【課題】 ６００℃以下の温度で焼成することができ、焼成時に分相せず、Ａｇ電極との反応による黄変が少なく、高い透過率と低い誘電率を有する誘電体層を得ることが可能なプラズマディスプレイパネル用誘電体材料及びそれを用いて形成された誘電体層を備えてなるプラズマディスプレイパネル用ガラス板を提供することである。
【解決手段】 本発明のプラズマディスプレイパネル用誘電体材料は、Ｂ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系ガラス粉末からなるプラズマディスプレイパネル用誘電体材料であって、該ガラス粉末が、実質的にＰｂＯを含まず、モル百分率で、Ｂ_２Ｏ_３ ２６〜４５％、ＳｉＯ_２ ４２超〜５７％、Ａｌ_２Ｏ_３ １〜８％、Ｎａ_２Ｏ ０〜１０％、Ｋ_２Ｏ １〜１５％、Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ４〜２０％、ＺｎＯ ０〜５％、ＣｕＯ＋ＭｏＯ_３＋ＣｅＯ_２＋ＭｎＯ_２＋ＣｏＯ ０〜６％含有するガラスからなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、耐失透性が高いプリフォーム材をより安価に得られる光学ガラスと、プリフォーム材及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＢ_２Ｏ_３成分を１０．０〜５０．０％、Ｌａ_２Ｏ_３成分を５．０〜３０．０％を含有し、Ｔａ_２Ｏ_５成分の含有量が５．０％以下である。プリフォーム材は、この光学ガラスからなる。また、光学素子は、この光学ガラスを母材とする。 （もっと読む）

【課題】溶融ガラスＭによる耐熱容器１の損傷を効果的に抑制することができるガラスの製造方法を提供すること。
【解決手段】ガラス原料を耐熱容器１に入れて炉内で溶融する溶融工程と、耐熱容器１内の溶融ガラスＭを炉外で撹拌する撹拌工程と、を含むガラスの製造方法において、炉から取り出した耐熱容器１を、この耐熱容器１の外側面を支える支持部材２を介して底部１２を浮かせた状態で載置面３の上方に載置して撹拌工程を行うようにした。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、部分分散比（θｇ，Ｆ）が小さく、且つ可視光に対する透明性が高められた光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、ＳｉＯ_２成分と、Ｔａ_２Ｏ_５成分、Ｎｂ_２Ｏ_５成分、Ｎａ_２Ｏ成分及びＢａＯ成分からなる群から選択される１種以上と、を含有し、部分分散比（θｇ，Ｆ）がアッベ数（ν_ｄ）との間で、ν_ｄ≦２５の範囲において（−０．００１６０×ν_ｄ＋０．６３４６０）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００５６３×ν_ｄ＋０．７５５７３）の関係を満たし、ν_ｄ＞２５の範囲において（−０．００２５０×ν_ｄ＋０．６５７１０）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００３４０×ν_ｄ＋０．７００００）の関係を満たす。 （もっと読む）

【課題】高屈折率で低温軟化性を有し、かつ平均熱膨張係数の小さなガラス組成物、および基板上にそれを具備する部材を提供する。
【解決手段】本発明のガラス組成物は、屈折率（ｎ_ｄ）が１．８８以上２．２０以下、ガラス転移温度（Ｔ_ｇ）が４５０℃以上５１５℃以下、および５０℃から３００℃までの平均熱膨張係数（α_{５０−３００}）が６０×１０^−７／Ｋ以上９０×１０^−７／Ｋ以下であって、Ｂｉ_２Ｏ_３の含有量は酸化物基準のモル％表示で５〜３０％であり、ＺｎＯの含有量は酸化物基準のモル％表記で４〜４０％であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】特に環境保護的観点から望ましい有利な光学特性（ｖ_ｄ／ｎ_ｄ）をもち、同時にＰｂＯ、Ｔｌ_２Ｏ、ＴｅＯ_２、ＣｄＯ、ＴｈＯを用いず、さらに好ましくはＳｉＯ_２及びＬｉＯ_２も必要とせずに低ガラス転移温度が得られる光学ガラスを提供する。
【解決手段】組成を酸化物ベースの重量％で下記の範囲とする。Ｐ_２Ｏ_５；２６〜３５％、Ｂ_２Ｏ_３；１０〜１５％、Ａｌ_２Ｏ_３；５．５〜１０％、ＢａＯ；２５〜３７％、ＳｒＯ；０〜６％、ＣａＯ；８〜１５％、ＺｎＯ；３〜１０％、Ｂｉ_２Ｏ_３；０〜８％、Ｎａ_２Ｏ；０〜２％、Ｋ_２Ｏ；０〜２％、ＷＯ_３；０〜１０％、Ｌａ_２Ｏ_３；０〜２％、Ｎｂ_２Ｏ_５；０〜１％、ＴｉＯ_２；０〜＜１％、アルカリ土類金属酸化物総計≧４０％、アルカリ金属酸化物総計；０〜２％、一般的清澄剤；０〜０．５％ （もっと読む）

【課題】 ＭＥＭＳ（マイクロエレクトロニクスメカニカルシステム）などの製造に好適な、シリコンウエハなどと低温で陽極接合が可能なガラスを提供すること。さらに好ましくは低温かつ低電圧で陽極接合が可能なガラスを提供すること。
【解決手段】 酸化物基準のモル％で０．１％〜２０％のＮａ_２Ｏ、０．１％〜５０％のＰ_２Ｏ_５の各成分を含有する陽極接合用ガラス。より好ましくは酸化物基準のモル％で、３０％〜９０％のＳｉＯ_２、０％〜５０％のＢ_２Ｏ_３、０％〜５０％のＡｌ_２Ｏ_３の各成分を含有する請求項１に記載の陽極接合用ガラス。 （もっと読む）

【課題】加熱される金属素材の表面にスケールが生成されるのを従来よりも抑制できる酸化防止剤を提供する。
【解決手段】軟化点の異なる複数のガラスフリットと、６００℃以下の融点を有する無機化合物とを含有する酸化防止剤。無機化合物は、主として６００℃前後の低温域で軟化する。複数のガラスフリットは、主として６００℃〜１３００℃の温度域で軟化する。そのため、酸化防止剤は、広い温度域で金属素材表面を覆い、金属素材表面が酸化してスケールを生成するのを抑制する。 （もっと読む）

【課題】原料コストや溶融コストを低下できると共に、低温で焼成可能であり、しかも焼成後の表面精度を向上し得る天然大理石様結晶化ガラスの製造方法を創案することにより、安価な天然大理石様結晶化ガラス及び天然大理石様結晶化ガラス物品を得る。
【解決手段】本発明の天然大理石様結晶化ガラスは、組成として、ＳｉＯ_２を４５質量％以上、ＣａＯを７．５質量％以上、ＺｎＯを０．０５質量％以上、ＭｇＯ＋ＳｒＯ＋ＺｒＯ_２を０．１質量％以上含み、主結晶としてβ−ウォラストナイト結晶が析出していることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラスのヤング率が高く、またシリコンと広い温度範囲で熱膨張係数が近似したＣＳＰにて製造される固体撮像装置に特に好適に使用できる固体撮像装置用カバーガラスを提供すること。
【解決手段】質量％で、ＳｉＯ_２ ５６〜６６％、Ａｌ_２Ｏ_３ ９〜２６％、Ｂ_２Ｏ_３ １〜１１％、ＭｇＯ ０〜６％、ＣａＯ ０〜６％、ＺｎＯ ４〜１３％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜４．０％、Ｎａ_２Ｏ ０〜５．０％、Ｋ_２Ｏ ０〜６．０％、ただし、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ １％以上を含有し、３０〜３００℃の範囲における平均熱膨張係数が３０〜３８×１０^−７Ｋ^−１、ヤング率が７８ＧＰａ以上の固体撮像装置用カバーガラスである。 （もっと読む）

【課題】大面積で薄いカバーガラス板の自重変形を低減することができるディスプレイ装置を提供すること。
【解決手段】表示パネル２０と、該表示パネル２０の前方に設置されるカバーガラス板３０とを備えるディスプレイ装置１０において、カバーガラス板３０は、３２インチ以上の対角線長さＬ、１．５ｍｍ以下の厚さ、および、７０ＧＰａ以上のヤング率を有することを特徴とするディスプレイ装置２０を提供する。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）が所望の範囲内にありながらも低いアッベ数（ν_ｄ）を有し、可視光に対する透明性が高く、且つガラスの作製時及び加工時に失透や曇りが生じ難く、研磨加工によるプリフォーム材や光学素子の作製を行い易い光学ガラス、及び光学素子を提供する。
【解決手段】この光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＰ_２Ｏ_５成分を５．０％以上４０．０％以下、Ｎｂ_２Ｏ_５成分を１０．０％以上６０．０％以下含有し、分光透過率が７０％を示す波長（λ_７０）が５００ｎｍ以下であり、５００℃以上１２００℃以下の液相温度を有する。また、光学素子は、この光学ガラスを母材とするものである。 （もっと読む）

【課題】薄膜等が形成されていないにも関わらず、高い透過率を有するディスプレイ基板を提供する。
【解決手段】本発明のディスプレイ基板は、肉厚０．１ｍｍ以上のディスプレイ基板であって、波長４００ｎｍにおいて、基板の両表面をそれぞれ３０μｍ除去したときの透過率と、除去前の透過率との差△Ｔ_４００が、０．５〜５．０％の範囲にあり、ダウンドロー法で成形されてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）が所望の範囲内にありながらも低いアッベ数（ν_ｄ）を有し、可視光に対する透明性が高く、且つ研磨加工やプレス成形を行い易い光学ガラス及び光学素子を提供する。
【解決手段】この光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＰ_２Ｏ_５成分を５．０％以上４０．０％以下、Ｎｂ_２Ｏ_５成分を１０．０％以上６０．０％以下含有し、１００以上４００以下の磨耗度を有する。また、光学素子は、この光学ガラスを母材とするものである。 （もっと読む）

【課題】薄膜等が形成されていないにも関わらず、高い透過率を有するディスプレイ基板を提供する。
【解決手段】無アルカリガラスからなるディスプレイ基板であって、波長４００ｎｍにおいて、基板の両表面をそれぞれ３０μｍ除去したとき（基板肉厚が０．１ｍｍ以上の場合）、或いはそれぞれ肉厚の１／３除去したとき（基板肉厚が０．１ｍｍ未満の場合）の透過率と、除去前の透過率との差△Ｔ_４００が、０．５〜５．０％の範囲にあることを特徴とする。また本発明のディスプレイ基板は、内部とは組成の異なる異質層を表面に有している。異質層は、厚みが１０ｎｍ〜３０μｍであり、またＳｉＯ_２含有量が、基板内部のそれよりも高いことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線遮蔽能力が高く、且つ耐熱性が高い電界放射型装置用ガラス板を提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２３０〜５０％、Ａｌ_２Ｏ_３０〜１０％、Ｂ_２Ｏ_３０〜２０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ（ＭｇＯ、ＣａＯ、及びＳｒＯの合量）０〜２５％、ＢａＯ１５〜３５％、ＺｒＯ_２＋ＴｉＯ_２＋Ｌａ_２Ｏ_３＋Ｎｂ_２Ｏ_５（ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、Ｌａ_２Ｏ_３、及びＮｂ_２Ｏ_５の合量）３〜４０％を含有し、歪点が６５０℃以上、１０ｋｅＶにおけるＸ線吸収係数が１５０ｃｍ^−１以上であることを特徴とする電界放射型装置用ガラス板。 （もっと読む）

【課題】
結晶Ｓｉ太陽電池用の導電性ペーストにおいて、高い集電効率を得られるような無鉛導電性ペースト材料用の低融点ガラス組成物が望まれている。
【解決手段】重量％でＳｉＯ_２を２〜１０、Ｂ_２Ｏ_３を１８〜３０、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜１０、ＺｎＯを０〜２５、ＲＯ（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）を２０〜５０、Ｒ_２Ｏ（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）を１０〜１７含むＳｉＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−ＺｎＯ−ＲＯ−Ｒ_２Ｏ系無鉛低融点ガラスを含むことを特徴とする導電性ペースト材料である。 （もっと読む）

【課題】腐食性ガス等に対する耐久性に優れた導電層（電極）を形成することができる導電性粒子バインダー用のガラスフリットを提供する。
【解決手段】このガラスフリットは、実質的にＰｂおよびＭｎを含まず、酸化物換算で、Ｖ_２Ｏ_５を２０ｍｏｌ％以上８０ｍｏｌ％以下、ＺｎＯを５ｍｏｌ％以上４５ｍｏｌ％以下、ＢａＯを０ｍｏｌ％以上４０ｍｏｌ％以下、Ｓｂ_２Ｏ_３を０ｍｏｌ％以上１５ｍｏｌ％以下、Ｐ_２Ｏ_５を０ｍｏｌ％以上４０ｍｏｌ％以下含有し、５０％粒径Ｄ_５０が０．１μｍ以上５．０μｍ以下である。このガラスフリットを、導電性金属粉末１００質量部に対して０．１質量部以上１０質量部以下の割合で含有し、さらに有機ビヒクルを含有することで導電性ペーストを提供する。 （もっと読む）

【課題】溶融していないガラス粒子と廃液との接触面積を増大させることにより、溶融していないガラス粒子の表面に、廃液から溶媒を除去することにより生成する固形物を、容易に付着させることができるようにしたガラス焼結造粒体及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】廃液の溶媒を除去すると生成する成分を溶融ガラスで固化するために使用されるガラス焼結造粒体であって、軟化点が５００℃以上１２００℃以下の範囲にあるガラスの粉末を焼結して成り、吸水率が１０％以上８０％以下の範囲にあり、圧壊強度が１．０ｋｇｆ／粒以上２０．０ｋｇｆ／粒以下の範囲内にあるガラス焼結造粒体、及び、ガラス粉末、固体粘結剤、液体粘結剤、希硝酸を含有する混練物を３５０℃以上から前記ガラスの軟化点以下の温度範囲内にて焼結する工程を有する方法。 （もっと読む）

【課題】 Ａｓ_２Ｏ_３やＳｂ_２Ｏ_３を清澄剤として使用しなくても、泡品位に優れたＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶化ガラスとその製造方法を提供する。
【解決手段】 Ａｓ_２Ｏ_３、Ｓｂ_２Ｏ_３を実質的に含有しないＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶化ガラスであって、Ｃｌ、ＣｅＯ_２及びＳｎＯ_２の少なくとも１種を含有するとともに、Ｓ含有量がＳＯ_３換算で１０ｐｐｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）