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ガラス複合シートの製造方法及びガラス複合シート
【課題】高性能なガラス複合シートの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス複合シート2の製造方法は、ガラス粉末と機能材粉末とを混合して混合粉末1を得る工程と、混合粉末1をロールプレス成形することによりガラス複合シート2を得る成形工程とを備える。
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封着材料層付きガラス基板及びこれを用いた有機ELデバイス
【課題】有機ELディスプレイ等の信頼性を高めたレーザー封着に好適な封着材料層付きガラス基板を提供する。
【解決手段】封着材料を焼結させた封着材料層を備える封着材料層付きガラス基板において、封着材料が少なくとも無機粉末を含み、無機粉末がガラス粉末と耐火性フィラーを含み、無機粉末中の耐火性フィラーの含有量が10〜35体積%であり、封着材料層の表面粗さRaが0.5μm未満であることを特徴とする封着材料層付きガラス基板。
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絶縁膜組成物
【課題】 耐電圧、耐摩耗性、熱伝導率、および耐スクラッチ性が一層高い絶縁膜や保護層(以下、絶縁膜等という)を形成し得る絶縁膜組成物を提供する。
【解決手段】 ガラスを主成分とする厚膜絶縁ペーストには、アルミナ粉末が含まれているため、定着ヒータの絶縁膜やサーマルプリントヘッドの保護層に好適で、硬度が高く延いては耐摩耗性や耐スクラッチ性が高く、且つ熱伝導率や耐電圧が高い絶縁膜等を得ることができる。アルミナ粉末のアスペクト比が1.2以下と小さいことから充填密度が得られるので絶縁膜の硬度等の改善効果が一層高められる。アルミナ粉末の体積比率が25(%)以上と大きいことから、硬度や熱伝導率等の改善効果が一層高められ、体積比率が60(%)未満に留められていることから、強固な絶縁膜等を得ることができる。
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強化ガラス板の製造方法
【課題】本発明の技術的課題は、製造コストを高騰させることなく、ガラス板(特に無アルカリ又は低アルカリのガラス板)を強化処理し得る方法を創案することである。
【解決手段】本発明の強化ガラス板の製造方法は、ガラス板を熱処理して、ガラス板の表面領域のSiO2の含有量を、ガラス板の表面から深さ1μmの内部領域に比べて、質量基準で1.03倍以上に増加させることにより、ガラス板を強化処理することを特徴とする。
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真空紫外発光素子及び中性子検出用シンチレーター
【課題】フォトリソグラフィー、半導体や液晶の基板洗浄、殺菌、次世代大容量光ディスク、及び医療(眼科治療、DNA切断)等に好適に使用できる新たなリチウムガラスからなる真空紫外発光素子及び散乱中性子を1次中性子やX線から分離して測定することが可能な中性子検出用シンチレーターを提供する。
【解決手段】リチウムガラス材料20Al(PO3)3−80LiFに対してNdF3又はErF3が添加されたリチウムガラスからなる真空紫外発光素子及び中性子検出用シンチレーター。
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強化ガラス及びその製造方法
【課題】従来の要求特性を満たすと共に、エッチングにより複数の強化ガラス片に分断し易い強化ガラスを提供する。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する強化ガラスであって、ガラス組成として、モル%で、SiO245〜75%、Al2O33〜15%、Li2O0〜12%、Na2O0.3〜20%、K2O0〜10%、MgO+CaO1〜15%を含有し、モル比(Al2O3+Na2O+P2O5)/SiO2が0.1〜1、モル比(B2O3+Na2O)/SiO2が0.1〜1、モル比P2O5/SiO2が0〜1、モル比Al2O3/SiO2が0.01〜1、モル比Na2O/Al2O3が0.1〜5であると共に、強化処理後にエッチングにより切断され、表面又は端面はエッチングされてなることを特徴とする。
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ガラス組成物
【課題】環境負荷の大きい酸化ヒ素や酸化アンチモンの使用量が少なく、しかも残泡の少
ないガラス組成物を提供する。
【解決手段】このガラス組成物は、質量%で表示して、SiO2:40〜70%,B2O3
:5〜20%,Al2O3:10〜25%,MgO:0〜10%,CaO:0〜20%,S
rO:0〜20%,BaO:0〜10%,Li2O:0〜0.5%,Na2O:0〜0.5
%,K2O:0〜0.5%,Cl:0%を超え1.5%以下,を含み、Li2O+Na2O
+K2Oが0.06%を超える範囲にある。このガラス組成物は、例えば、ガラス原料の
一部として塩化物を用いることにより好適に製造できる。
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電気伝導性を有するC12A7系酸化物融液又はガラス材料及びそれらの製造方法
【課題】ガラス基板やプラスチック基板上に薄膜を低温で大面積で形成できるなどの有用性も期待できる、低い仕事関数を持ちながら導電性を有し、かつ非晶質である酸化物材料を提供する。
【解決手段】C12A7系酸化物の組成を有し、電子濃度2×1018/cm3以上2.3×1021/cm3以下を包接する、C12A7系酸化物を溶媒とし電子を溶質とする溶媒和からなる融液であり、金属的な電気伝導性を示す導電性酸化物融液、あるいは非晶質固体物質であり、また半導体的な電気伝導性を示す導電性酸化物ガラス。このガラス材料は、仕事関数が3.0〜4.1eVであり、上記融液を酸素分圧1Pa以下の還元雰囲気中で非晶質の固体が形成される冷却速度で冷却凝固することにより得られる。
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強化ガラス、強化用ガラスおよび強化ガラスの製造方法
【課題】高い機械的強度を有しつつ、軟化点が低い強化ガラスを創案することにより、特定形状、例えば曲面形状を有する化学強化ガラスおよび化学強化用ガラスを提供する。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する強化ガラスであって、ガラス組成として、質量%で、SiO2 45〜75%、Al2O3 0〜30%、Li2O+Na2O+K2O 0.1〜30%含有し、且つβ−OH値が0.3〜1/mmであり、平板形状以外の形状を有することを特徴とする。
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光拡散ガラス部材
【課題】ガラス表面を粗面化することなく、十分な表面強度を有して、可視域を超える広い範囲でフラットな透過率特性を有する光拡散ガラス部材を提供する。
【解決手段】ガラス中に結晶相を有し、酸化物換算による重量%表示で、SiO2を35〜70%、Al2O3を0〜8.0%、B2O3を15〜35%、Na2O、K2O、Li2Oから選択される成分を全体で3〜10%、CaO、Y2O3から選択される成分を全体で6〜20%、及び、Sb2O3を0〜1%、を含有して構成され、厚さ2.0mmの部材で評価して、波長400nm〜2500nmについて全光線平均透過率が5〜50%であり、前記全光線平均透過率に対する透過率偏差の平均値が、400nm〜2500nmの波長領域において4.0%以下である。
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計測器校正用の光学ガラスフィルタ
【課題】透過率の極小領域の近くに極大領域が存在し、その極大領域の透過率が高い光学ガラスフィルタを提供する。
【解決手段】酸化物換算による重量%表示で、SiO2を12%〜45%、B2O3を10%〜40%、Al2O3を0〜9.0%、Li2O、Na2O、K2Oの任意の組合せを総量で1%〜10%、BaO、CaO、MgO、SrO、ZnOの任意の組合せを総量で1%〜40%、Y2O3を0%〜20%、ZrO2を0%〜7.0%、及び、Ho2O3を1.0%〜20.0%含有し、波長範囲270〜300nmに透過率の極小点を有し、この極小点より低波長側10nmの波長範囲内に、極小点の透過率の二倍以上の透過率を有する極大点を有する。
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ガラス板の製造方法およびディスプレイ装置用化学強化ガラス
【課題】本発明は、誘電加熱により化学強化ガラスを切断する速度を上昇させて、ガラス板の生産効率を向上することを課題とする。
【解決手段】本発明は、下記工程(1)および(2)を含むガラス板の製造方法に関する。
(1)Al2O3を3モル%以上含有し、Li2OおよびNa2Oの少なくとも一方を含有し、アルカリ金属の酸化物の総含有量R2Oに対するLi2OまたはNa2Oの含有量のモル比Li2O/R2OまたはNa2O/R2Oが、0.9以上であるアルミノシリケートガラスを化学強化して化学強化ガラス板を得る工程
(2)工程(1)で得られた化学強化ガラス板の所定領域に交番電界を印加することによって、該所定領域を徐冷点以下の温度で誘電加熱し、化学強化ガラス板の表面上の切断予定線に沿って交番電界を印加する領域を移動させることで、該化学強化ガラス板を切断する工程
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強化ガラス基板及びその製造方法
【課題】ガラスのイオン交換性能と耐失透性を両立させることによって、機械的強度の高いガラスを得ることを技術的課題とする。
【解決手段】表面に圧縮応力層を有する強化ガラス基板であって、ガラス組成として、質量%でSiO2 40〜70%、Al2O3 12〜21%、B2O3 0〜6%、Li2O 0〜1%、Na2O 7〜20%、K2O 0〜4%、TiO2 0〜4%を含有し、質量比K2O/Na2Oが0〜0.2であり、且つ液相粘度が105.0dPa・s以上であることを特徴とする。
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光学ガラス
【課題】(1)環境上好ましくない成分を実質的に含有しない、(2)低ガラス転移点を有する、(3)高屈折率かつ低分散である、(4)プリフォーム成形時の耐失透性に優れる、といった要求をすべて満足することが可能な光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量%で、SiO2 0〜10%、B2O3 5〜30%、Li2O 0〜0.1%未満、ZnO 3.1〜14.5%、ZrO2 0〜8%、La2O3 25〜41%、Gd2O3 0〜30%、TiO2 0〜8%、Nb2O5 0〜10%、Ta2O5 0〜12%およびWO3 0〜10%を含有し、鉛成分、ヒ素成分およびフッ素成分を実質的に含有せず、かつ、屈折率が1.846以上、アッベ数が30〜45、ガラス転移点が650℃以下であることを特徴とする光学ガラス。
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半導体パッケージ用カバーガラス
【課題】半導体パッケージ用カバーガラスの透光面を研磨することなく平滑にすることによって、研磨に伴う各種問題を解消することを技術的課題とする。
【解決手段】この半導体パッケージ用カバーガラス10は、板厚方向に相対向する第1透光面10a及び第2透光面10bと、周縁を構成する側面10cとを備えた板状ガラスである。このカバーガラス10の寸法は、14×16×0.5mmであり、第1透光面10a及び第2透光面10bは無研磨面であり、その表面粗さ(Ra)は、いずれも0.5nm以下である。
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ガラス組成物、それを含むガラスフリット、それを含むガラスペースト、およびそれを利用した電気電子部品
【課題】従来の低融点鉛ガラスと同等以下の焼成温度で軟化流動可能な無鉛ガラス組成物を提供する。また、その特性に加えて、良好な熱的安定性や良好な化学的安定性を有する無鉛ガラス組成物を提供する。
【解決手段】本発明に係る無鉛ガラス組成物は、成分を酸化物で表したときにAg2OとV2O5とTeO2とを少なくとも含有し、Ag2OとV2O5とTeO2との合計含有率が75質量%以上であることを特徴とする。好ましくは、10〜60質量%のAg2Oと、5〜65質量%のV2O5と、15〜50質量%のTeO2とを含有する。
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質量分析用途に用いる成形用セラミックス
【課題】質量分析用途に用いる成形用セラミックスを提供する。
【解決手段】RF部材のオーバーモールドに適した、アルカリ土類金属酸化物、例えばSrOを含むガラスセラミックは、良好なRF応答および良好な機械的強度を提供する。具体的には、SrOは、RFおよび機械的性能を維持しながら、セラミックの流動温度を低下させる。得られるガラス配合物は、10〜50モル%のSrO、5〜30モル%のAl2O3および20〜60モル%のB2O3を含有する。
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ディスプレイ用カバーガラス
【課題】本発明は、ガラスの軟化点温度が低く、その後の化学強化法によりガラスの強化が可能なディスプレイ用カバーガラスを提供することを目的とする。
【解決手段】ディスプレイ用カバーガラスであり、該カバーガラスは、熱軟化状態のガラス体をプレス成形加工され、かつ該ガラス体の表層部にイオン交換によって圧縮層が形成されたものであり、該圧縮層が形成されていない部位が、質量%表示で、SiO2:50〜70、Al2O3:1〜22、ZrO2:0〜8、B2O3:0〜8、R2O:10〜30(RはLi、Na及びKからなる群から選ばれる少なくとも1つ)、MO:0〜20、(MはMg、Ca、Sr及びBaからなる群から選ばれる少なくとも1つ)、のガラス組成物からなり、該ガラス組成物はR2OとしてLi2Oを少なくとも1質量%有し、Al2O3とZrO2とを少なくとも合計で6質量%有し、軟化点温度が650℃以下であること。
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電気化学リアクター
【課題】電気化学セルを安定した状態で導電性接続部材に接合した接合構造を有する電気化学リアクターを提供すること。
【解決手段】本発明によって提供される電気化学リアクター(20)は、固体電解質を備える電気化学セル(10)と導電性接続部材(24)との接合が、該セルと該接続部材との直接的な接触を回避して該セルと該接続部材との間に配置された導電性接合材(30)を介して行われており、その接合材は、ガラスマトリックスと導電性粒子とを有し、ここで該ガラスマトリックスは酸化物換算の質量比で以下の組成:
SiO2 60〜75質量%;
Al2O3 5〜15質量%;
Na2O及び/又はK2O 15〜25質量%;
CaO及び/又はMgO 1〜5質量%;
から実質的に構成されている。
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基板用ガラスおよびガラス基板
【課題】高記録密度化に好適な割れにくい基板用ガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準のモル%表示で、SiO2を66〜77%、Al2O3を7〜17%、B2O3を0〜7%、Li2Oを0〜9%、Na2Oを0〜8%、K2Oを0〜3%、MgOを0〜13%、CaOを0〜6%、TiO2を0〜5%、ZrO2を0〜5%含有し、SO2、Al2O3およびB2O3の含有量の合計SiO2+Al2O3+B2O3が81〜92%、Li2O、Na2OおよびK2Oの含有量の合計Li2O+Na2O+K2Oが3〜9%、MgOおよびCaOの含有量の合計MgO+CaOが4〜13%、Na2O、K2OおよびCaO含有量の合計Na2O+K2O+CaOが0〜10%、TiO2およびZrO2の含有量の合計TiO2+ZrO2が0〜5%である基板用ガラス。
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