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光学ガラス、光学素子及び精密プレス成形用プリフォーム
【課題】屈折率(nd)が所望の範囲内にありながら低いアッベ数(νd)を有し、低い温度で軟化し易く、且つ研磨加工を行い易く、さらに高透過率と良好な化学的耐久性を兼ね備える光学ガラスと、これを用いた光学素子及び精密プレス成形用プリフォームを得る
【解決手段】酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル%でTeO2成分を20.0〜70.0%、P2O5成分を0%〜25.0%、B2O3成分を0%〜40.0%、Nb2O5成分を0%〜20.0%、La2O3成分を0%〜30.0%含有し、TeO2/(P2O5+B2O3)が1.0以上、B2O3+Nb2O5+La2O3が0%より多く60%以下であり、摩耗度が200以上800以下、ヌープ硬度が250以上650以下、粉末法耐水性クラス(RW)が1以上3以下、粉末法耐酸性クラス(RA)が1以上3以下である光学ガラス。
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ガラス
【課題】太陽光に対して高い透過率を示し、熱的な寸法安定性も有しており、集光型太陽電池装置等の部材用途に好適な低温溶融性および熱間成型性に優れたガラスを提供する。
【解決手段】酸化物基準の質量%で、B2O3成分、Al2O3成分を含有し、B2O3成分の含有量が30〜65%であり、Al2O3/B2O3が0.18〜0.45であるガラス。より好ましくは、粘度が102.5dPa・sを示すときの温度が1000℃以下である。
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ガラスセラミックス組成物、発光ダイオード素子用基板、および発光装置
【課題】耐酸性に優れ、かつ十分な反射率や緻密さを有する発光ダイオード素子用基板を得ることのできるガラスセラミックス組成物を提供すること。
【解決手段】30〜50質量%のホウケイ酸系ガラス粉末、35〜60質量%のアルミナ粉末、および10〜20質量%のジルコニア粉末を含み、発光ダイオード素子を搭載するための基板の製造に用いられるガラスセラミックス組成物であって、前記ホウケイ酸系ガラス粉末が、酸化物換算で、SiO2を45〜65質量%、B2O3を5〜20質量%、Al2O3を5〜25質量%、およびCaOを15〜35質量%含有し、Li2O、Na2O、およびK2Oを含有しない、あるいはLi2O、Na2O、およびK2Oの合計した含有量が0.5質量%未満であるもの。
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Bi系ガラス及び超伝導材料の製造方法
【課題】配向性の良好な超伝導結晶を連続的に形成できるBi系ガラス材料及び及び超伝導材料の製造方法を提案する。
【解決手段】Bi系ガラスのガラス組成として、下記酸化物基準のモル%で、Bi2O310〜50%、SrO30〜60%、CaO5〜30%、CuO0〜10%を含有することを特徴とする。また、超伝導材料の製造方法は、銅又は銅合金の表面に、上記のBi系ガラスを接触させた状態で熱処理し、超伝導結晶を析出させることを特徴とする。
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光学ガラス、プリフォーム材及び光学素子
【課題】屈折率(nd)及びアッベ数(νd)が所望の範囲内にありながら、脈理の少なさと失透の起こり難さとを兼ね備え、径の大きなプリフォーム材を形成することが可能な光学ガラスと、これを用いたプリフォーム材及び光学素子を得る。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全質量に対して、質量%でB2O3成分を5.0〜35.0%、La2O3成分を15.0〜50.0%、及びWO3成分を1.0〜25.0%含有し、Li2O成分の含量が5.0%以下である。
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ビスマス系非鉛ガラス及び複合材料
【課題】メッキ処理によってオーバーコート層が侵食され難く、800℃以下の温度で焼成でき、しかも、コストパフォーマンスに優れたビスマス系非鉛ガラス及びそれを用いた複合材料を提供することである。
【解決手段】本発明のビスマス系非鉛ガラスは、実質的にPbOを含まず、質量百分率で、Bi2O3 20〜48%、B2O3 6〜27%、SiO2 10〜30%、Al2O3 5〜20%、MgO+CaO+SrO+BaO 0〜20%、ZnO 0〜7%未満、Li2O+Na2O+K2O 0〜10%、Al2O3/Bi2O3 0.33〜0.73であることを特徴とする。
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ガラスセラミックス組成物および素子搭載用基板
【課題】従来よりも低い温度で焼成することができ、かつ高い反射率を有するLTCC基板を得ることが可能なガラスセラミックス組成物を提供する。
【解決手段】25〜60質量%のガラス粉末と15〜50質量%のアルミナ粉末および10〜40質量%の高屈折率フィラーを含み、前記ガラス粉末が、酸化物換算で、SiO2を0〜50質量%、B2O3を15〜50質量%、Al2O3を0〜10質量%、ZnO、CaO、SrOおよびBaOから選ばれる1種以上を合計で3〜65質量%、Li2O、Na2OおよびK2Oから選ばれる1種以上を合計で0〜20質量%、Bi2O3を0〜50質量%含有し、「(B2O3+Bi2O3の含有量)の3倍」+「(ZnO+CaO+SrO+BaOの含有量)の2倍」+「(Li2O+Na2O+K2Oの含有量)の10倍」の値が200を超えることを特徴とするガラスセラミックス組成物を提供する。
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耐火性フィラー粉末、封着材料及び耐火性フィラー粉末の製造方法
【課題】低膨張、高強度であり、且つ低温で固相反応し得る耐火性フィラー粉末およびその製造方法を創案することにより、封着材料の低廉化を図るとともに、封着部位の破損及び未反応の原料に起因する封着不良を防止すること。
【解決手段】本発明の耐火性フィラー粉末は、主結晶相がウイレマイト及びガーナイトであることを特徴とし、ウイレマイトとガーナイトの割合が、モル比で99:1〜70:30であることを特徴とする。
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無鉛ガラス組成物
【課題】化学的耐久性に優れ、低比重化を達成し、また溶融性に優れ、炉材の侵食が少なく、更に感光性プロセスにおいて高精細なパターン形成を可能とする無鉛ガラス組成物の提供を課題とする。
【解決手段】酸化物のモル%表示で、SiO2:26〜40%、Al2O3:4〜25%、B2O3:20〜50%、ZnO:0.1〜4%、MgO、CaO、SrO及びBaOの少なくとも1種:2〜13%、Li2O、Na2O及びK2Oの少なくとも1種:10〜30%、但し、Li2O:0〜25%、Na2O:0〜20%、K2O:0〜17%を含有する無鉛ガラス組成物である。
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封着材料及びこれを用いたペースト材料
【課題】レーザ封着に好適な封着材料、具体的にはレーザ光を吸収しやすく、且つ軟化点が低い封着材料を創案することにより、有機ELディスプレイ等の信頼性を高めること。
【解決手段】本発明の封着材料は、SnO含有ガラス粉末を含む無機粉末 80〜99.7質量%と、顔料 0.3〜20質量%とを含有し、且つレーザ封着に用いることを特徴とする。
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隔壁形成用ガラスセラミックス複合材料
【課題】低膨張のガラス基板上に亀裂や崩れを生じさせることなく高さの高い隔壁を形成することが可能な隔壁形成用ガラスセラミックス複合材料を提供することである。
【解決手段】本発明の隔壁形成用ガラスセラミックス複合材料は、ガラス粉末とフィラー粉末を含む隔壁形成用ガラスセラミックス複合材料であって、質量%で、ガラス粉末が30〜60%、フィラー粉末が40〜70%からなり、ガラス粉末がZnO−B2O3−SiO2系結晶性ガラスからなり、フィラー粉末が球状シリカからなることを特徴とする。
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遷移金属酸化物を含有するケイ酸リチウムガラスセラミックおよびガラス
【課題】屈折率が容易に変更可能であるが、他の特性は実質的に損なわれない、ケイ酸リチウムベースのガラスセラミックを提供すること。
【解決手段】本発明は、少なくとも8.5重量%の遷移金属酸化物を含有するケイ酸リチウムガラスセラミックであって、該遷移金属酸化物は、イットリウムの酸化物、41〜79の原子番号を有する遷移金属の酸化物およびこれらの酸化物の混合物からなる群より選択される、ケイ酸リチウムガラスセラミックを提供する。
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ガラスロール及びその製造方法
【課題】
厚み0.5〜300μmの長尺なガラスフィルムを巻き取ってガラスロールを作製した際に、ガラスロールの内層部に位置するガラスフィルムの破損を抑制すること。
【解決手段】
厚みが0.5〜300μmであり、密度が2.45g/cm3未満のガラスフィルム10をロール状に巻き取ることによって、ガラスロール15を作製する。
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光学ガラス
【課題】レンズ表面のクモリが発生しにくく量産性に優れた光学ガラスを提供するものである。
【解決手段】質量%で、SiO2 30〜70%、Al2O3 4〜20%(ただし4%を含まず)、B2O3 15〜60%、Sb2O3 0.001〜0.1%(ただし0.1%を含まず)含有することを特徴とする。
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光反射基材用材料、光反射基材およびそれを用いた発光デバイス
【課題】高い光反射率を有する光反射基材を容易に製造することができる材料を提供する。
【解決手段】組成として実質的にCaOを含まないガラス粉末とNb2O5結晶粉末を含むことを特徴とする光反射基材用材料、当該光反射基材用材料の焼結体からなることを特徴とする光反射基材、およびそれ用いたことを特徴とする発光デバイス。
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プラズマディスプレイパネル用誘電体形成ガラスペースト
【課題】600℃以下の温度で十分に焼成でき、より低い誘電率と高い透過率を有する誘電体層を得ることが可能なプラズマディスプレイパネル用誘電体形成ガラスペーストを提供することである。
【解決手段】本発明のプラズマディスプレイパネル用誘電体形成ガラスペーストは、B2O3−SiO2系ガラス粉末、シロキサン樹脂及び溶剤を含むプラズマディスプレイパネル用誘電体形成ガラスペーストであって、D線(波長587.6nm)におけるB2O3−SiO2系ガラス粉末とシロキサン樹脂との屈折率差が絶対値で0.1未満であることを特徴とする。
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板ガラス及びその成形方法
【課題】 板ガラスの薄肉・大型化に伴う反りの発生の顕著化及び生産性向上の困難化の問題を回避して、高品質の板ガラスを提供する。
【解決手段】 両面が無研磨面である矩形の板ガラス1であって、厚みが0.7mm以下、短辺の長さが1000mm以上、長辺の長さが1200mm以上、反り率が0.03%以下である。板ガラス1の成形は、くさび状の断面形状を有する成形体3と引張りローラ4との間に、板状ガラスGの幅方向両端部を挟持する冷却ローラ5を設け、成形体3の下端部3bから冷却ローラ5の中心軸までの距離を30〜200mmにする。
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皮膜形成用ガラス組成物
【課題】塩素もしくは塩化物と反応し難く、耐塩化物性に優れ、かつ耐熱性を有したガラス組成物に関するもので、塩素成分を含む高温の溶融塩による腐食から、ステンレス鋼等を保護する皮膜を形成するための皮膜形成用ガラス組成物及びその利用方法を提供すること。
【解決手段】モル%で表して、P2O5が30〜80、Fe2O3が0〜50、Al2O3が0〜30、B2O3が0〜15、TiO2が0〜40、ZrO2が0〜10、R2O(Li2O、Na2O、K2Oから選択される1種以上の合計)が0〜15、R’O(MgO、CaO、SrO、BaOから選択される1種以上の合計)が0〜15で、かつ、Al2O3+B2O3+TiO2+ZrO2が1〜65、R2O+R’Oが0〜20からなる軟化点が550℃以上で、かつ、塩素または塩化物に対する耐性に優れた皮膜形成用ガラス組成物。
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ガラスブランクの製造方法、磁気録媒体基板の製造方法および磁気記録媒体の製造方法
【課題】溶融ガラスからプレス成形により磁気記録媒体基板用のガラスブランクを作製するガラスブランクの製造方法において、プレス成形直前の溶融ガラス塊の粘度分布を均一化することにより、板厚偏差が小さく、高い平坦度を有するガラスブランクを製造する方法を提供する。
【解決手段】ガラス流出口より流出する溶融ガラス流を空中に垂下させた状態で切断し、溶融ガラス塊を分離、落下させ、平坦なプレス成形面によりプレスして薄板ガラスに成形する際に、分離時の溶融ガラス塊の水平断面における最大径Aに対する鉛直方向の長さBの比B/Aが0.5〜5の範囲内になるようにガラス流出口の口径を定めるとともに、溶融ガラスの流出粘度が500〜1050dPa・sの範囲で一定となるよう溶融ガラスの流出温度を制御するガラスブランクの製造方法。
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ガラス繊維織布入り絶縁樹脂シート、積層板、多層プリント配線板、及び半導体装置
【課題】低熱膨張性、優れた耐熱衝撃性、及び優れた難燃性を有すると共に、高温、多湿の環境下においても高い壁間絶縁信頼性を有し、高密度、高多層成形が可能なガラス繊維織布入り絶縁樹脂シートと、これを用いた積層板、多層プリント配線板、及び半導体装置を提供する。
【解決手段】ガラス繊維織布と、絶縁樹脂組成物とからなるガラス繊維織布入り絶縁樹脂シートであって、たて糸中に存在する空隙の個数がたて糸10万本あたり0.1個以上10個以下であるガラス繊維織布入り絶縁樹脂シートであること。
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