【課題】ＣＳＰ等の用途に要求される種々の特性を満足し得る無アルカリガラス、特にＳｉと整合する熱膨張係数を有する無アルカリガラスを提供する。
【解決手段】本発明の無アルカリガラスは、ガラス組成として、ｍｏｌ％で、ＳｉＯ_２ ５０〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ９〜１５％、Ｂ_２Ｏ_３ １１〜２０％、ＣａＯ ８〜１２％を含有し、モル比（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／Ａｌ_２Ｏ_３の値が０．８〜１．２であって、密度が２．３７ｇ／ｃｍ^３以下、１０^２．５ｄＰａ・ｓにおける温度が１６００℃以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高温で磁気記録層を形成できる磁気ディスクの製造方法の提供。
【解決手段】温度が５５０℃以上であるガラス基板の上に磁気記録層を形成する工程を有する磁気ディスクの製造方法であって、ガラス基板がモル百分率表示で、ＳｉＯ_２を６２〜７４％、Ａｌ_２Ｏ_３を６〜１８％、Ｂ_２Ｏ_３を７〜１５％、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯのいずれか１成分以上を合計で８〜２１％含有し、ＳｉＯ_２およびＡｌ_２Ｏ_３の含有量合計が７０％以上、上記７成分の含有量合計が９５％以上であり、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏのいずれか１成分以上を合計で１％未満含有する、もしくはこれら３成分のいずれも含有しないものである磁気ディスクの製造方法。 （もっと読む）

【課題】生産性（特に耐失透性）に優れると共に、フッ酸系薬液に対するエッチングレートが速く、しかも歪点が高い無アルカリガラスを創案することにより、ガラス板の製造コストを低廉化しつつ、薄型のディスプレイパネルの製造工程において、スループットを向上させ、更にｐ−Ｓｉ・ＴＦＴの製造工程におけるガラス板の熱収縮を低減する。
【解決手段】本発明の無アルカリガラスは、ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ５８〜７０％、Ａｌ_２Ｏ_３ １５．５〜２０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜１％、ＭｇＯ ０〜５％、ＣａＯ ３．５〜１６％、ＳｒＯ ０．５〜６．５％、ＢａＯ ５〜１５％を含有し、実質的にアルカリ金属酸化物を含有せず、歪点が７２５℃より高いことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】レーザ封着に好適な封着材料を創案することにより、有機ＥＬディスプレイ等の信頼性を高める。
【解決手段】本発明の封着材料は、ＳｎＯ含有ガラス粉末を含む無機粉末 ９９〜９９．９５質量％と、顔料 ０．０５〜１質量％を含有する封着材料であって、顔料の一次粒子の平均粒径が１〜１００ｎｍであり、且つレーザ封着に用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高記録密度化に対応した情報記録媒体用基板を提供する。
【解決手段】mol％表示にて、SiO₂とAl₂O₃を合計で70〜85％（ただし、SiO₂の含有量が50％以上）、Al₂O₃の含有量が3％以上、Li₂O、Na₂OおよびK₂Oを合計で10％以上、CaOとMgOを合計で1〜6％（ただし、CaOの含有量がMgOの含有量よりも多い）、ZrO₂、HfO₂、Nb₂O₅、Ta₂O₅、La₂O₃、Y₂O₃およびTiO₂を合計で０％を超えて4％以下含み、SiO₂、Al₂O₃、ZrO₂、HfO₂、Nb₂O₅、Ta₂O₅、La₂O₃、Y₂O₃およびTiO₂の合計含有量に対するLi₂O、Na₂OおよびK₂Oの合計含有量のmol比が0.28以下、である、情報記録媒体用基板に供するためのガラスとする。 （もっと読む）

【課題】基板として強酸性液を用いる洗浄を行っても表面荒れが起こりにくい基板に用いられるガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル％表示で、ＳｉＯ_２を６２．５〜６９％、Ａｌ_２Ｏ_３を９〜１５．５％、Ｌｉ_２Ｏを８〜１６％、Ｎａ_２Ｏを０〜８％、Ｋ_２Ｏを０〜７％、ＺｒＯ_２を０〜３．５％含有し、ＳｉＯ_２−Ａｌ_２Ｏ_３が５３．３％以上、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏが１７〜２４％、上記６成分の含有量の合計が９７％以上である基板用ガラス。 （もっと読む）

【課題】優れた耐熱性および優れたイオン交換能を有し、イオン交換による化学強化処理によって高い強度を付与できるガラス組成物を提供する。
【解決手段】質量％で示して、ＳｉＯ_２ ５３〜６２％、Ａｌ_２Ｏ_３ １１〜１７％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜５％、Ｎａ_２Ｏ １０〜１５％、Ｋ_２Ｏ ３〜９％、ＭｇＯ ０〜４％、ＣaＯ ０〜４％、ＳｒＯ ０〜６％、ＢａＯ ０〜５％、ＺｒＯ_２ １〜４％、ＴｉＯ_２ ２〜６％、を含むガラス組成物とする。 （もっと読む）

【課題】回路層上に半導体素子をはんだ材を介して、容易に、かつ、確実に接合することが可能なパワーモジュール用基板、冷却器付パワーモジュール用基板、パワーモジュール及びこのパワーモジュール用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】絶縁層１１の一方の面に、アルミニウム又はアルミニウム合金からなる回路層１２が配設され、この回路層１２上にはんだ層２を介して半導体素子３が配設されるパワーモジュール用基板１０であって、回路層１２の一方の面には、ＺｎＯ含有の無鉛ガラスを含有するＡｇペーストの焼成体からなるＡｇ焼成層３０が形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光反射材料、特に、白色ＬＥＤ用リフレクターとして有用な、可視光全域で高反射率を有し、且つ耐熱性、耐湿性に優れた光反射層を形成できる新規な材料を提供する。
【解決手段】アルミナ、ジルコニア及びマグネシアからなる群から選ばれた少なくとも一種の成分、並びに低融点ガラス粉末を含有することを特徴とする、白色セラミックカラー組成物。 （もっと読む）

【課題】低分散でありながら屈折率が高く、優れたガラス安定性を有し、着色の少ない光学ガラスを提供する。
【解決手段】酸化物ガラスであって、カチオン％表示で、Ｓｉ⁴⁺０〜３０％、Ｂ³⁺１０〜５５％、Ｌｉ⁺、Ｎａ⁺およびＫ⁺を合計で５％未満、Ｍｇ²⁺、Ｃａ²⁺およびＳｒ²⁺を合計で５％未満、Ｂａ²⁺０〜８％、Ｚｎ²⁺０．１〜１５％、Ｌａ³⁺１０〜５０％、Ｇｄ³⁺０〜２０％、Ｙ³⁺０〜１５％、Ｙｂ³⁺０〜１０％、Ｚｒ⁴⁺０〜２０％、Ｔｉ⁴⁺０．１〜２２％、Ｎｂ⁵⁺０〜２０％、Ｔａ⁵⁺０〜８％、Ｗ⁶⁺０〜５％、Ｇｅ⁴⁺０〜８％、Ｂｉ³⁺０〜１０％、Ａｌ³⁺０〜１０％、Ｂ³⁺の含有量に対するＳｉ⁴⁺の含有量のカチオン比Ｓｉ⁴⁺／Ｂ³⁺が１．０未満、酸化物に換算してＮｂ₂Ｏ₅とＴａ₂Ｏ₅の合計含有量が１４質量％未満、屈折率ｎｄが１．９６６〜２．２、アッベ数νｄが２５〜４５であることを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】配線のダメージあるいは真空度劣化を回避し、高信頼性、かつ長寿命の平面型ディスプレイ装置を構成するのに好適な接合用ガラスを提供する。
【解決手段】酸化物換算で、Ｖ₂Ｏ₅：２５〜５０ｗｔ％、ＢａＯ：５〜３０ｗｔ％、ＴｅＯ₂：２０〜４０ｗｔ％、ＷＯ₃：１〜２５ｗｔ％、Ｐ₂Ｏ₅：０〜２０ｗｔ％を含有する。 （もっと読む）

【課題】使用環境の温度変化による結像特性影響を受けにくい、屈折率（ｎｄ）が１．７５以上、かつ、アッベ数（νｄ）が３５以上である、高屈折率低分散光学ガラスを提供する。
【解決手段】ＳｉＯ_２、Ｂ_２Ｏ_３、Ｌａ_２Ｏ_３を必須成分として含有させ、かつ構成成分の比率を調整することにより、−３０〜＋７０℃の平均線膨張係数αと波長５４６．１ｎｍにおける光弾性定数βの乗算α×βが１３０×１０^−１２℃×ｎｍ×ｃｍ^−１×Ｐａ^−１以下を実現する光学ガラスを得る。 （もっと読む）

【課題】ガラスを原料として、可視光応答性と優れた光触媒活性を有し、使用性や耐久性にも優れた光触媒機能性素材を提供する。
【解決手段】 酸化物換算組成の全物質量に対して、モル％で、Ｂｉ_２Ｏ_３成分を５〜９５％の範囲内で含有するガラスセラミックスが提供される。このガラスセラミックスは、Ｂｉ_２Ｏ_３結晶、Ｂｉ_２ＷＯ_６結晶、Ｂｉ_２Ｗ_２Ｏ_９結晶、Ｂｉ_２Ｗ_３Ｏ_１２結晶、Ｂｉ_２ＭｏＯ_６結晶、Ｂｉ_２Ｍｏ_２Ｏ_９結晶、Ｂｉ_２Ｍｏ_３Ｏ_１２結晶、Ｂｉ_２Ｔｉ_２Ｏ_７結晶、Ｂｉ_２Ｔｉ_４Ｏ_１１結晶、Ｂｉ_４Ｔｉ_３Ｏ_１２結晶、Ｂｉ_１２ＴｉＯ_２０結晶、ＢｉＮｂＯ_４結晶、Ｂｉ_２Ｆｅ_４Ｏ_９結晶、ＢｉＶＯ_４結晶、ＬｉＢｉＯ_３結晶、及びこれらの固溶体からなる群より選択される１種以上を含有していてもよい。 （もっと読む）

【課題】より低いアッベ数（ν_ｄ）及びより高い屈折率（ｎ_ｄ）を有しながらも、耐失透性や可視光に対する透明性の高い光学ガラス、精密プレス成形用プリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＰ_２Ｏ_５成分を５．０％以上４０．０％以下、Ｎｂ_２Ｏ_５成分を３０．０％以上７０．０％以下含有し、１．８０以上の屈折率（ｎｄ）を有する。また、精密プレス成形用プリフォーム及び光学素子は、この光学ガラスからなる。 （もっと読む）

【課題】泡の残存数が少ない硼珪酸ガラスを製造し得る方法を提供する。
【解決手段】ガラス原料を溶融することによりガラス融液を得、前記ガラス融液を冷却することにより硼珪酸ガラスを製造する方法において、塩化物と硝酸塩とを含み、Ｂ_２Ｏ_３の含有量が１８質量％以下であるガラス原料を用いる。 （もっと読む）

【課題】（１）環境上好ましくない成分を含有しない、（２）低ガラス転移点を達成しやすい、（３）高屈折率かつ高分散である、（４）可視光透過率に優れるガラスが得られやすい、（５）プリフォーム成形時の耐失透性に優れる、といった要求をすべて満足することが可能な光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率ｎｄが２．０以上、アッベ数νｄが２０以下、ガラス転移点）が４５０℃以下であり、ガラス組成として質量％で、Ｂｉ_２Ｏ_３ ７０〜９０％、Ｂ_２Ｏ_３ ４〜２９．９％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ ０．１％〜１０％、ＳｉＯ_２＋Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜２．５％を含有し、かつ、鉛成分、砒素成分、Ｆ成分、ＴｅＯ_２、ＧｅＯ_２を実質的に含有しないことを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】ガラス原料を熔融し、熔融したガラスを清澄、均質化してから急冷するにおいて、高温に設定された清澄槽から低温に設定された作業槽へと流しても、ガラス中に泡を生じさせないフツリン酸塩光学ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス原料に含まれるFeまたはCuの量をFe₂O₃に換算したFeの含有量とCuOに換算したCuの含有量の合計を20ppm以上とし、得られるフツリン酸塩光学ガラスの透過率特性が、厚さ10mmに換算したときの内部透過率が少なくとも400〜500nmの波長域で98%以上となるように前記FeおよびCuの含有量を管理する。 （もっと読む）

【課題】溶融温度が低く、再溶融により、透明度が極めて高く且つ気泡の発生がほとんどなく、しかも顔料や陶磁器質基材に対して高い接着性を有するガラスが得られるガラスフリットを提供する。
【解決手段】ガラスフリットは、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ホウ素及びアルカリ金属酸化物を主成分とし、且つ酸化カルシウム、酸化ストロンチウム及び酸化マグネシウムからなる群より選択された少なくとも１種の周期表２族金属酸化物を含むガラスフリットであって、酸化ケイ素の含有量が３５〜４９重量％、酸化アルミニウムの含有量が１〜４．５重量％、酸化ホウ素の含有量が２０〜３５重量％、アルカリ金属酸化物、酸化カルシウム、酸化ストロンチウム及び酸化マグネシウムの総含有量が１４〜３０重量％である。 （もっと読む）

【課題】無鉛であることに加え、軟化点が低く、色堅牢性が高いガラスから構成されるカラーマーキングを付したガラスアンプルを提供すること。
【解決手段】頭部の、カットキズ近傍にカラーマーキングを付したガラスアンプルであって、カラーマーキングは、Ａｌ₂Ｏ₃を０．５〜３０重量％、ＺｎＯを３〜２５重量％、ＳｉＯ₂を２０〜４０重量％、Ｂ₂Ｏ₃を３〜１５重量％、Ｎａ₂Ｏを１〜５重量％、Ｌｉ₂Ｏを０．５〜５重量％、ＢａＯを３〜１０重量％、Ｂｉ₂Ｏ₃を１０〜２５重量％、Ｃｏ₂Ｏ₃を３〜２３重量％、ＴｉＯ₂を０．１〜５重量％、Ｋ₂Ｏを０〜３重量％、ＣａＯを０〜３重量％、ＺｒＯ₂を０〜３重量％で、Ｃｒ₂Ｏ₃を０〜３重量％、Ｆｅ₂Ｏ₃を０〜３重量％、ＭｎＯを０〜３重量％、Ｌａ₂Ｏ₃を０〜３重量％、ＳｒＯを０〜３重量％、ＳｎＯ₂を０〜３重量％、ＭｇＯを０〜３重量％の割合で含有する無鉛ガラス組成物を含むことを特徴とするカラーマーキング付きアンプル。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、可視光に対する透過率が高く、且つ耐失透性が高いプリフォーム材を得ることが可能な光学ガラスと、プリフォーム材及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＢ_２Ｏ_３成分を１０．０〜５０．０％及びＬａ_２Ｏ_３成分を５．０〜３０．０％含有し、酸化物換算組成のガラス全物質量に対するモル和（ＴｉＯ_２＋Ｎｂ_２Ｏ_５）が２０．０％未満である。プリフォーム材は、この光学ガラスからなる。また、光学素子は、この光学ガラスを母材とする。 （もっと読む）