【課題】 精密モールドプレスにより、成形部材との融着や、モールドプレスにより、成形型部材との融着や、偏肉などが抑制され、光学性能の高い光学素子を製造するのに好適なモールドプレス用ガラス素材及び光学素子の製造方法を提供する。
【解決手段】 リン酸塩を含み、所定形状に予備加工したガラス素材の表面にアルカリ処理を施した後に、炭素含有膜を形成してなるモールドプレス用ガラス素材、および前記モールドプレス用ガラス素材を、加熱により軟化した状態でプレス成形する光学素子の製造方法である。 （もっと読む）

本発明は、表面研磨容易性に優れ、極めて固く、かつ耐破損性であるガラスセラミックの製造に用いられる結晶性アルミノケイ酸マグネシウム含有ガラスに関する。本発明に係るガラスはＳｉＯ_２を５〜３３質量％、Ａｌ_２Ｏ_３を２５〜４０質量％、ＭｇＯを５〜２５質量％、Ｂ_２Ｏ_３を０〜１５質量％、Ｙ_２Ｏ_３、Ｌｎ_２Ｏ_３、Ａｓ_２Ｏ_３及び／またはＮｂ_２Ｏ_５を０．１〜３０質量％、及びＰ_２Ｏ_５を０．１〜１０質量％含有する。 （もっと読む）

【課題】所定の透過率特性（可視光線透過率が高く、近赤外線の透過率が低い）を発揮し、しかも優れた化学的耐久性を有する近赤外線カットガラスを提供する。
【解決手段】ガラス全体量を１００重量％とし、酸化物組成として、
（１）Ｐ₂Ｏ₅：５１〜６０重量％、
（２）ＺｎＯ：１７〜３３重量％、
（３）Ａｌ₂Ｏ₃：１〜６重量％、
（４）Ｌｉ₂Ｏ：０〜５重量％、Ｎａ₂Ｏ：０〜１０重量％及びＫ₂Ｏ：０〜１５重量％であって、Ｌｉ₂Ｏ、Ｎａ₂Ｏ及びＫ₂Ｏの合計量として５〜１７重量％、
（５）ＭｇＯ：０〜７重量％及びＣａＯ：０〜７重量％であって、ＭｇＯ及びＣａＯの合計量として１〜１２重量％、
（６）Ｂ₂Ｏ₃：０〜５重量％
（７）Ｙ₂Ｏ₃、Ｌａ₂Ｏ₃、Ｔａ₂Ｏ₅及びＷＯ₃からなる群から選択された少なくとも１種：０〜１０重量％、並びに
（８）ＣｕＯ：０．２〜８重量％
を含有するリン酸塩系ガラスからなる近赤外線カットガラス。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、多成分ガラス粉末、特に従来のガラス粉末と比較して改善された活性を示す多成分ガラスを提供すること。更にはその製造方法並びにその使用を提供する。
【解決手段】本発明はガラス粉末、特に少なくとも三つの元素を有する多成分ガラスからなるガラスセラミック粉末。より詳細には、１μｍ以下、好ましくは０．１μｍ以下の平均粒子径を有するガラス粉末またはガラスセラミック粉末である。特に１０ｎｍ以下の平均粒子径が好ましい。そのような構成により、多様な分野への適用が可能となる。 （もっと読む）

この発明は、屈折率が少なくとも１．５５で、以下の重量％をもつ、５０％以上のＳｉＯ_２、０．６％以上４％以下のＢ_２Ｏ_３、３％以下のＫ_２Ｏ、１２％以上１５％以下のＮａ_２Ｏ、４％以上１１％以下のＣａＯ、４．５％以上のＺｎＯ、０．２５％以上５％以下のＡｌ_２Ｏ_３、５％以下のＴｉＯ_２、並びに２％以下のＭｇＯ、特に６０％以下のＳｉＯ_２および８−１６％のＺｎＯを含み、Ｐｂ、Ｂａ、Ａｓの各酸化物の全量が０．１％未満、Ｔｉ、Ｌａの各酸化物の全量が５％未満、Ｎｂ、Ｔａ、Ｙｂ、Ｙ、Ｗ、Ｂｉ、Ｚｒの各酸化物の全量が５％未満で、さらにＮｂ、Ｔａ、Ｙｂの各酸化物が多くとも１％、Ｙ、Ｗ、Ｂｉ、Ｚｒの各酸化物が多くとも３％であることを特徴とする、鉛およびバリウムを含まないクリスタルガラスに関する。 （もっと読む）

本発明は、ＳｉＯ₂およびＹｂ₂Ｏ₃系に属し、必要ならば、その特性を調節するために添加剤を含有することができるＸ線不透過ガラスに関する。前記ガラスの製造方法およびその使用、特に歯科用ガラスの形態での使用もまた開示されている。 （もっと読む）

本発明は、特定の処理雰囲気を必要とせず、また溶融塩を用いることなく、ガラス基材の所望部位に対して容易に屈折率分布を形成できる屈折率分布型光学素子の製造方法を提供する。
具体的には、本発明は、アルカリ金属成分をガラス構成成分として含むガラス基材に、銅化合物、有機樹脂及び有機溶剤を含有するペーストを塗布し、ガラス基材の軟化温度より低い温度で熱処理することを特徴とする屈折率分布型光学素子の製造方法を提供する。 （もっと読む）

高い歪み点温度、耐失透性、良好な化学的耐久性、優れた誘電特性、シリコンのものに一致するように調整できる熱膨張係数、および従来の方法による成形を可能にする液相線粘度を有する安定なガラスを生成するＰ₂Ｏ₅−ＳｉＯ₂−Ａｌ₂Ｏ₃三成分系のガラスからなるフラット・パネル・ディスプレイ用ガラス基板が開示されている。このガラスは、酸化物基準の質量パーセントで計算して以下の組成：３３〜７５％のＰ₂Ｏ₅、２〜５２％のＳｉＯ₂、８〜３５％のＡｌ₂Ｏ₃を有する。
（もっと読む）

高い歪み点、透明度、および低い熱膨張係数を示す、ＳｉＯ₂−Ａｌ₂Ｏ₃−Ｐ₂Ｏ₅三成分系からのガラスの一群が開示されている。これらのガラスは、酸化物基準のガラスバッチから計算して、モルパーセントで表して、以下の組成：５５〜８０％のＳｉＯ₂、１２〜３０％のＡｌ₂Ｏ₃、および２〜１５％のＰ₂Ｏ₅を有する。
（もっと読む）

（ｉ）Ｎｂ₂Ｏ₅またはＴａ₂Ｏ₅の少なくとも１種と、（ｉｉ）（ａ）Ａｌ₂Ｏ₃、（ｂ）ＲＥＯ、または（ｃ）ＺｒＯ₂もしくはＨｆＯ₂の少なくとも１種の内の少なくとも２種とを含む、セラミックスである。本発明によるセラミックスの実施態様では、光導波路、ガラスビーズ、物品（たとえば、平板）、繊維、粒子（たとえば、研磨粒子）、および薄層コーティングの形態として製造したり、形成したり、またはそれらのものに転化させたりすることができる。
（もっと読む）

本発明は、リチウムアルミノケイ酸塩ベースのガラスセラミックの、表面により範囲が定められた本体からなる製品、およびその調製方法に関する。このガラスセラミックは、その表面の少なくとも一部に、本体内のガラスセラミックの結晶化度よりも大きい結晶化度の表面層を有することが特徴的である。 （もっと読む）

化学強化された情報記録媒体用ガラスにおいて、化学強化による強化層１３を、外周面および内周面に存在させるとともに、情報記録層が形成される上面１１及び下面１２に実質的に存在させないようにする。これにより高精度の基板研磨技術を必要とすることなく、平坦度などの形状精度および強度を向上させることができる。 （もっと読む）

（ｉ）Ｎｂ₂Ｏ₅またはＴａ₂Ｏ₅の少なくとも１種と、（ｉｉ）（ａ）Ａｌ₂Ｏ₃、（ｂ）Ｙ₂Ｏ₃、または（ｃ）ＺｒＯ₂もしくはＨｆＯ₂の少なくとも１種の内の少なくとも２種とを含む、セラミックスである。本発明によるセラミックスの実施態様では、光導波路、ガラスビーズ、物品（たとえば、平板）、繊維、粒子（たとえば、研磨粒子）、および薄層コーティングの形態として製造したり、形成したり、またはそれらのものに転化させたりすることができる。
（もっと読む）

【課題】構造材料それ自体としてまたは接着材料として使用できかつ極低温かつＮＭＲ装置が有する磁場の大きさにおいてほぼゼロの磁気モーメントを有する、エポキシまたは類似のアモルファス組成物の磁化率特性を改変する。
【解決手段】ＮＭＲ装置の部品の製造に使用できる、所望の値の磁化率を示す組成物およびその製造方法であって、前記組成物は、Ｇｄ⁺³、Ｆｅ⁺³およびＭｎ⁺²からなる群から選択される金属イオンと、アモルファス材料とを含み、リガンドまたはキレート剤を用いて前記金属イオンをアモルファス材料に溶解させる。前記組成物の磁化率は、７７゜Ｋ以下においてほぼゼロの磁化率のように、極低温において所望の値を示す。 （もっと読む）

シリカ又はケイ酸塩をマトリックスとするガラス成分、希土類元素及びガラス修飾成分を含有し、上記希土類元素は、Ｙ、Ｌａ、Ｇｄ及びＬｕからなる群より選ばれる１種以上の元素と、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ及びＹｂからなる群より選ばれる１種以上の元素と、を含み、上述のガラス修飾成分は、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｂ及びＡｌからなる群より選ばれる１種以上の元素を含み、波長１００ｎｍ未満の光子を入射されると、紫外光領域、可視光領域又は赤外光領域の光を発するガラスシンチレータ。 （もっと読む）

Ａｌ_２Ｏ_３およびＳｉＯ_２を含んでなるガラスおよびガラスセラミックの製造法。本発明に従って製造されたガラスを、ガラスビーズ、物品（例えば、プレート）、繊維、粒子および薄コーティングとして製造、形成、またはそれらへと変換することができる。本発明に従って製造されたガラスセラミック粒子のいくつかの実施形態は、研磨粒子として特に有用である。

（もっと読む）

本発明は、少なくとも５０重量％のチタニアと、少なくとも５重量％の酸化ビスマスとを含んでなるミクロスフィア（すなわち、ビーズ）に関する。このガラスミクロスフィアは、ジルコニアをさらに含んでなる。また本発明は、かかるミクロスフィアを含んでなる再帰反射性物品、特に路面表示にも関する。
（もっと読む）