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Fターム[4G062FA10]の内容

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【課題】点火プラグが細経化されても、高周波雑音電波の発生を十分に抑制し得る抵抗体
形成用ガラス組成物を創案することにより、点火プラグの信頼性および生産性を高めるこ
と。
【解決手段】本発明の抵抗体形成材料は、粗粒ガラス粉末と粗粒セラミックフィラーを含
む抵抗体形成材料において、(1)粗粒ガラス粉末が、ガラス組成として、質量%で、S
iO2 35〜60%、B23 25〜55%、Li2O+Na2O+K2O 1〜20%、
MgO+CaO+SrO+BaO 0〜35%、BaO 0〜14%を含有し、(2)粗
粒セラミックフィラーの平均粒子径D50が50〜300μmであり、(3)粗粒セラミッ
クフィラーの含有量が1〜55質量%であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】集光式太陽電池に代表される装置に利用されるフレネルレンズに適した特性を持ち、かつ、ダイレクトプレス法又はリヒートプレス法による集光用パターンの形成を容易にできるフレネルレンズ用ガラスが求められている。
【解決手段】実質的に着色成分を含まず、モル%で表して、SiOが50〜75、Alが0〜15、Bが0〜15、LiOが1〜25、NaOが1〜25、KOが0〜25、MgOが0〜15、CaOが0〜15、SrOが0〜15、BaOが0〜15、ZrOが0〜5、SiO+Al+Bの合計が60以上、RO(LiO、NaO、KOから選択される1種以上の合計)が5〜35、R’O(MgO、CaO、SrO、BaOから選択される1種以上の合計)が1〜25、からなることを特徴とするフレネルレンズ用ガラス。 (もっと読む)


【課題】点火プラグが細経化されても、高周波雑音電波の発生を十分に抑制し得る抵抗体形成用ガラス組成物を創案することにより、点火プラグの信頼性および生産性を高めること。
【解決手段】本発明の抵抗体形成材料は、粗粒ガラス粉末と粗粒セラミックフィラーを含む抵抗体形成材料において、(1)粗粒ガラス粉末が、ガラス組成として、質量%で、SiO2 35〜60%、B23 25〜55%、Li2O+Na2O+K2O 1〜20%、MgO+CaO+SrO+BaO 0〜35%、BaO 0〜14%を含有し、(2)粗粒セラミックフィラーの平均粒子径D50が50〜300μmであり、(3)粗粒セラミックフィラーの含有量が1〜55質量%であることを特徴とする。 (もっと読む)


本発明は、酸化アンチモンを含むガラス板の製造方法に関し、当該方法は、バッチを溶融させる工程、溶融したガラスを少なくとも1つの成形装置へ移送する工程、及び成形工程を含み、前記溶融工程の間に、又は溶融ガラスを少なくとも1つの成形装置へ移送する前記工程の間に、2〜30%の重量含有量の酸化アンチモンを含むガラスフリットを前記バッチ混合物へ連続して、又は交互に加える。好ましくは、ガラスフリットは、wt%で表して次の成分、すなわち、45〜65のSiO2、0〜10のAl23、0〜5のB23、5〜20のCaO、0〜10のMgO、5〜20のNa2O、0〜10のK2O、0〜5のBaO、0〜5のLi2O、5〜30のSb23、を含む。
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【課題】高い抗折強度と高い反射率を有し、かつ、ガラス相の結晶化率が低い、低温焼成ガラスセラミックス基板用のガラスセラミックス原料組成物を提供すること。
【解決手段】20〜50質量%のホウケイ酸系ガラス粉末と25〜55質量%のアルミナフィラー粉末と、10〜45質量%の高屈折率フィラー粉末とを含み、前記ホウケイ酸系ガラス粉末が、酸化物換算で、SiOを30〜70質量%、Bを5〜28質量%、Alを5〜30質量%、CaOを3〜35質量%、SrOを0〜25質量%、BaOを0〜25質量%、NaOを0〜10質量%、KOを0〜10質量%、NaO+KOを0.5〜10質量%、CaO+SrO+BaOを5〜40質量%、3B+2(CaO+SrO+BaO)+10(NaO+KO)を105〜165含有することを特徴とするセラミックス原料組成物を提供する。 (もっと読む)


【課題】合成石英ガラスに対してUVレーザ光やUV光の長期照射に対する耐性を備えるのに必要な水素を効率的に含浸させ、ガラス内の水素濃度分布の平準化を図る。
【解決手段】合成石英ガラスを、水素を含む雰囲気中で、第1温度で加熱する第1加熱工程と、前記合成石英ガラスを、水素を含まない雰囲気中で、前記第1温度以上の第2温度で加熱する第2加熱工程と、前記合成石英ガラスを、水素を含む雰囲気中で、前記第2温度以下の第3温度で加熱する第3加熱工程と、を有する。 (もっと読む)


【課題】電子部品の高密度実装に用い、プリント配線板に構造材として多用される細番手のガラス繊維に関し、ホローファイバーの混入のない、均質な品位のガラス繊維、及びその製造方法と、ガラス繊維シート状物を提供する。
【解決手段】ガラス繊維は、酸化物換算の質量百分率表示で、SiO 70〜80%、Al 0〜2%、B 15〜21.5%、MgO 0〜1%、CaO 0〜2%、LiO 0〜2%、NaO 0〜3%、KO 0〜3%、LiO+NaO+KO 2〜5%の組成を含有し、SOの含有量が50ppm以下である。ガラス繊維の製造方法は、光学的な計測により得られるβ−OH値が0.55/mm以上、0.65/mm以下となるように熔融し、紡糸することで本発明のガラス繊維を製造する。ガラス繊維シート状物は、本発明のガラス繊維を有機樹脂材と複合化されて有機樹脂複合材を形成する用途で用いられる。 (もっと読む)


【課題】シリカをベースとし他の成分を1種以上含むガラスからなるナノレベルの粒子径を有する球状ガラス微粒子及びセラミックスの焼結を容易にするための,そのような球状ガラス粒子よりなる焼結助剤を提供する。
【解決手段】組成として,酸化物換算で,SiO2を40〜95モル%,B23を0.5〜40モル%,及びZnOを0.5〜40モル%の量でそれぞれ含有し,かつ平均粒子径が20nm以上1000nm未満であることを特徴とする,球状ガラス微粒子,並びにそのような球状ガラス微粒子を含んでなる焼結助剤。 (もっと読む)


【課題】水性分散体の成分として採用された場合においてもゲル化などの問題を生じさせるおそれのない焼結助剤に適したガラス組成物を提供し、ひいては、誘電体の製造方法における作業性の低下を抑制しつつ環境負荷の軽減を図ることを目的としている。
【解決手段】酸化物換算の質量%で、SiO2が30〜60%;ZrO2及びTiO2のいずれか一方又は両方が合計3〜20%;B23が0〜20%;Al23が0〜15%;ZnOが0〜15%;MgO、CaO、SrO及びBaOの内の1種以上が合計0〜25%;Li2O、Na2O及びK2Oの内の1種以上が合計0〜20%の組成比を有し、しかも、B23、MgO、CaO、SrO、BaO、Li2O、Na2O、及びK2Oの総合計が、40質量%以下となる組成比を有しており、セラミック誘電体粒子の焼結助剤に用いられることを特徴とガラス組成物などを提供する。 (もっと読む)


【課題】従来よりも低消費電力化が可能なプラズマディスプレイ用ガラス板を創案することにより、プラズマディスプレイの低消費電力化および低コスト化を図ること。
【解決手段】本発明のプラズマディスプレイ用ガラス板は、ガラス組成中のアルカリ金属酸化物(LiO+NaO+KO:LiO、NaO、KOの合量)の含有量が6.5質量%以下であり、且つ25℃、周波数1MHzにおける誘電率が6.5以下であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】非線形感受率χ(3)が10−12esu以上と非線形光学特性に優れ、透過率が5%となる吸収端波長が450nm以下であって、良好な非線形性を示す波長帯域が可視波長全域と広く、しかも光吸収が小さく、耐久性に優れ、光強度の減衰が小さく、光応答性の高い、非線型光学ガラスを提供する。
【解決手段】800nmにおける3次の非線形感受率χ(3)の値が1×10−12esu以上で、透過率が5%となる吸収端波長が450nm以下となる、Bi、B及びTeOを必須成分とする非線形光学ガラスであって、好ましくは、酸化物基準のmol%で、Bi:12〜48、B:15〜60、TeO:5〜60、P:0〜15、SiO:0〜20、Nb+Ta:0〜5、ZnO:0〜10、TiO:0〜15、GeO:0〜10を含有する。 (もっと読む)


【課題】歯科用セラミックブランクを機械加工する時間を短縮する方法を得る。
【解決手段】歯科用セラミックブランクの破壊じん性(KIC)と曲げ強度(δ)が既知であり、下記の式を用いて、該歯科用セラミックの最大表面臨界傷寸法の推定値(c)と、最大臨界ボリューム傷寸法の推定値(2c)を算出する工程と、c=(KIC/δ一連のダイヤモンドツールを用いて機械加工法を行う工程で、該ダイヤモンドツールが、埋め込まれたダイヤモンドを備える工程とを含み、該機械加工法が、粗い機械加工工程と、中間の機械加工工程と、精巧な機械加工工程とを含み、この各工程が、ツール経路と機械加工パラメーターを含み、該ツール経路及び機械加工パラメーターが、該一連のダイヤモンドツールの少なくとも1つによって実行され、該埋め込まれたダイヤモンドの粒度が、c前後よりも大きく、2c前後よりも小さい方法とする。 (もっと読む)


【課題】優れたイオン伝導度を有する硫化物固体電解質、及び、当該硫化物固体電解質中に含まれる結晶化ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】下記式(1)に示す化学式で表される結晶化ガラスを含むことを特徴とする、硫化物固体電解質。
75LiS・(25―x)P・xP 式(1)
(上記式(1)中、0<x<25) (もっと読む)


【課題】洗浄に対して優れた耐性を有し、低分散特性を示す光学素子のための光学ガラス、前記光学素子とその製法、前記光学素子を作るためのガラスプリフォームとその製法を提供する。
【解決手段】5モル%以上のP2O5を含み、アッベ数(νd)が58以上、ガラス転移温度(Tg)が570℃以下、表面を光学研磨して50℃、0.01モル/リットルのNaOH水溶液に浸漬したときの質量減少量が17μg/(cm2・時)以下の耐アルカリ性を有する光学ガラス。流出パイプから流出する熔融ガラス流から所要質量の熔融ガラスを分離するか、熔融ガラスを流出、成形してガラス成形体を作製し、前記ガラス成形体を機械加工して、上記光学ガラスよりなる精密プレス成形用プリフォームを作製する方法。上記光学ガラスよりなる光学素子。プリフォームを加熱し、プレス成形型を用いて精密プレス成形する光学素子の製造方法。プリフォームは本発明のプリフォームであるか、本発明の方法により製造されたプリフォームである。 (もっと読む)


【課題】十分な耐失透性を有し、且つイオン交換性能に優れたガラスを創案することにより、機械的強度が高く、且つ表面品位が良好な強化ガラスを作製すること。
【解決手段】本発明の強化ガラスは、表面に圧縮応力層を有する強化ガラスにおいて、ガラス組成として、質量%で、SiO 45〜75%、Al 12〜24%、NaO 11〜25%、P 0.1〜10%を含有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】高周波雑音電波を効率良く吸収する抵抗体を形成すべく、高周波雑音電波の吸収
能が高い抵抗体形成用ガラス組成物を創案することにより、小型の点火プラグの信頼性お
よび生産性を向上させること。
【解決手段】本発明の抵抗体形成用ガラス組成物は、ガラス組成として、質量%で、Si
40〜60%、B 28〜43%、LiO+NaO+KO 0〜20
%、MgO+SrO 1〜25%含有することを特徴とし、好ましくは25℃、1MHz
における誘電率が5.5以下であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、低温同時焼成セラミック基板及びその製造方法に関する。
【解決手段】本発明による低温同時焼成セラミック基板は、ディオプサイド系結晶化ガラスを有する第1誘電体層が1つ以上積層されたセラミック本体と、前記セラミック本体の上面及び下面のうち少なくとも一面に形成され、前記第1誘電体層の焼成温度で前記第1誘電体層とともに焼結され、10wt%以上の非晶質を含む第2誘電体層と、を含む。本発明による低温同時焼成セラミック基板は、ディオプサイド系結晶化ガラスを含むため、高周波帯域において誘電損失が小さく、第2誘電体層がディオプサイド系結晶を形成する第1ガラス粉末の急激な結晶化による流動性を補充する。これによって、均一な表面を有し、且つ反り現象が発生しない低温同時焼成セラミック基板を製造することができる。 (もっと読む)


【課題】四塩化珪素を加水分解し合成シリカ粉を製造する方法において、生産性がよく、粒度の大きいシリカ粉を製造することができる合成シリカ粉の製造方法を提供する。
【解決手段】無極性の有機溶媒に混合した四塩化珪素と飽和塩酸との反応によってスラリー状の合成シリカを生成させ、この合成シリカスラリーを洗浄し、濾過してケーキ状になったスラリーを解砕し、これを押し固めて造粒した後に解砕し、乾燥して焼成することを特徴とする合成シリカ粉の製造方法であり、好ましくは、水酸化アンモニウム1〜5%、および過酸化水素1〜5%を含有する純水を用いてスラリー状の合成シリカを洗浄した後に加圧する合成シリカ粉の製造方法。 (もっと読む)


【課題】光透過特性に優れ、屈折率nが2.0以上で、アッベ数νが19以下と、高分散で高屈折率の光学恒数を有し、精密プレス成形しやすく、寸法精度の高い光学素子を製造できる光学ガラスの提供を目的とする。
【解決手段】屈折率nが2.0以上、アッべ数νが19以下、かつ内部透過率5%(10mm)を示す波長λが410nm以下である、Bi、B、TeO、Pを必須成分とする光学ガラスであって、好ましくは、酸化物基準のmol%で、Bi:32〜55、B:24〜34、TeO:10〜20、P:8〜12、Nb+Ta:0.1〜4、TiO:0〜10、ZnO:0〜7、を含有する。 (もっと読む)


【課題】ガラス基板全体を加熱することができないような場合においても、封着材料層を良好に形成することを可能にした封着材料層付きガラス部材の製造方法を提供する。
【解決手段】封着ガラスとレーザ吸収材とを含む封着材料を有機バインダと混合して調製した封着材料ペーストを、ガラス基板2の封止領域上に枠状に塗布する。封着材料ペーストの塗布層8に沿って第1のレーザ光9を照射し、塗布層8を選択的に加熱して有機バインダを除去する。続いて、脱バイ層10に沿って第2のレーザ光11を照射し、脱バイ層10を選択的に加熱することによって、封着材料を焼成して封着材料層7を形成する。このような封着材料層7を用いて、2枚のガラス基板間を封止する。 (もっと読む)


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