラス１は、全体または一部が実質的に透明な第１の板状体２と、第１の板状体２の下面２１に形成された溝３１と、溝３１内に着色剤を入れて着色をした着色部３２とで構成された第１の装飾部３と、第１の板状体２の下面２１側に接合され、全体または一部が実質的に透明な第２の板状体４と、第２の板状体４の下面４１に装飾を施してなる第２の装飾部５とを備え、第１の装飾部３と第２の装飾部５とは、第１の板状体２の上面２２側から視認される。 （もっと読む）

感光牲ガラス基板に多数個の一様かつ微細な径の貫通孔を形成する。 基板状の感光性ガラス１に紫外光４を照射して潜像２を形成し、熱処理を行なうことにより潜像部分を結晶化させ、結晶化した部分をエッチング除去して貫通孔５を形成し、次いで、感光性ガラス１の表裏面をＡＡ’及びＢＢ’まで除去することによって貫通孔の孔径の長さ方向における均一性を許容範囲にする。
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一様かつ微細な径の貫通孔を有するガラス部品を得る。 感光性ガラス１００の貫通孔を形成する部分に集光光束２１を照射して潜像を形成し、この感光性ガラスを熱処理して潜像が形成された部分を結晶化させ、この結晶化した部分を溶解除去することにより貫通孔を形成することによって、貫通孔の直径が該貫通孔の部位によらず略一定で、該貫通孔の長さ（Ｌ）と該貫通孔の直径（ｄ）との比率（Ｌ／ｄ）が１５以上であり、かつ該直径（ｄ）が３０μｍ以下である貫通孔を有するガラス部品を得る。 （もっと読む）

プラズマ処理装置に有用な部品を表面仕上げする方法が提供される。本部品は、少なくとも１つのプラズマに曝される石英ガラス面を含む。本方法は、所望の表面形態を実現するために、前記プラズマに曝される面を機械研磨すること、化学エッチングすること及び洗浄することを含む。それらの方法により、前記部品の石英ガラス密封面も仕上げることができる。同一の部品のプラズマに曝される面及び密封面は、互いに異なる表面形態に仕上げられうる。
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