本発明は高温耐性の基部を具えるモジュール型部品に関連しており、当該高温耐性基部は、セラミックキャピラリ膜を導入するための少なくとも１の貫通路、及び金属又はセラミックの底部と少なくとも１のセラミックキャピラリ膜との間に十分な気密と高温耐性の接合部として形成される少なくとも１のポッティングを有する少なくとも１の金属又はセラミック底部を有している。少なくとも１の金属又はセラミック底部の少なくとも１の貫通穴は、金属又はセラミック底部の少なくとも一面上に十分な気密と高温耐性の接合に対応するための拡張部を有している。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、低い温度で軟化し易く、且つプレス成形時におけるガラスの失透や着色が低減された光学ガラスと、これを用いたレンズプリフォーム及び光学素子を得る。
【解決手段】この光学ガラスは、必須成分としてＳｉＯ_２成分、Ｎｂ_２Ｏ_５成分、ＺｒＯ_２成分及びＬｉ_２Ｏ成分を含有し、１．７８以上の屈折率（ｎｄ）と、３０以下のアッベ数（ν_ｄ）と、０．６２０以下の部分分散比（θｇ，Ｆ）と、を有する。また、光学素子は、この光学ガラスを母材とするものである。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、とりわけ、高い破壊靭性と平滑な表面を有する情報記録媒体用基板を低コストで製造する製造方法を提供することにある。
【解決手段】ＳｉＯ_２成分、Ａｌ_２Ｏ_３成分、Ｒ’_２Ｏ成分（ただしＲ’はＬｉ、Ｎａ、Ｋのいずれか１種以上）を含む板状のガラス系材料を準備する工程と、
前記板状ガラス系材料を研削する研削工程と、
前記板状ガラス系材料を研磨する研磨工程を有する情報記録媒体用基板の製造方法であって、前記研磨工程の研磨スラリーのｐＨを１〜５または９〜１３の範囲で研磨する情報記録媒体用基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ビスマス系ガラスと耐火性フィラーを含有するタブレットにおいて、二次焼成工程で排気管を良好に封着可能であるとともに、真空排気工程で再軟化し難いタブレットを創案することにより、ＰＤＰ等の製造効率や輝度特性を高めること。
【解決手段】本発明のタブレットは、ビスマス系ガラスと耐火性フィラーを含有するタブレットにおいて、（１）ビスマス系ガラスが、ガラス組成として、質量％で、Ｂｉ_２Ｏ_３ ７０〜９０％、Ｂ_２Ｏ_３ ２〜１２％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜５％、ＺｎＯ １〜１５％、ＢａＯ ０〜１０％、ＣｕＯ＋Ｆｅ_２Ｏ_３ ０〜８％を含有し、（２）耐火性フィラーとして、アルミナを１〜２５体積％含有し、（３）充填率が７１％以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】所定の高屈折率及び低分散（高アッベ数）を有しながらも、研磨加工を行い易く、且つレンズの色収差をより高精度に補正することができる光学ガラス、光学素子及びプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、Ｐと、アルカリ土類金属元素のうち少なくとも２種以上と、希土類元素のうち１種以上と、をカチオン成分として含有し、Ｏと、Ｆと、をアニオン成分として含有し、１．５０以上１．６５以下の屈折率（ｎｄ）を有し、６０以上７７以下のアッベ数（νｄ）を有する。光学素子は、この光学ガラスからなる。 （もっと読む）

ガラス並びにそのガスを含む、携帯型電子装置のための窓、カバープレート、および基板を含むエンクロージャが開示されている。このガラスは、直接的な衝撃に耐えるのに十分な亀裂発生閾値を有し、ソーダ石灰ガラスとアルカリアルミノケイ酸塩ガラスよりも大きい、磨耗後に維持される強度を有し、引っ掻かれたときの損傷に対して抵抗性である。エンクロージャとしては、携帯型電子装置や情報端末装置のためのカバープレート、窓、スクリーン、およびケーシングが挙げられる。
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【課題】垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、とりわけ、高い破壊靭性と平滑な表面を有する情報記録媒体用基板を低コストで製造する製造方法を提供することにある。
【解決手段】ＳｉＯ_２成分、Ａｌ_２Ｏ_３成分、Ｒ’_２Ｏ成分（ただしＲ’はＬｉ、Ｎａ、Ｋのいずれか１種以上）を含む板状のガラス系材料を準備する工程と、前記板状ガラス系材料を研削する研削工程を含み、前記研削工程は少なくとも前記板状ガラス系材料をダイヤモンドパッドで研削するサブ工程を有する情報記録媒体用基板の製造方法。 （もっと読む）

【課題】従来の光反射材料より高い光反射率を有する光反射材料およびそれを用いた発光デバイスを提供する。
【解決手段】ガラスを含有する無機化合物粉末の焼結体からなる光反射材料であって、Ｔｉを含む酸化物結晶がガラス内部に析出してなることを特徴とする光反射材料。 （もっと読む）

【課題】レーザー光等による局所加熱を適正に実行可能な封着材料を創案することにより、アクティブ素子等の劣化を防止しつつ、有機ＥＬディスプレイ等の気密性および信頼性を高めること。
【解決手段】本発明の耐火性フィラー粉末は、遷移金属酸化物が１質量％以上ドープされていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】従来の粉末焼成プロセスによって作製された光反射基材のように製造プロセスが煩雑ではなく、当該光反射基材より高い光反射率を有し、かつ大面積の光反射基材用途にも対応可能な光反射基材を提供する。
【解決手段】バルク状ガラスを結晶化させてなり、屈折率が１．７以上の析出結晶を含有する結晶化ガラスからなる光反射基材であって、波長４００〜８００ｎｍにおける平均光反射率が９０％以上であることを特徴とする光反射基材。 （もっと読む）

【課題】非常に低いＣａＯ含有量にもかかわらず、アパタイト結晶を有し、これらのアパタイト結晶がさらに、非常に小さく、特に、ナノスケールの範囲内であり、従って、光学特性の観点で自然の歯の材料と非常に類似している、リンケイ酸ガラスセラミックを提供すること。
【解決手段】フルオロアパタイトおよび白榴石結晶を有し、そしてその特性に起因して、歯科用合金上にプレスして歯科用修復物を製造するために特に適切である、本発明のリンケイ酸ガラスセラミックにより上記課題は達成される。 （もっと読む）

【課題】 プリント配線板の製造に用いたときに、そのＣＯ_２レーザー加工性を改善できるガラス繊維、並びに当該ガラス繊維を製造するために用いられるガラス繊維用ガラス組成物を提供すること。
【解決手段】
構成成分の全モル数を基準として、ＳｉＯ_２を５５〜６０モル％、Ａｌ_２Ｏ_３を４〜６モル％、Ｂ_２Ｏ_３を５〜９モル％、ＣａＯを１２〜２０モル％、ＢａＯを３〜８モル％、ＺｎＯを３〜６モル％、Ｎａ_２Ｏを１〜３モル％、Ｌｉ_２Ｏを１〜３モル％、Ｋ_２Ｏを０〜１モル％を含んでおり、Ｎａ_２Ｏ、Ｌｉ_２Ｏ及びＫ_２Ｏの合計モル％が２〜５モル％、Ｎａ_２Ｏ及びＬｉ_２Ｏの合計モル％が２モル％以上である、ガラス繊維用ガラス組成物。 （もっと読む）

【課題】Rガラス組成物を提供する。
【解決手段】SiO₂を59.0〜64.5質量%の量で、Al₂O₃を14.5〜20.5質量%の量で、CaOを11.0〜16.0質量%の量で、MgOを5.5〜11.5質量%の量で、Na₂Oを0.0〜4.0質量%の量で、TiO₂を0.0〜2.0質量%の量で、Fe₂O₃を0.0〜1.0質量%の量で、B₂O₃を0.0〜約3.0質量%の量で含み、K₂O、Fe₂O₃、ZrO₂、およびフッ素の各々が、0.0〜約1.0質量%の量で存在し、さらにSrOおよびZnOの各々が0.0〜約2.0質量%の量で存在する。例示的実施態様において、ガラス組成物は、リチウムまたはホウ素を含有しない。 （もっと読む）

【課題】本発明では、圧縮／復元の繰り返し負荷を受けた後にも、比較的良好な保持力を維持することが可能なマット材を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明では、
ガラス繊維を含むマット材であって、
前記ガラス繊維は、重量比で、５２〜６２ｗｔ％のＳｉＯ_２、９〜１７ｗｔ％のＡｌ_２Ｏ_３、１７〜２７ｗｔ％のＣａＯ、０〜９ｗｔ％のＭｇＯ、０〜４ｗｔ％のＴｉＯ_２、および０〜５ｗｔ％のＺｎＯを含み、Ｂ_２Ｏ_３を実質的に含まず、Ｎａ_２ＯとＫ_２Ｏの総和が０〜２ｗｔ％の範囲にあり、
当該マット材を上部板と下部板の間に設置し、ＧＢＤ＝０．３５ｇ／ｃｍ^３において、前記上部板を昇温速度１５℃／分で昇温すると同時に、前記下部板を昇温速度８．６℃／分で昇温し、前記上部板および前記下部板の温度がそれぞれ、７００℃および４００℃に到達時点で測定したときの最大面圧が１００ｋＰａ以上である、マット材が提供される。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、脈理の少なさと失透の起こり難さとを兼ね備え、径の大きなプリフォーム材を形成することが可能な光学ガラスと、これを用いたプリフォーム材及び光学素子を得る。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＢ_２Ｏ_３成分を５．０〜３５．０％、Ｌａ_２Ｏ_３成分を１５．０〜５０．０％、Ｒｎ_２Ｏ成分（ＲｎはＬｉ、Ｎａ、Ｋからなる群より選択される１種以上）を合計で１０．０％以下、及びＷＯ_３成分を１．０〜１５．０％含有する。 （もっと読む）

【課題】薄いレンズに適したガラスの組成を明らかにするとともに、そのガラスを用いて製造したレンズ（光学部品）を提供する。
【解決手段】光学部品としての凹レンズ１は、重量％表示で、Ｂ₂Ｏ₃を１２〜１６％、Ｌａ₂Ｏ₃を３５〜４４％、ＺｎＯを３〜８％含むガラスでできている。凹レンズ１の中心部の厚さｔ₁は０．５ｍｍ以下であるとともに、中心部の厚さｔ₁に対する外径Ｗの比（Ｗ／ｔ₁）が２４以上である。この凹レンズ１は、プレス成形法によって好適に製造できる。 （もっと読む）

本発明の実施態様は、パーライトおよび／または軽石を含む、顕著な量の１つ以上のガラス状鉱物を含むバッチ組成物から形成される繊維化可能なガラス組成物を提供する。一実施態様において、本発明は、少なくとも５０重量パーセントのガラス状鉱物および少なくとも５重量パーセントのナトリウム源を含むバッチ組成物から形成されるガラス組成物を提供し、該ガラス状鉱物は、少なくとも８０重量パーセントの量のＳｉＯ_２とＡｌ_２Ｏ_３との組み合わせを含む。 （もっと読む）

【課題】広い波長域で十分な光吸収を有して汎用の可視または近赤外レーザ光源設備または高輝度光源等からの光照射で軟化流動し、封着できるガラス材料を提供することを目的とする。
【解決手段】酸化物基準のｍｏｌ％表示で、２７％〜３３％のＰ_２Ｏ_５、５０％〜７０％のＳｎＯ、０〜１０％のＺｎＯ、０．５％〜５％のＣａＯ、０〜５％のＢ_２Ｏ_３、０〜３％のＧａ_２Ｏ_３、０〜３％のＩｎ_２Ｏ_３、および０〜３％のＬａ_２Ｏ_３、を含むことを特徴とするガラス組成物で、鏡面研磨した厚さ２ｍｍの板にしたときに、４００から１６００ｎｍの波長範囲での直線光透過率が１０％以下になる封着用ガラスを提供する。 （もっと読む）

【課題】発色性や電気特性を損なうことなく、低コストでもって良好な耐酸性を有する防曇機能に優れた導電性ペーストを実現する。
【解決手段】Ａｇ粒子と、ガラスフリットと、有機ビヒクルとを含み、前記ガラスフリットが、少なくとも４５モル％〜６０モル％のＳｉＯ_２、５モル％〜２５モル％のＢｉ_２Ｏ_３、１５モル％未満（０モル％を含む。）のＲ_２Ｏ（ＲはＮａ、Ｌｉ、及びＫの中から選択された少なくとも１種を示す。）、及び１モル％〜１５モル％のＦを含有し、軟化点が５００℃以下である。ガラスフリットが、Ｂ_２Ｏ_３、ＺｎＯ、ＣｕＯ及びＭｎＯの中から選択された少なくとも１種の酸化物を２５モル％以下の範囲で含有していてもよい。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板表面に銀電極を形成した場合に生じる黄変を抑制することができ、かつ、ガラス基板上に表示素子を形成する目的で実施される熱処理の際にガラス基板で発生するコンパクションを低減することができるフラットパネルディスプレイ用ガラス基板の提供。
【解決手段】フロート法により成形されるフラットパネルディスプレイ用ガラス基板であって、前記ガラス基板の組成が、酸化物基準の質量百分率表示で実質的に、ＳｉＯ₂ ５０〜７２％、Ａｌ₂Ｏ₃ ０．５〜１５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ ４〜３０％、Ｎａ₂Ｏ ０％超１０％以下、Ｋ₂Ｏ １〜２１％、Ｌｉ₂Ｏ ０〜１％、Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏ＋Ｌｉ₂Ｏ ６〜２５％、ＺｒＯ₂ ０〜１０％、Ｆｅ₂Ｏ₃ ０．０１％以上０．０７２５％未満であり、前記ガラス基板のトップ面から深さ１０μｍまでの表層における平均Ｆｅ²⁺含有量がＦｅ₂Ｏ₃換算で０．０５５％以下であり、熱収縮率Ｃが２５０〜５２０ｐｐｍであり、前記ガラス基板表面に銀ペーストを塗布し、焼成を行った後、前記銀ペーストを除去した後のガラス基板表面における黄色着色ｂ^＊が５以下であることを特徴とするフラットパネルディスプレイ用ガラス基板。 （もっと読む）