【課題】ガラスのヤング率が高く、またシリコンと広い温度範囲で熱膨張係数が近似したＣＳＰにて製造される固体撮像装置に特に好適に使用できる固体撮像装置用カバーガラスを提供すること。
【解決手段】質量％で、ＳｉＯ_２ ５６〜６６％、Ａｌ_２Ｏ_３ ９〜２６％、Ｂ_２Ｏ_３ １〜１１％、ＭｇＯ ０〜６％、ＣａＯ ０〜６％、ＺｎＯ ４〜１３％、Ｌｉ_２Ｏ ０〜４．０％、Ｎａ_２Ｏ ０〜５．０％、Ｋ_２Ｏ ０〜６．０％、ただし、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ １％以上を含有し、３０〜３００℃の範囲における平均熱膨張係数が３０〜３８×１０^−７Ｋ^−１、ヤング率が７８ＧＰａ以上の固体撮像装置用カバーガラスである。 （もっと読む）

【課題】高融点半田に対し耐半田溶解性を改善する。
【解決手段】本発明に係る導電性ペーストは、
（Ａ）導電性粉末と、
（Ｂ）酸化物換算で下記の組成からなる成分を合計で８５重量％以上含有し、かつ、実質的に鉛を含まないガラスフリットと、
（Ｃ）有機ビヒクルと、
を含むことを特徴とする導電性ペースト。
ガラスフリット中の割合として、ＳｉＯ₂…１６〜４７重量％、Ａｌ₂Ｏ₃…３３〜５２重量％、ＭｇＯ…３〜１５重量％、Ｂ₂Ｏ₃…１５〜４５重量％ （もっと読む）

【課題】特に環境保護的観点から望ましい有利な光学特性（ｖ_ｄ／ｎ_ｄ）をもち、同時にＰｂＯ、Ｔｌ_２Ｏ、ＴｅＯ_２、ＣｄＯ、ＴｈＯを用いず、さらに好ましくはＳｉＯ_２及びＬｉＯ_２も必要とせずに低ガラス転移温度が得られる光学ガラスを提供する。
【解決手段】組成を酸化物ベースの重量％で下記の範囲とする。Ｐ_２Ｏ_５；２６〜３５％、Ｂ_２Ｏ_３；１０〜１５％、Ａｌ_２Ｏ_３；５．５〜１０％、ＢａＯ；２５〜３７％、ＳｒＯ；０〜６％、ＣａＯ；８〜１５％、ＺｎＯ；３〜１０％、Ｂｉ_２Ｏ_３；０〜８％、Ｎａ_２Ｏ；０〜２％、Ｋ_２Ｏ；０〜２％、ＷＯ_３；０〜１０％、Ｌａ_２Ｏ_３；０〜２％、Ｎｂ_２Ｏ_５；０〜１％、ＴｉＯ_２；０〜＜１％、アルカリ土類金属酸化物総計≧４０％、アルカリ金属酸化物総計；０〜２％、一般的清澄剤；０〜０．５％ （もっと読む）

【課題】低温かつ短時間で化学強化できるディスプレイ装置用ガラスを提供する。
【解決手段】下記酸化物基準のモル百分率表示で、ＳｉＯ_２を６１〜７２％、Ａｌ_２Ｏ_３を８〜１７％、Ｌｉ_２Ｏを６〜１８％、Ｎａ_２Ｏを２〜１５％、Ｋ_２Ｏを０〜８％、ＭｇＯを０〜６％、ＣａＯを０〜６％、ＴｉＯ_２を０〜４％、ＺｒＯ_２を０〜２．５％含有し、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏの含有量の合計Ｒ_２Ｏが１５〜２５％、Ｌｉ_２Ｏの含有量とＲ_２Ｏの比Ｌｉ_２Ｏ／Ｒ_２Ｏが０．３５〜０．８、ＭｇＯおよびＣａＯの含有量の合計が０〜９％であるディスプレイ装置用ガラス。 （もっと読む）

【課題】加熱される金属素材の表面にスケールが生成されるのを従来よりも抑制できる酸化防止剤を提供する。
【解決手段】軟化点の異なる複数のガラスフリットと、６００℃以下の融点を有する無機化合物とを含有する酸化防止剤。無機化合物は、主として６００℃前後の低温域で軟化する。複数のガラスフリットは、主として６００℃〜１３００℃の温度域で軟化する。そのため、酸化防止剤は、広い温度域で金属素材表面を覆い、金属素材表面が酸化してスケールを生成するのを抑制する。 （もっと読む）

【課題】薄膜等が形成されていないにも関わらず、高い透過率を有するディスプレイ基板を提供する。
【解決手段】無アルカリガラスからなるディスプレイ基板であって、波長４００ｎｍにおいて、基板の両表面をそれぞれ３０μｍ除去したとき（基板肉厚が０．１ｍｍ以上の場合）、或いはそれぞれ肉厚の１／３除去したとき（基板肉厚が０．１ｍｍ未満の場合）の透過率と、除去前の透過率との差△Ｔ_４００が、０．５〜５．０％の範囲にあることを特徴とする。また本発明のディスプレイ基板は、内部とは組成の異なる異質層を表面に有している。異質層は、厚みが１０ｎｍ〜３０μｍであり、またＳｉＯ_２含有量が、基板内部のそれよりも高いことが好ましい。 （もっと読む）

【課題】薄膜等が形成されていないにも関わらず、高い透過率を有するディスプレイ基板を提供する。
【解決手段】本発明のディスプレイ基板は、肉厚０．１ｍｍ以上のディスプレイ基板であって、波長４００ｎｍにおいて、基板の両表面をそれぞれ３０μｍ除去したときの透過率と、除去前の透過率との差△Ｔ_４００が、０．５〜５．０％の範囲にあり、ダウンドロー法で成形されてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】Ｘ線遮蔽能力が高く、且つ耐熱性が高い電界放射型装置用ガラス板を提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２３０〜５０％、Ａｌ_２Ｏ_３０〜１０％、Ｂ_２Ｏ_３０〜２０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ（ＭｇＯ、ＣａＯ、及びＳｒＯの合量）０〜２５％、ＢａＯ１５〜３５％、ＺｒＯ_２＋ＴｉＯ_２＋Ｌａ_２Ｏ_３＋Ｎｂ_２Ｏ_５（ＺｒＯ_２、ＴｉＯ_２、Ｌａ_２Ｏ_３、及びＮｂ_２Ｏ_５の合量）３〜４０％を含有し、歪点が６５０℃以上、１０ｋｅＶにおけるＸ線吸収係数が１５０ｃｍ^−１以上であることを特徴とする電界放射型装置用ガラス板。 （もっと読む）

【課題】
結晶Ｓｉ太陽電池用の導電性ペーストにおいて、高い集電効率を得られるような無鉛導電性ペースト材料用の低融点ガラス組成物が望まれている。
【解決手段】重量％でＳｉＯ_２を２〜１０、Ｂ_２Ｏ_３を１８〜３０、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜１０、ＺｎＯを０〜２５、ＲＯ（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）を２０〜５０、Ｒ_２Ｏ（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ）を１０〜１７含むＳｉＯ_２−Ｂ_２Ｏ_３−ＺｎＯ−ＲＯ−Ｒ_２Ｏ系無鉛低融点ガラスを含むことを特徴とする導電性ペースト材料である。 （もっと読む）

【課題】溶融していないガラス粒子と廃液との接触面積を増大させることにより、溶融していないガラス粒子の表面に、廃液から溶媒を除去することにより生成する固形物を、容易に付着させることができるようにしたガラス焼結造粒体及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】廃液の溶媒を除去すると生成する成分を溶融ガラスで固化するために使用されるガラス焼結造粒体であって、軟化点が５００℃以上１２００℃以下の範囲にあるガラスの粉末を焼結して成り、吸水率が１０％以上８０％以下の範囲にあり、圧壊強度が１．０ｋｇｆ／粒以上２０．０ｋｇｆ／粒以下の範囲内にあるガラス焼結造粒体、及び、ガラス粉末、固体粘結剤、液体粘結剤、希硝酸を含有する混練物を３５０℃以上から前記ガラスの軟化点以下の温度範囲内にて焼結する工程を有する方法。 （もっと読む）

【課題】異常分散性がより高いことでガラスレンズの色収差を高精度に補正することができ、さらに高屈折率、低分散性を備え、加えて、耐失透に優れる光学ガラス、光学素子およびプリフォームの提供。
【解決手段】カチオン成分として、Ｐ⁵⁺、Ａｌ³⁺およびＲ²⁺（Ｒ²⁺は、Ｍｇ²⁺、Ｃａ²⁺、Ｓｒ²⁺およびＢａ²⁺からなる群から選ばれる少なくとも１つ）を含み、カチオン％表示で、Ｂａ²⁺の含有率が１７．０〜３１．０％、Ｒ²⁺の含有率が３５．０〜５５．０％であり、アニオン成分として、Ｆ^-およびＯ^2-を含有し、屈折率（ｎｄ）が１．５０以上で、アッベ数（νｄ）が６５以上である光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】
電子材料基板を封着するための低融点ガラスであって、実質的にＰｂＯを含まない無鉛低融点ガラスが望まれている。
【解決手段】質量％でＳｉＯ_２を０〜８、Ｂ_２Ｏ_３を２〜１２、ＺｎＯを２〜７、ＲＯ（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）を０．５〜３、ＣｕＯを０．５〜５、Ｂｉ_２Ｏ_３を８０〜９０、Ｆｅ_２Ｏ_３を０．１〜３、Ａｌ_２Ｏ_３を０．１〜３含むことを特徴とする低融点ガラス組成物及びそれを用いた導電性ペースト材料である。 （もっと読む）

【課題】光リソグラフィー法等で使われるフォトマスク用合成石英ガラス基板として、平坦度が良く微細な描画を行うことができ、かつ基板表面が低欠陥で面粗さの小さい合成石英ガラス基板を提供する。
【解決手段】表面中央１３２ｍｍ×１３２ｍｍ角の外周から表面外周縁へ向かって傾斜している６インチ角の合成ガラス基板であって、表面中央１３２ｍｍ×１３２ｍｍ角の平坦度が５０ｎｍ以下、表面中央１４８ｍｍ×１４８ｍｍ角内であって表面中央１３２ｍｍ×１３２ｍｍ角部分を除いた額縁部分の平坦度が１５０ｎｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】高屈折率及び高分散を有し、可視光に対する透明性が高く、且つプレス成形時における乳白化や失透が低減された光学ガラスと、これを用いた光学素子及び精密プレス成形用プリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量％でＰ_２Ｏ_５成分を４０．０％未満、並びに、Ｌｎ_２Ｏ_３成分（式中、ＬｎはＹ、Ｌａ、Ｇｄ、Ｃｅ、Ｅｕ、Ｄｙ、Ｙｂ及びＬｕからなる群より選択される１種以上）を合計で６０．０％未満含有し、１．７５以上の屈折率（ｎｄ）と１０以上のアッベ数（νｄ）を有する。 （もっと読む）

【課題】空調施設のドレイン水における抗菌性ガラスからの銀イオン溶出量を安定的に制御して、ドレイン水における微生物の発生を効果的に抑制できる空調施設用混合抗菌性ガラスを提供する。
【解決手段】空調施設において、銀イオンを放出することによって抗菌効果を発揮する空調施設用混合抗菌性ガラスであって、溶解した場合にアルカリ性を示す抗菌性ガラスと、溶解した場合に酸性を示す抗菌性ガラスと、を含み、アルカリ性を示す抗菌性ガラスにおける所定測定条件にて測定される銀イオン溶出量、および、酸性を示す抗菌性ガラスにおける所定測定条件にて測定される銀イオン溶出量がそれぞれ所定の範囲内の値であり、アルカリ性を示す抗菌性ガラスの配合量が、酸性を示す抗菌性ガラス１００重量部に対して、１０〜１００重量部の範囲内の値であり、かつ、所定測定条件にて測定される総銀イオン溶出量が所定の範囲内の値である。 （もっと読む）

【課題】異常分散性がより高いことでガラスレンズの色収差を高精度に補正することができ、さらに高屈折率、低分散性を備え、加えて、従来のものと同等以上に摩耗度が低く研磨加工を行い易く、耐酸性に優れる光学ガラス、光学素子およびプリフォームの提供。
【解決手段】カチオン成分として、Ｐ⁵⁺およびＡｌ³⁺を含有し、カチオン％表示で、Ｐ⁵⁺の含有率が２２．０〜３８．０％、Ａｌ³⁺の含有率が１１．０〜２３．０％であり、アニオン成分として、Ｆ^-およびＯ^2-を含有し、屈折率（ｎｄ）が１．５０以上で、アッベ数（νｄ）が６５以上である光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】Ａｓ_２Ｏ_３、Ｓｂ_２Ｏ_３の含有量が少なくても、泡品位を向上し得る結晶性ガラス、天然大理石様結晶化ガラス及びその製造方法を創案すること。
【解決手段】本発明の結晶性ガラスは、熱処理により、主結晶としてβ−ウォラストナイトが析出する結晶性ガラスにおいて、結晶性ガラス中の水分量が５００ｐｐｍ以上であることを特徴とする。また、本発明の天然大理石様結晶化ガラスの製造方法は、ガラス原料を調合し、ガラスバッチを作製する調合工程、ガラスバッチを溶融し、結晶性ガラスを作製する溶融工程、結晶性ガラスを熱処理することにより、主結晶としてβ−ウォラストナイトを析出させて、結晶化ガラスを作製する結晶化工程を有する天然大理石様結晶化ガラスの製造方法において、結晶性ガラス中の水分量が５００ｐｐｍ以上になるように、調合工程及び／又は溶融工程を制御することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】有用な光学素子を提供する。
【解決手段】光学素子において、形成されたガラス材料中にＣｅ⁴⁺を示さないアルカリアミノケイ酸塩ＮａＦ含有ガラス材料、および、アルミノケイ酸塩ＮａＦ含有ガラス材料中に形成された屈折率パターンであって、屈折率パターンが高屈折率の領域と低屈折率の領域を含み、高屈折率の領域と低屈折率の領域との間の差が６３３ｎｍの波長で少なくとも４×１０^-5である屈折率パターン、を含む。 （もっと読む）

【課題】耐酸性に優れた結晶化ガラスを創案することにより、結晶化ガラスの表面において、化学的腐食に起因した微細なクラックが発生する事態を防止すること。
【解決手段】本発明の結晶化ガラスは、燃焼装置の構成部材に用いる結晶化ガラスであって、表面にＫリッチ層が形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】透明引上げガラスの製造方法で特に酸化アンチモンと酸化ヒ素の重金属清澄剤を用いないで、しかもガラス溶融物をできるだけ効率的に清澄し、気泡のない、または気泡の少ない高品質ガラスを製造すること。
【解決手段】本発明は、以下のステップ、（ａ）ガラスバッチ溶融物を保持しての原料の溶融；（ｂ）製出されたこのガラスバッチ溶融物の清澄；（ｃ）製出されたこのガラスバッチ溶融物の均質化；および（ｄ）引上げ法によるガラス製品の製造、を含む透明引上げガラスまたは透明ガラスの製造方法に関し、清澄剤としてアルカリ硫酸塩、アルカリ土類硫酸塩、硫酸亜鉛、またはそれらの混合物から選択した硫酸塩清澄剤の所定量を使用し、前記ガラスバッチ溶融物の清澄では、酸化アンチモンのみまたは他の１種類以上の清澄剤を組み合わせて含有する清澄システムを使用する清澄法よりも０℃〜１００℃、望ましくは３０℃〜６０℃ほど高い所定の清澄温度に調整している。本発明の方法によって製出したガラスは、実際的に含有物または気泡がない青色調の高度透明ガラスで、光学的均質性が高く、分光透過率が高い。 （もっと読む）