【課題】ガラス基板やプラスチック基板上に薄膜を低温で大面積で形成できるなどの有用性も期待できる、低い仕事関数を持ちながら導電性を有し、かつ非晶質である酸化物材料を提供する。
【解決手段】Ｃ１２Ａ７系酸化物の組成を有し、電子濃度２×１０¹⁸／ｃｍ³以上２．３×１０²¹／ｃｍ³以下を包接する、Ｃ１２Ａ７系酸化物を溶媒とし電子を溶質とする溶媒和からなる融液であり、金属的な電気伝導性を示す導電性酸化物融液、あるいは非晶質固体物質であり、また半導体的な電気伝導性を示す導電性酸化物ガラス。このガラス材料は、仕事関数が３．０〜４．１ｅＶであり、上記融液を酸素分圧１Ｐａ以下の還元雰囲気中で非晶質の固体が形成される冷却速度で冷却凝固することにより得られる。 （もっと読む）

【解決手段】ＥＵＶ光の反射面において、反射面の中心に位置する原点（Ｏ）及び複屈折測定点（Ａ）を結ぶ直線と、測定点（Ａ）における複屈折の進相軸とによりなす角度（θ）の平均値が４５°より大きいチタニアドープ石英ガラス。
【効果】複屈折の進相軸が同心円状に分布しており、高い平坦性を有し、ＥＵＶリソグラフィ用、特にＥＵＶリソグラフィフォトマスク用として有用なチタニアドープ石英ガラスを提供することができる。 （もっと読む）

【課題】歪除去及び純化を効果的に行うことのできる合成シリカガラス体の熱処理方法を提供し、紫外線、特にＡｒＦエキシマレーザー光の照射に対して長期間、優れた光透過性を示す合成シリカガラス製光学部材の製造方法を提供する。
【解決手段】被処理物である合成シリカガラス体５０の歪除去及び純化を行う熱処理方法であって、前記被処理物の外表面の全てをＡｌ濃度１０ｐｐｍ〜３０ｐｐｍ、且つＮａ濃度５０ｐｐｂ未満のＳｉＯ_２質粉体２０によって接触状態で被覆し、９００℃〜１３００℃の温度範囲で３０分〜８００時間の熱処理を行うようにした。 （もっと読む）

【課題】ＥＵＶＬ実施時において、光学部材全体の線熱膨張係数がほぼゼロとなるＥＵＶＬ光学部材用基材の提供。
【解決手段】ＴｉＯ₂を含有するシリカガラスからなり、対向する２つの面における、線熱膨張係数（ＣＴＥ）が０ｐｐｂ／℃となる温度（クロスオーバー温度：Ｃｒｏｓｓ−ｏｖｅｒ Ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ；ＣＯＴ）の差が５℃以上である、ＥＵＶリソグラフィ光学部材用基材。 （もっと読む）

【課題】ドーパント濃度分布が小さい金属ドーパント含有多孔質石英ガラス体の製造方法の提供。
【解決手段】複数のガス供給ノズルが同心円状に配置された多重管バーナーの中央ノズルから、金属ドーパント前駆体、および、ＳｉＯ₂前駆体と、を供給し、該多重管バーナーの酸水素火炎中で加水分解してガラス微粒子を生成し、生成したガラス微粒子を基材に堆積、成長させて多孔質石英ガラス体を製造する方法であって、前記多重管バーナーは、前記基材のガラス微粒子堆積面に相当する位置における火炎温度の最高点Ｔ₁（℃）が該多重管バーナーの中心軸の延長線上にはなく、前記基材のガラス微粒子堆積面に相当する位置において、該火炎温度の最高点Ｔ₁（℃）となる部位（基端）と該多重管バーナーの中心軸の延長線（先端）とを結ぶ仮想線を引いた場合に、該仮想線の先端方向の延長線上における火炎温度の最高点をＴ₂（℃）とするとき、Ｔ₁−Ｔ₂≧３０℃であり、前記基材の回転軸と、前記多重管バーナーの中心軸と、が一致しないように前記多重管バーナーを配置し、製造される多孔質石英ガラス体におけるドーパント濃度分布に応じて、前記回転軸からの前記Ｔ₁となる部位までの距離と、前記回転軸からの前記Ｔ₂となる部位までの距離と、の大小関係を調整することを特徴とする多孔質石英ガラス体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】希土類元素を高濃度で添加するのに適し、簡易かつ低コストである希土類元素添加光ファイバ母材の製造方法を提供すること。
【解決手段】気相合成法により、アルミニウムを添加したシリカ系ガラス微粒子堆積体であって、径方向のかさ密度が中心部よりも表面の方が小さい多孔質母材を合成する合成工程と、前記合成した多孔質母材の表面からかさ密が所定値より低い低密度部分を所定量除去する除去工程と、前記低密度部分を除去した多孔質母材に溶液含浸法により希土類元素を添加する含浸工程と、前記希土類元素を添加した多孔質母材を乾燥する乾燥工程と、前記乾燥した多孔質母材を脱水・焼結する脱水・焼結工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】複数のガラス体を融着させることにより大質量ガラス体を作製することを可能とするＥＵＶリソグラフィ用ガラスの成型方法の提供。
【解決手段】２以上のガラス体を１０Ｔｏｒｒ以下の雰囲気で徐冷点〜軟化点のいずれかの温度に昇温し融着した後、１００Ｔｏｒｒを越える雰囲気で軟化点〜軟化点＋２５０℃にて成型することを特徴とするＥＵＶリソグラフィ用ガラスの成型方法。 （もっと読む）

【課題】コアの屈折率プロファイルを制限することなくフォトダークニングを効果的に抑制したＹｂ添加光ファイバ及び該ファイバを用いたファイバレーザの提供。
【解決手段】コアとそれを囲むクラッドとを有し、コアに少なくともＹｂとＡｌとが添加されたＹｂ添加光ファイバを用意し、該Ｙｂ添加光ファイバにガンマ線、Ｘ線、電子線のいずれかを照射する第１の工程と、次いで、該Ｙｂ添加光ファイバを水素を含む雰囲気中で水素添加処理し、フォトダークニングを抑制したＹｂ添加光ファイバを得る第２の工程と、を有することを特徴とするフォトダークニングを抑制したＹｂ添加光ファイバの製造方法。この製造方法により得られたフォトダークニングを抑制したＹｂ添加光ファイバ。該ファイバを用いたファイバレーザ。 （もっと読む）

【課題】紫外発光ダイオード（LED）による波長365nm以上の紫外線で励起した場合にも高輝度な赤色蛍光を呈し、しかも耐久性に優れた新規な蛍光ガラスを提供する。
【解決手段】下記（１）〜（３）の条件を満足する、紫外線による励起によって赤色発光する蛍光ガラス：
（１）SiO₂を85mol％以上、Euを0.02〜0.8mol％、並びにY,Gd及びLaからなる群から選ば
れた少なくとも一種の元素を0.4〜2mol％含有すること、
（２）Y,Gd及びLaからなる群から選ばれた少なくとも一種の元素の含有量がEuの含有量より多いこと、
（３）多孔質ガラスを焼成して得られるガラスであること。 （もっと読む）

【課題】 少なくとも約５０ｃｍ²の開口領域にわたり、約５ｐｐｍ以下の屈折率の均一性を有する溶融シリカガラス。溶融シリカガラスはまた、実質的にハロゲンを含まず、約１６０ｎｍ未満の吸収端を有する。
【解決手段】 ガラスを固結させる前に、シリカスートブランクを一酸化炭素に曝露することによってガラスを乾燥させ、Ｈが軽水素（¹₁Ｈ）である水酸基（すなわち、ＯＨ）、および、Ｄが重水素（²₁Ｈ）である重水酸基（ＯＤ）の混合濃度が、１つの実施の形態では約２０重量ｐｐｍ未満、別の実施の形態では５重量ｐｐｍ未満、第３の実施の形態では約１重量ｐｐｍ未満にまで低減させる。 （もっと読む）

【解決手段】波長３６５ｎｍの紫外線に対する内部透過率分布が１０％以下であることを特徴とするナノインプリントモールド用チタニアドープ石英ガラス。
【効果】本発明によれば、微細パターン転写時のモールドの透過率分布による樹脂の硬化の程度に差異を生じにくい、ナノインプリントモールドに好適なチタニアドープ石英ガラスを提供することができる。 （もっと読む）

【課題】超紫外光リソグラフィにおけるマスクまたはミラー材等の光学用部材として好適に使用することができる、実質的に無気泡の透明なチタニア−シリカガラスを効率的に製造する方法を提供する。
【解決手段】ＶＡＤ法で作製したチタニア１〜１０重量％を含むチタニア−シリカ多孔体を、加熱処理してチタニア−シリカ仮焼体とし、前記チタニア−シリカ仮焼体を、カーボン製型を用いて、真空雰囲気下、１６００〜１８００℃、０．１〜１ＭＰａで透明化処理を行うことにより、チタニア−シリカガラスを製造する。 （もっと読む）

【課題】超紫外線リソグラフィー素子を製造するのに適した低膨張シリカ−チタニアガラスにおいて、脈理の発生を抑える。
【解決手段】５〜１２質量％の範囲のチタニア含有量を有し、０．００１から１質量％の範囲の含有量を持つ粘度低減ドーパントを含むチタニア含有シリカガラスを有してなる。超紫外線リソグラフィーに適した光学素子であって、５〜１０質量％の範囲のチタニア含有量、０．００１から１質量％の範囲の含有量を持つ粘度低減ドーパント、研磨され整形された表面、および５〜３５℃の温度範囲において０±３ｐｐｂ／℃の熱膨張係数を有するチタニア含有シリカガラスから構成された光学素子も提供される。 （もっと読む）

本発明は、脈理の減少した低膨張ガラスであって、その厚さに亘り０．１質量％以下のチタニア含有量の２地点間の変動および５〜３５℃の温度範囲に亘り０±３ｐｐｂ／℃のＣＴＥを有するガラスに関する。本発明はさらに、プロセスに用いられる振動パターンの繰返し時間が１０分以下である方法を使用することによって、前記低膨張ガラスを製造する方法に関する。その上、本発明の低膨張ガラスは、ガラスを１６００℃より高い温度で４８〜１６０時間の範囲の期間に亘り熱処理することによってさらに減少した脈理を有することができる。本発明は、極紫外線リソグラフィーに適した光学素子であって、５〜１０質量％の範囲のチタニア含有量、研磨された造形表面、１０ｎｍ未満の山から谷の粗さ、ガラスの垂直厚さを通して測定された±０．１質量％未満のチタニア含有量の平均変動および５〜３５℃の温度範囲に亘る０±３ｐｐｂ／℃の熱膨張係数を有するチタニア含有シリカガラスから製造された素子にも関する。
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【課題】低密度で高い機械的強度を有し、かつ表面平滑性に優れた石英ガラスの断熱・構造材を提供する。
【解決手段】高純度四塩化珪素を酸素・水素混合炎中で加熱して加水分解させて径が０．１〜０．５μｍのシリカ微粒子からなる嵩比重が０．３×１０³Ｋｇ／ｍ³の多孔質体を得た。この多孔質体を石英ガラス製炉芯管を装着した横型管状炉内にセットし、一酸化炭素ガス及び窒素ガスの混合ガスを流通させ、１１００℃まで昇温させた後、６０℃／時間の昇温速度で１２８０℃まで昇温させ、その温度で１２時間保持し、その後冷却した。得られた焼結体の白色度は９８％以上で均一であり、嵩密度は１．０９×１０³Ｋｇ／ｍ³、４点曲げ強度が平均で５０ＭＰａであった。 （もっと読む）

【課題】 放射線特にＸ線を照射しても、光量減少が少なく、耐放射線に対しての劣化が少ない長期信頼性の高い光学ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】 酸化珪素を主成分として、フッ素ドープ量を１〜９ｐｐｍ、ＯＨ基濃度８００〜１２００ｐｐｍ、遷移金属類、アルカリ土金属類、アルカリ金属をそれぞれ２０ｐｐｍ未満、塩素含有量１ｐｐｍ未満とすることで、放射線照射に対して安定な光学ガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】ＴｉＯ_２を含有するシリカガラスを高温下で加圧成型した時にシリカガラスに発生する泡の防止。
【解決手段】ＴｉＯ_２を含有するシリカガラスを高温下で加圧成型して所望の形状に成型するために使用するグラファイト製成型容器のシリカガラスの成型面側の表面に、平均粒径が０．０１〜１５０μｍであるＳｉＣ粒子を含む懸濁液をＳｉＣ粒子の単位面積当たりの塗布質量が０．００５〜０．２ｇ／ｃｍ^２となるように塗布することにより加圧成型した時の発泡を防止する。 （もっと読む）

【解決手段】本発明のＳＢＳ抑制光ファイバは、石英ガラスからなるコアにＧｅ、Ｐ、Ｆなどの添加剤を単独で、若しくは組み合わせて添加するとともにコアの屈折率分布を階段状にして、この階段状の屈折率分布の隣り合う階段における添加剤の濃度差を所定の濃度差以上にしたり、隣り合う階段における屈折率差を所定の屈折率差以上にすることによりＳＢＳ閾値パワーを上昇させるようにしている。
【効果】本発明のＳＢＳ抑制光ファイバの構成によれば、ＳＢＳ閾値パワーを上昇させることが可能なため、ＳＢＳを抑制することができるとともに零分散波長やモードフィールド径を通常のＳＭＦと同等のパラメータになるようにしたので、伝送路に適用しても接続損失の増大などの不都合が生じることがない。 （もっと読む）

光軸に垂直な平面内に高いＯＨ濃度均一性を有する高純度合成シリカガラス材料およびその製造方法を開示する。ガラスは、高い屈折率均一性を有する。ガラスは、１９３ｎｍにおいて少なくとも９９．６５％／ｃｍの高い内部透過率を有しうる。本方法は、焼結後の均一化工程を必要としない。高い組成均一性、したがって高い屈折率均一性に対する制御因子としては、スートプリフォーム中の高い初期局所スート密度均一性および緩速な焼結、とくに、固結時の恒温処理が挙げられる。
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合成石英ガラス部材は、ＯＨ基濃度が１ｐｐｂ〜１０ｐｐｍであり、Ｓｉに結合しているＦ濃度が０．５ｗｔ％〜３．０ｗｔ％であり、水素分子濃度が１×１０^１６個／ｃｍ^３〜５×１０^１７個／ｃｍ^３である。高い紫外光透過率及び耐紫外線特性を有するとともに、緩和率が小さく、しかも面内分布に優れる。１９０ｎｍ以下の波長領域の紫外線に使用することが好適である。 （もっと読む）