【課題】低熱膨張性、優れた耐熱衝撃性、及び優れた難燃性を有すると共に、高温、多湿の環境下においても高い壁間絶縁信頼性を有し、高密度、高多層成形が可能なガラス繊維織布入り絶縁樹脂シートと、これを用いた積層板、多層プリント配線板、及び半導体装置を提供する。
【解決手段】ガラス繊維織布と、絶縁樹脂組成物とからなるガラス繊維織布入り絶縁樹脂シートであって、たて糸中に存在する空隙の個数がたて糸１０万本あたり０．１個以上１０個以下であるガラス繊維織布入り絶縁樹脂シートであること。 （もっと読む）

【課題】歪除去及び純化を効果的に行うことのできる合成シリカガラス体の熱処理方法を提供し、紫外線、特にＡｒＦエキシマレーザー光の照射に対して長期間、優れた光透過性を示す合成シリカガラス製光学部材の製造方法を提供する。
【解決手段】被処理物である合成シリカガラス体５０の歪除去及び純化を行う熱処理方法であって、前記被処理物の外表面の全てをＡｌ濃度１０ｐｐｍ〜３０ｐｐｍ、且つＮａ濃度５０ｐｐｂ未満のＳｉＯ_２質粉体２０によって接触状態で被覆し、９００℃〜１３００℃の温度範囲で３０分〜８００時間の熱処理を行うようにした。 （もっと読む）

【課題】焼成後にガラス膜内に発生する気孔を抑制ないしは防止できるガラス組成物を提供する。
【解決手段】重量平均分子量１０万以上の有機高分子及びガラス粉末を含み、前記有機高分子及びガラス粉末の総重量を１００重量％としたときの有機高分子の含有量が０．０５２〜０．２５重量％であることを特徴とするガラス組成物に係る。 （もっと読む）

【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラス基板とその製造方法を提供する。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２４０〜７１％、Ａｌ_２Ｏ_３３〜２１％、Ｌｉ_２Ｏ０〜３．５％、Ｎａ_２Ｏ７〜２０％、Ｋ_２Ｏ０〜１５％、ＳｎＯ_２０．０１〜３％、Ｓｂ_２Ｏ_３０〜０．１％未満、ＴｉＯ_２０〜０．５％を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
結晶Ｓｉ太陽電池用の導電性ペーストにおいて、高い集電効率を得られるような無鉛導電性ペースト材料用の低融点ガラス組成物が望まれている。
【解決手段】質量％でＳｉＯ_２を１〜１５、Ｂ_２Ｏ_３を１８〜３０、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜１０、ＺｎＯを２５〜４３、ＲＯ（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）を８〜３０、Ｒ_２Ｏ（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）を６〜１７含むＳｉＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−ＺｎＯ−ＲＯ−Ｒ_２Ｏ系無鉛低融点ガラスを含むことを特徴とする低融点ガラス組成物及びそれを用いた導電性ペースト材料である。 （もっと読む）

【課題】炭酸塩を用いてＳｉＯ₂の含有率が比較的高くかつアルカリ金属酸化物の含有率が低いガラス板を製造する際のＳＯ₂を含有する気泡の発生を抑制することができる製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の製造方法は、ＳｉＯ₂の含有率が５７〜６５質量％でアルカリ金属酸化物の含有率が２質量％以下であるガラスが得られるように調製された、炭酸塩を含むガラス原料を溶解させて溶融ガラスを得る溶解工程と、溶融ガラスをさらに昇温させて清澄する清澄工程と、清澄された溶融ガラスを板状に成形する成形工程と、を含む。溶解工程では、溶融ガラスに酸化性ガスをバブリングする。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気記録方式等に代表される次世代の情報記録媒体基板用途として要求される各種物性を備え、とりわけ、高い破壊靭性を有する情報記録媒体用基板、およびその為の加工性に優れた材料を提供することにある。また、人体及び環境に対して悪影響をおよぼすおそれのある砒素成分やアンチモン成分を実質的に使用せずともガラス素地の泡やダイレクトプレス時のリボイルの発生がなく、ダイレクトプレス法に適した生産性の高い情報記録媒体用基板を提供すること。
【解決手段】主結晶相としてＲＡｌ_２Ｏ_４、Ｒ_２ＴｉＯ_４、（ただしＲはＺｎ、Ｍｇ、Ｆｅから選択される１種類以上）から選ばれる一種以上を含有し、主結晶相の結晶粒径が０．５ｎｍ〜２０ｎｍの範囲であり、結晶化度が１５％以下であり、比重が３．００以下であることを特徴とする結晶化ガラスからなる情報記録媒体用結晶化ガラス基板。 （もっと読む）

【課題】重ね塗りをせずに良好な厚盛り印刷をすることができる厚盛り印刷絵具及び厚盛り印刷方法並びに厚盛り印刷製品を提供する。
【解決手段】無機系材料に酸窒化チタンを有する発泡性材料が０．５〜１０重量％の割合で混合された厚盛り印刷用絵具を被印刷物１１表面に塗布し焼付温度４００〜１０００℃で所定時間加熱して、厚盛り印刷用絵具の無機系材料を被印刷物１１表面に融着させるとともに酸窒化チタン中の窒素をガス化発泡させて発泡印刷層２１を有する印刷部２０を形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２ ４０〜７１％、Ａｌ_２Ｏ_３ ７．５〜２１％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜２％、Ｎａ_２Ｏ ７〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１５％、ＳＯ_３ ０．００１〜３％を含有し、質量分率（Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）／Ａｌ_２Ｏ_３の値が０．７〜２であり、且つ圧縮応力層の厚みが１００μｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２ ４０〜７１％、Ａｌ_２Ｏ_３ ３〜２１％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜３．５％、Ｎａ_２Ｏ １０〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１５％を含有すると共に、内部の引っ張り応力が１５〜２００ＭＰａであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】無機系の中空微粒子粉末原料から、小孔や欠け等の欠陥のある中空微粒子や破壊された微粒子を高純度に含む微粒子粉末と、欠陥や破壊のない完全球体の中空微粒子を高純度に含む微粒子粉末とに分離し精製する分離精製方法を提供すること、簡単な操作により効率よく分離精製する方法を提供すること、それらの分離精製された微粒子粉末を提供すること。
【解決手段】無物系の中空微粒子粉末原料１を１００℃以上の温度で加熱する加熱工程と、加熱された中空微粒子粉末原料１を室温以下の温度に保持された水１０７に投入して急冷し、水１０７中で沈降する沈降性成分２と水１０７中で浮上する浮上性成分３に分離する分離工程と、分離された浮上性成分３と沈降性成分２をそれぞれ回収する回収工程と、回収された浮上性成分３と沈降性成分２をそれぞれ乾燥させる乾燥工程を有する。 （もっと読む）

【課題】薄型化、軽量化が可能で、機械的強度や透明性が高く、しかも短時間で製造可能な携帯型液晶ディスプレイ用ガラス基板及びその製造方法並びにこれを用いたディスプレイを提供する。
【解決手段】 ＳｉＯ₂を４０〜７０重量％、Ａｌ₂Ｏ₃を０．１〜２０重量％、Ｎａ₂Ｏを３〜２０重量％含有し、Ｌｉ₂Ｏを含有しないガラス材料で形成されたガラス基板の表面に化学強化処理により深さ５０μｍ以上の圧縮応力層を形成する。 （もっと読む）

【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の強化ガラス基板は、表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量％でＳｉＯ_２ ４０〜７１％、Ａｌ_２Ｏ_３ ３〜２１％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜３．５％、Ｎａ_２Ｏ ７〜２０％、Ｋ_２Ｏ ０〜１５％を含有すると共に、強化処理後に切断されてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ディスプレイ部材や回路部材において、パターンに用いられる組成物で、塗布可能で、かつ低温で有機成分を熱分解でき、焼成後に高強度な材料を得ることができる焼成用組成物およびこれを用いた焼成物をより安全に提供する。
【解決手段】リオトロピック液晶と、低軟化点ガラスを含む塗布に適したレオロジー特性を有する組成物であり、リオトロピック液晶の熱分解温度が３００℃以下で、低軟化点ガラスの軟化点よりも４０℃以上低いものである。 （もっと読む）

【課題】耐失透性に優れ、各種合成シリカ材料に好適で、特に、放電灯用のバルブ材として好適に用いられる耐失透性合成シリカガラス及びその製造方法を提供することを目的とする。また、ランプ寿命を長く保持できる放電灯用合成シリカガラス製バルブ、該バルブを用いた放電灯装置、及び放電灯用合成シリカガラス製バルブの製造方法を提供する。
【解決手段】２５０ｎｍでの酸素欠損型欠陥量が吸収係数で０．０１〜２／ｃｍ、Ｃｌ含有量が１０ｐｐｍを超え１００００ｐｐｍ以下、ＯＨ基含有量が１０ｐｐｍ以下、アルカリ金属の合計含有量が１０ｐｐｍ以下、水素分子濃度が１×１０^１６分子／ｃｍ^３以下、及び１１００℃での粘度が１０^１４〜１０^１６ポアズであるようにした。 （もっと読む）

【課題】乗用車やトラック等に搭載されるパワー半導体装置は、エポキシ樹脂、シリカやアルミナ、フェライト複合体等の無機充填材からなる封止材により封止されているが、近年半導体装置の発熱が増加し、封止材が２５０℃の連続加熱または−５０℃〜２５０℃の熱衝撃により半導体素子と封止材、および半導体素子が実装されているパッケージ内壁と封止材が剥離および封止するための封止材の厚みが１ｍｍ以上でもクラックが生じないガラスフリット複合材料およびそれを用いた半導体装置を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、前記課題を解決すべくなされたものであり無機材料で耐熱性、絶縁性に優れた鉛を含有しないガラスフリット１〜３０ｗｔ％、コージライト３０〜９０ｗｔ％、熱硬化性のシリコーン３〜４０ｗｔ％、１〜１０００ｐｐｍのアルカリ金属を含むシリカ１〜２０ｗｔ％を含有する事を特徴とするガラスフリット複合材料。 （もっと読む）

【課題】電子基板として適する貫通電極を有するガラス板を製造する方法であって、貫通電極を精度よく、且つ高密度に形成できる方法を提供する。
【解決手段】波長λのレーザパルス１１をレンズで集光してガラス板１２に照射し、レーザパルス１１が照射された部分に変質部１３を形成する工程と、ガラス板１２に対するエッチングレートよりも変質部１３に対するエッチングレートが大きいエッチング液を用いて少なくとも変質部１３をエッチングしてガラス板１２に孔を形成する工程と、貫通電極を構成する導電性材料を前記孔の内部に配置する工程とを含む製造方法とする。レーザパルス１１のパルス幅は１ｎｓ〜２００ｎｓの範囲にあり、波長λは５３５ｎｍ以下、波長λにおけるガラス板１２の吸収係数は５０ｃｍ^-1以下、レンズの焦点距離Ｌ（ｍｍ）をレンズに入射する際のレーザパルス１１のビーム径Ｄ（ｍｍ）で除した値は７以上とする。 （もっと読む）

【課題】本発明によれば、紫外光において、真性複屈折率が低いかあるいは存在しないガラス化状態を安定して得ることができるガラス組成物を提供する。
【解決手段】Ｌｕ、Ｓｉ及びＡｌを含有する酸化物であり、ＬｕとＳｉとＡｌを陽イオン％で示した三相図において、以下に記す陽イオン％で示した６組成点で囲まれた組成域（記号“◎”で囲まれた範囲）に含まれるガラス組成物。
３２．３ＬｕＯ_３／２・３０．０ＳｉＯ_２・３７．７ＡｌＯ_３／２、
３２．３ＬｕＯ_３／２・３７．７ＳｉＯ_２・３０．０ＡｌＯ_３／２、
２０．８ＬｕＯ_３／２・５５．０ＳｉＯ_２・２４．２ＡｌＯ_３／２、
１０．０ＬｕＯ_３／２・４５．０ＳｉＯ_２・４５．０ＡｌＯ_３／２、
２０．８ＬｕＯ_３／２・２４．２ＳｉＯ_２・５５．０ＡｌＯ_３／２、
及び３０．０ＬｕＯ_３／２・２５．０ＳｉＯ_２・４５．０ＡｌＯ_３／２ （もっと読む）