【課題】板厚が薄い状態で高い強度を示し、機器に装着した際に機器の薄型化を図ることが可能である携帯端末用カバーガラスを提供すること。
【解決手段】本発明の携帯端末用カバーガラス１は、板状のガラス基板の主表面にレジストパターンを形成した後、前記レジストパターンをマスクとして、エッチャントで前記ガラス基板をエッチングすることにより所望の形状に切り抜かれてなる、携帯端末の表示画面を保護するカバーガラス１であって、前記カバーガラス１の端面は、溶解ガラス面で構成されてなり、且つ、前記端面の表面粗さは、算術平均粗さＲａが１０ｎｍ以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ガラス表面の強度を十分に強化することができ、しかも高い製造効率で安定した品位の強化板ガラスを製造するための強化板ガラスの製造方法とこの製造方法によって得られる強化板ガラスを提供する。
【解決手段】アルミノシリケートガラスであって、板厚方向に相対向する板表面にそれぞれ化学強化による圧縮応力層を有し、板端面に、圧縮応力が形成されている領域と圧縮応力が形成されていない領域とを有し、前記板表面の形状が多角形であり、且つ前記多角形の角部がＣ面又はＲ面の形状を有する。 （もっと読む）

【課題】屈折率（ｎ_ｄ）及びアッベ数（ν_ｄ）が所望の範囲内にありながら、部分分散比（θｇ，Ｆ）が小さく、且つ可視光に対する透明性が高められた光学ガラスと、これを用いたプリフォーム及び光学素子を提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成のガラス全物質量に対して、モル％でＳｉＯ_２成分を６０．０％以下、及び、Ｔａ_２Ｏ_５成分を２５．０％以下含有し、部分分散比（θｇ，Ｆ）がアッベ数（ν_ｄ）との間で、ν_ｄ≦２５の範囲において（−０．００１６０×ν_ｄ＋０．６３４６０）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００５６３×ν_ｄ＋０．７５５７３）の関係を満たし、ν_ｄ＞２５の範囲において（−０．００２５０×ν_ｄ＋０．６５７１０）≦（θｇ，Ｆ）≦（−０．００３４０×ν_ｄ＋０．７００００）の関係を満たす。 （もっと読む）

【課題】薄膜電気回路が形成される基板に要求される品位を満たす１００μｍ以下のガラス基板の製造方法と、この方法により得られる薄板ガラス基板を提供する。
【解決手段】板厚が１０〜２００μｍのガラス基板を製造する方法であって、溶融ガラスをダウンドロー法にてリボン状に成形する成形工程と、ガラスリボンを徐冷する徐冷工程と、ガラスリボンを切断する切断工程とを含むガラス基板の製造方法であって、（徐冷点＋２００℃）〜（徐冷点＋５０℃）の温度範囲における平均冷却速度を３００〜２５００℃／分の範囲に調節することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ケイ酸塩ガラス中のシードの濃度を低減するための清澄剤を提供する。
【解決手段】本清澄剤は、水源として作用する、水和物または水酸化物など、少なくとも１種類の無機化合物を含む。１つの実施の形態では、清澄剤は、さらに、少なくとも１種類の多価金属酸化物、および、随意的に酸化剤を含む。約１シード／ｃｍ³未満のシード濃度を有する、溶融形成かつイオン交換可能なケイ酸塩ガラスも提供する。ケイ酸塩ガラスのシード濃度を低減する方法、および約１シード／ｃｍ³未満のシード濃度を有するケイ酸塩ガラスを製造する方法についても記載する。 （もっと読む）

【課題】６００℃〜９００℃の中間温度範囲にある封止温度で水素ガス透過に対して耐性がある封止材料を提供する。
【解決手段】モル％で、２０〜３０％のＳｉＯ₂、０〜１５％のＳｒＯ、０〜８％のＫ₂Ｏ、０〜６％のＭｇＯ、２０〜３０％のＣａＯ、０〜１０％のＡｌ₂Ｏ₃、３５〜４５％のＢ₂Ｏ₃の組成を有し、アルカリの総量が１０モル％未満であるガラスフリットを含む封止材料。 （もっと読む）

【課題】（１）環境上好ましくない成分を実質的に含有しない、（２）低ガラス転移点を有する、（３）高屈折率かつ低分散である、（４）プリフォームガラス作製時の耐失透性に優れる、といった要求をすべて満足することが可能な光学ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量％で、ＳｉＯ_２ ０〜２１％、Ｂ_２Ｏ_３ ６．５〜３０％、ＺｎＯ ０〜１５．５％、ＺｒＯ_２ ０〜８％、Ｌａ_２Ｏ_３ ３６．６〜６５％、Ｇｄ_２Ｏ_３ ０〜１６％、Ｔａ_２Ｏ_５ １〜１８％、Ｎｂ_２Ｏ_５ ０〜８％未満、ＷＯ_３ ０．１〜２５％、Ｌｉ_２Ｏ ０．１〜５％を含有し、屈折率が１．８６以上であり、かつ、鉛成分、砒素成分およびＦ成分を実質的に含有しないことを特徴とする光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】リチウムイオン二次電池等の電池用材料、電解コンデンサ、電気二重層キャパシタ等の蓄電材料や表示素子等の電気化学デバイスへの応用が期待される高いイオン伝導性、熱的・電気化学的に安定性が高い固体電解質の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】硫化リチウムおよびその他の硫化物を必須成分として含む無機材料原料から得られる無機固体電解質の製造方法において、該無機材料原料を混合粉砕する機械的処理工程および加熱処理工程を含み、各工程を交互に複数回繰り返すことを特徴とする、無機固体電解質の製造方法。 （もっと読む）

【課題】熱収縮率のばらつきの小さい無アルカリガラス基板とその製造方法を提供する。
【解決手段】常温から１０℃／分の速度で昇温し、保持温度４５０℃で１０時間保持し、１０℃／分の速度で降温（図１に示す温度スケジュールで熱処理）したときの熱収縮率の絶対値が５０ｐｐｍ以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】CdSeやCdSの有害物質を添加しなくとも、その有害物質を添加した赤色ガラスの色調と同様な、鮮やかな赤色の色調の赤色ガラスを提供することを課題とする。
【解決手段】本発明の赤色ガラスは、ソーダ石灰ガラスの酸化物組成がＳｉＯ_２及びＡｌ_２Ｏ_３に、Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏなどのアルカリ金属酸化物及びＣａＯなどのアルカリ土類金属酸化物を含有し、着色剤が上記ソーダ石灰ガラスの酸化物組成の全重量に対して、モリブデンを０．０３〜０．０９重量％の範囲で、ネオジムを０．９〜３．７重量％の範囲で含有し、着色助剤が炭素を０．６〜１．３重量％の範囲で、硫黄を０．２９〜０．４７重量％の範囲で含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】原料の一部が未反応になる事態を防止しながら、従来よりも低温で作製可能であり、しかも封着材料等の熱膨張係数を適正に低下させ得る耐火性フィラーを創案する。
【解決手段】本発明の耐火性フィラーは、主結晶（最も析出量が多い結晶）として、ウイレマイトが析出している耐火性フィラーにおいて、組成として、モル％で、ＺｎＯ ５０〜８０％、ＳｉＯ_２ １０〜４０％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０．１〜１０％を含有すると共に、ウイレマイト：Ａｌ系結晶の割合が、モル比で、１００：０〜９９：１であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 低温での加熱処理により相分離処理を行い、孔径、空孔率の制御が可能な多孔質ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】 ＳｉＯ_２の濃度が５０ｗｔ％以上７０ｗｔ％以下、Ｂ_２Ｏ_３の濃度が１５ｗｔ％以上４０ｗｔ％以下、Ｌｉ_２Ｏの濃度が１．０ｗｔ％以上８．０ｗｔ％以下、Ｎａ_２Ｏの濃度が２．０ｗｔ％以上８．０ｗｔ％以下、Ｋ_２Ｏの濃度が０．３ｗｔ％以上５．０ｗｔ％以下であり、Ｌｉ_２ＯとＮａ_２ＯとＫ_２Ｏの濃度の合計が３．５ｗｔ％以上１５ｗｔ％以下であり、Ｋ_２Ｏの濃度がＬｉ_２ＯとＮａ_２ＯとＫ_２Ｏの濃度の合計に対して０．１０以上０．３０以下の比率である母体ガラスを、３００℃以上５００℃以下の温度、３時間以上５０時間以下で加熱して相分離させて相分離ガラスを形成する工程と、相分離ガラスをエッチングして多孔質ガラスを形成する工程と、を有することを特徴とする多孔質ガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】 酸化ケイ素の含有割合が多くても相分離を起し、強度が高い多孔質ガラスを製造することができるホウケイ酸塩ガラスおよびそれを用いた多孔質ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】 酸化ケイ素６０重量％以上７２重量％以下、酸化ホウ素１８重量％以上３０重量％以下、酸化ナトリウム９．５重量％以上１５重量％以下、酸化セリウム０．１重量％以上５．０重量％以下を含有するホウケイ酸塩ガラス。前記ホウケイ酸塩ガラスを加熱による分相処理をしてシリカリッチ相と非シリカリッチ相に相分離させる工程、前記非シリカリッチ相を溶液によるエッチングにより溶出させる工程を有する多孔質ガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】光反射率が高くかつ腐食による反射率の低下の少ない光反射層を備え、光の取出し効率が向上された発光素子搭載基板を提供する。
【解決手段】表面に反射層としての銀導体層２が形成された無機材料基板１からなり、この銀導体層２の上に発光素子６が搭載される発光素子搭載基板であって、銀導体層２が、ペースト体の焼成により形成されており、銀導体層２を覆うように無機材料基板２に焼き付けて形成した厚み５〜２０μｍのオーバーコート層３を有しており、このオーバーコート層３が酸化物基準のモル％表示でＳｉＯ_２を６２〜８４％、Ｂ_２Ｏ_３を１０〜２５％、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜５％、Ｎａ_２ＯおよびＫ_２Ｏのいずれか１以上を合計で０〜５％、含有し、ＳｉＯ_２とＡｌ_２Ｏ_３の含有量の合計が６２〜８４％、ＭｇＯを０〜１０％、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯのいずれか１以上を含有する場合にその含有量の合計が５％以下のホウケイ酸ガラスである。 （もっと読む）

【課題】環境負荷の大きい酸化ヒ素や酸化アンチモンの使用量が少なく、しかも残泡の少ないガラス組成物を提供する。
【解決手段】このガラス組成物は、質量％で表示して、ＳｉＯ₂：４０〜７０％，Ｂ₂Ｏ₃：５〜２０％，Ａｌ₂Ｏ₃：１０〜２５％，ＭｇＯ：０〜１０％，ＣａＯ：０〜２０％，ＳｒＯ：０〜２０％，ＢａＯ：０〜１０％，Ｌｉ₂Ｏ：０〜０．５％，Ｎａ₂Ｏ：０〜０．５％，Ｋ₂Ｏ：０〜０．５％，Ｃｌ：０％を超え１．５％以下，を含み、Ｌｉ₂Ｏ＋Ｎａ₂Ｏ＋Ｋ₂Ｏが０．０６％を超える範囲にある。このガラス組成物は、例えば、ガラス原料の一部として塩化物を用いることにより好適に製造できる。 （もっと読む）

【課題】表面の平坦度が高く、板厚が均一で、且つ表面粗さが良好な磁気ディスク用ガラスブランクを提供する。
【解決手段】一対の主表面と端面を有し、磁気ディスク用ガラス基板となる磁気ディスク用ガラスブランクであって、主表面の平坦度が４μｍ以下であり、厚さのばらつきが６μｍ以内であることを特徴とする磁気ディスク用ガラスブランクが提供される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、従来技術では作製することができなかった、両面が平滑な表面であるフレーク状ガラス体を提供することを課題とする。
【解決手段】両面が平滑な表面とするために、従来の製造方法のようにローラーや基板などの成形・加工装置表面にガラスを接触させることなく、非接触でフレーク状ガラス体を作製する。本発明により得られた両面が平滑な表面であるフレーク状ガラス体は、両面の平滑性が高いため、従来のフレーク状ガラス体に比べより高い光輝感が得られる。 （もっと読む）

【課題】塩化物系の混合塩からなる電解質融液中のＣｓ又はＳｒ、例えば、塩化物系使用済電解質融液中に残留するＦＰであるＣｓ又はＳｒを選択的に収着することで、電解質の再生が簡便化出来る収着材料が求められている。
【解決手段】Ｆｅ_２Ｏ_３を必須成分とし、モル％で表して、Ｆｅ_２Ｏ_３が１〜５０、Ｐ_２Ｏ_５が５０〜８０、かつ、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｂ_２Ｏ_３、ＴｉＯ_２、ＣｏＯ、ＮｉＯ、ＣｅＯ_２、Ｃｒ_２Ｏ_３、Ｌａ_２Ｏ_３、ＭｏＯ_３、Ｎｂ_２Ｏ_５、ＷＯ_３から選択される１種以上の合計が１〜４０のＦｅ_２Ｏ_３−Ｐ_２Ｏ_５系ガラスからなり、塩化物系の混合塩からなる電解質融液中のＣｓ又はＳｒを選択的に収着することを特徴とする収着材料。ガラス転移点が４５０℃以上である特徴も持つ。 （もっと読む）

【課題】ガラスそのものの脆さを改善し加工時に発生する不可避な残存クラックの伸展を防ぎつつ、また深い表面応力層を得やすくすることにより発生した残存クラックを表面圧縮応力層に容易に取り込むことが可能で、かつ外力による傷の発生がしにくい化学強化板ガラスの提供。
【解決手段】下記酸化物基準の質量百分率表示で、ＳｉＯ_２を７５．５〜８５．５％、ＭｇＯを１〜８％、ＣａＯを０〜７％、Ａｌ_２Ｏ_３を０〜５％、Ｎａ_２Ｏを１０〜２２．５％を含有し、ＭｇＯの含有量がＣａＯの含有量より多く、ＭｇＯおよびＣａＯの含有量の合計（ＭｇＯ＋ＣａＯ）が８％以下、ＭｇＯ、ＣａＯおよびＮａ_２Ｏの含有量の合計が２４．５％以下、（ＭｇＯ＋ＣａＯ）をＮａ_２Ｏ含有量で除して得られた比が０．４５以下である化学強化用板ガラス。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成で、盗撮防止対象物上の画像の盗撮を防止することができる盗撮防止シートを提供する。
【解決手段】赤外蛍光体粒子１４Ｂを含む赤外発光層１４を備えた盗撮防止シート１０を、表示装置等の表示画面等の盗撮防止対象物上に設置すると、表示画面から放射された可視光や自然光に含まれる可視光によって赤外発光層１４中の赤外蛍光体粒子１４Ｂが赤外光を発光する。このため、表示画面上に表示された画像を、この盗撮防止シート１０を介して撮像装置によって撮像すると、ＣＣＤは赤外波長領域にも感度を有するため、赤外蛍光体粒子１４Ｂによる赤外光が撮像されることとなる。このため、赤外蛍光体粒子１４Ｂの発光による赤外光によって、表示画面に表示された画像が撮像装置によって撮像されることが阻害され、盗撮を防止することができる。 （もっと読む）