【課題】
従来、半導体熱処理治具に一般に使用されてきた天然シリカ熔融石英ガラスは金属不純物、特に銅の拡散阻止能を持たない。金属不純物阻止能を有し、高温粘性の高い石英ガラスを提供する。
【解決手段】
高純度の合成シリカ粉を中性不活性雰囲気中結晶化した後に電気炉中溶解やプラズマ溶解することにより、酸素欠乏欠陥ＯＤＣＩＩ含有量を１０×１０^１５個／ｃｍ^３以下にし、かつＳｉ孤立電子対含有量を２×１０^１５個／ｃｍ^３以下にし、さらに含有Ｎａ濃度を０．０３ｗｔ．ｐｐｍ以下に抑えことにより、金属不純物拡散阻止能を有し、半導体熱処理時に粘性率の高い石英ガラスが得られる。 （もっと読む）

【課題】Ｌｉイオン伝導性が高い硫化物固体電解質ガラスを提供する。
【解決手段】ＧａＳ_３^３−構造を主成分とするイオン伝導体と、ＬｉＩとを有することを特徴とする硫化物固体電解質ガラス。ＬｉＩ（ＬｉＩ成分）を有するため、Ｌｉリッチとなり、Ｌｉイオン伝導性が高い硫化物固体電解質ガラスとすることができる。また、ＧａＳ３３−構造は、水（水分を含む）と接触しても、その構造が変化しないため、水に対する安定性が高い。 （もっと読む）

【課題】ガラス原料を高温で溶融してガラス化する段階を省略することにより、大量生産と製造コスト低減を可能にする、負の熱膨張係数を有する結晶化ガラスの製造方法の提供。
【解決手段】製造方法は、（ａ）組成物を秤量及び混合する段階と、（ｂ）混合した組成物をか焼する段階と、（ｃ）か焼した組成物を焼結する段階と、（ｄ）焼結した組成物を常温で炉冷すると段階を含み、結晶化ガラスは、シリカ（ＳｉＯ_２）３８％〜６４％と、アルミナ（Ａｌ_２Ｏ_３）３０％〜４０％と、酸化リチウム（Ｌｉ_２Ｏ）５％〜１２％とを基本組成として含み、前記基本組成にジルコニア（ＺｒＯ_２）０．５％〜１５％、二酸化チタン（ＴｉＯ_２）０．５％〜６．５％、五酸化リン（Ｐ_２Ｏ_５）０．５％〜４％、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）２％〜５％、及びフッ化マグネシウム（ＭｇＦ_２）０％〜５％から選択された１つ又はそれ以上の成分をさらに含む。 （もっと読む）

【課題】材料内部における物性の均一性や、異なる製造ロット間での物性の再現性に優れた結晶化ガラス、および、そのような結晶化ガラスを高い歩留まりで容易に低コストで製造する方法を提供すること。
【解決手段】結晶化ガラスの製造方法であって、原ガラスの屈伏点をＡｔ（℃）とする時、原ガラスをＡｔ（℃）から（Ａｔ＋１２０）℃の温度範囲で熱処理する結晶化前工程と、結晶化前工程の後、前記結晶化前工程より高い温度で熱処理する結晶化工程と、を少なくとも含む結晶化ガラスの製造方法。 （もっと読む）

【課題】Ａｓ_２Ｏ_３、Ｓｂ_２Ｏ_３の代替清澄剤としてＳｎＯ_２を用いたＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶化ガラスにおいて、Ｆｅ_２Ｏ_３やＴｉＯ_２等に起因する黄色の着色が少なく、かつ、優れた透明感を有する結晶化ガラスを得る。また、低熱膨張特性および低誘電損失特性を達成しやすい白色のＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶化ガラスを得る。
【解決手段】組成として質量％で、ＳｉＯ_２ ５５〜７５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ２０．５〜２７％、Ｌｉ_２Ｏ ２％以上、ＴｉＯ_２ １．５〜３％、ＴｉＯ_２＋ＺｒＯ_２ ３．８〜５％、ＳｎＯ_２ ０．１〜０．５％を含有し、３．７≦Ｌｉ_２Ｏ＋０．７４１ＭｇＯ＋０．３６７ＺｎＯ≦４．５かつＳｒＯ＋１．８４７ＣａＯ≦０．５の関係を満たすことを特徴とするＬｉ_２Ｏ−Ａｌ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２系結晶化ガラス。 （もっと読む）

【課題】従来技術の欠点を有さない透明なガラスセラミックスを提供する。
【解決手段】以下の組成：ＳｉＯ₂：６５〜７２、Ａｌ₂Ｏ₃：１８〜２４、Ｌｉ₂Ｏ：２〜５、ＭｇＯ：０〜４、ＺｎＯ：０〜４、ＺｎＯ＋ＭｇＯ：＜２．２、ＺｒＯ₂：１〜５、ＳｎＯ₂：＞０．５〜４、Ｎａ₂Ｏ：０〜１．５、Ｋ₂Ｏ：０〜１．５、ＢａＯ：０〜４、Ｆｅ₂Ｏ₃：０〜４を有する透明なガラスセラミックスを提供することによって解決される。 （もっと読む）

【課題】内部の気泡が少ないため薄型化しても配線の断線を引き起こしにくく、かつ高性能な高周波回路に十分対応可能な低誘電損失特性を有するガラスセラミック誘電体に好適な結晶性ガラス粉末を提供する。
【解決手段】熱処理によって、主結晶としてディオプサイド結晶を析出するとともに、長石結晶を析出することを特徴とする結晶性ガラス粉末、およびそれを焼成してなるガラスセラミック誘電体。 （もっと読む）

【課題】清澄剤としてＡｓ₂Ｏ₃を使用しなくても、表示欠陥となる泡が存在しない無アルカリガラス基板を製造することができる製造方法を提供する。
【解決手段】質量百分率でＳｉＯ₂ ５０〜７０％、Ａｌ₂Ｏ₃ １０〜２５％、Ｂ₂Ｏ₃ ５〜２０％、ＭｇＯ ０〜１０％、ＣａＯ ０〜１５％、ＢａＯ ０〜１０％、ＳｒＯ ０〜１０％、ＺｎＯ ０〜５％を含有し、かつＳｎＯ₂及び／又はＳｂ₂Ｏ₃を含むガラスとなるようにガラス原料調合物を用意し、該ガラス原料調合物を溶融し、成形して無アルカリガラス基板を製造する無アルカリ基板の製造方法であって、β−ＯＨ値が０．４８５／ｍｍ〜０．６５／ｍｍとなるようにガラス中の水分量を調節する。 （もっと読む）

【課題】透明樹脂の光学特性（屈折率ｎｄ、アッベ数νｄ）に整合し、且つアルカリ溶出量の少ない充填材やガラス繊維を創案することにより、樹脂複合体基板の透明性や信頼性を高める。
【解決手段】本発明の樹脂複合体基板用ガラスは、ガラス組成として、下記酸化物換算の質量％で、ＳｉＯ_２ ５０〜６５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ０〜２０％、Ｂ_２Ｏ_３ ０〜２０％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ＋ＺｎＯ（ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、及びＺｎＯの合量） ５〜２０％、Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ＋Ｋ_２Ｏ（Ｌｉ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、及びＫ_２Ｏの合量） ０〜５％、ＴｉＯ_２ ０〜１０％、ＺｒＯ_２ ０〜１０％、ＳｎＯ_２ ０〜２％を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】環境への負担が小さくて表面電荷密度が大きく、かつ化学耐久性に優れた半導体被覆用ガラスを提供する。
【解決手段】組成として質量％で、ＺｎＯ ４０〜６０％、Ｂ_２Ｏ_３ ５〜２５％、ＳｉＯ_２ １５〜３５％、Ａｌ_２Ｏ_３ ３〜１２％を含有し、鉛成分を実質的に含有しないことを特徴とする半導体被覆用ガラス、および当該半導体被覆用ガラスからなるガラス粉末を含むことを特徴とする半導体被覆用材料。 （もっと読む）

【課題】減圧雰囲気であっても、５００〜８００℃の中温度域で金属製二重容器を良好に封止可能なＳｎＯ−Ｐ_２Ｏ_５系ガラスからなる封止ガラスを創案することにより、長期間に亘って、金属製二重容器の気密性を確保すること。
【解決手段】本発明の封止ガラスは、ガラス組成として、モル％表示で、ＳｎＯ １５〜３０％（但し、３０％を含まず）、Ｐ_２Ｏ_５ ２０〜４０％、ＷＯ_３ ５〜２０％（但し、５％を含まず）、ＺｎＯ ３．４〜３０％（但し、３０％を含まず）を含有し、モル比ＳｎＯ／ＺｎＯが１以上４．５以下であると共に、金属製二重容器の封止に用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
焼きなまし速度の変化を通じて、透過特性の改善とＣＴＥの絶対値の調整の両方を同時に生じる、ＣＴＥの絶対値を調整する手段。
【解決手段】
１つの実施の形態では、本開示は、３４０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長において＞９０％／ｃｍ、３４０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長において＞９３％／ｃｍ、または、３４０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長において＞９５％／ｃｍの内部透過性を有するシリカ・チタニアガラスを対象とする。別の実施の形態では、本開示は、ガラスでできた光学系部材の全般的な透過性が、３４０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長において＞８４％、３４０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長において＞８６％、または３３０ｎｍ〜８４０ｎｍの波長において＞８８％である、シリカ・チタニアガラスを対象とする。さらなる実施の形態では、シリカ・チタニアガラスは、３重量ｐｐｍ未満のＴｉ⁺³濃度レベルを有する。 （もっと読む）

【課題】Ｓｂ_２Ｏ_３含有量を低減しつつ、可視域にて高透過率を維持することが可能な光学ガラスを提供する。
【解決手段】組成として質量％で、ＳｉＯ_２ ３５％以上、Ｓｂ_２Ｏ_３ ５０ｐｐｍ未満、Ｆｅ_２Ｏ_３ ３０ｐｐｍ未満を含有する光学ガラスであって、（Ｆｅ_２Ｏ_３含有量／全Ｐｔ含有量）の値が５．５〜１４であることを特徴とする光学ガラス。１０ｍｍ厚で測定した透過率の吸収端が３１０ｎｍ以下であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】本発明は、一段階の簡略な工程で加熱することなく結晶化ガラス状の硫化物固体電解質材料を得ることが可能な硫化物固体電解質材料の製造方法を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明においては、少なくとも硫黄（Ｓ）元素および第１３族〜第１５族の元素を含有する原料組成物を用い、室温での高エネルギーメカノケミカル処理を行う合成工程のみにより、結晶化ガラス状の硫化物固体電解質材料を得ることを特徴とする硫化物固体電解質材料の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】従来技術の欠点を有さない透明なガラスセラミックスを提供する。
【解決手段】少なくとも以下の組成：ＳｉＯ₂：６０〜７６；Ａｌ₂Ｏ₃：１８〜２４；Ｌｉ₂Ｏ：２〜５；ＭｇＯ：０〜１．５；ＺｎＯ：＞４〜８；ＺｒＯ₂：１〜５；ＳｎＯ₂：＞０．５〜４；Ｎａ₂Ｏ：０〜１；Ｋ₂Ｏ：０〜１；ＢａＯ：０〜４；Ｆｅ₂Ｏ₃：０〜０．１；Ａｓ₂Ｏ₃：０〜＜０．５（酸化物ベースに基づき質量％で記載）を有する透明なガラスセラミックスを提供することによって解決される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、非酸化雰囲気(減圧雰囲気、不活性雰囲気等)であっても、４５０〜８００℃の中温度域で金属製被封止物を良好に封止可能なＳｎＯ−Ｐ_２Ｏ_５系ガラスからなる封止用ガラスを創案することにより、長期間に亘って、封止部分の気密性を確保することを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の封止用ガラスは、金属製被封止物を封止するための封止用ガラスであって、ガラス組成として、モル％表示で、ＳｎＯ １５〜３０％（但し、３０％を含まず）、Ｐ_２Ｏ_５ ２０〜４０％、ＷＯ_３ ５〜２０％（但し、５％を含まず）、ＺｎＯ ３．４〜３０％（但し、３０％を含まず）を含有し、モル比ＳｎＯ／ＺｎＯが１以上４．５以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
ガラスの［ＯＨ］含有量および仮想温度の変化を通じて、低熱膨張性のシリカ・チタニアガラスの膨張性を調整および改善する。
【解決手段】
ガラスにおける［ＯＨ］濃度は６００〜２５００ｐｐｍの範囲でありうる。仮想温度Ｔ_Fは９００℃未満である。 （もっと読む）

【課題】Ｂｉ_２Ｏ_３を成分として含有しながらも、低い屈伏点を有し、且つ広い範囲の屈折率、高屈折率をもつ光学ガラスの提供を課題とする。
【解決手段】Ｂｉ_２Ｏ_３、Ａｇ_２Ｏ、Ｐ_２Ｏ_５からなる３成分の各１００モル％をそれぞれ正三角形の頂点とする３元系成分組成図上において、前記３成分が下記Ａ〜Ｇの７点を結ぶ線で囲まれる領域にある。Ａ：（Ｂｉ_２Ｏ_３、Ａｇ_２Ｏ）＝（２．５モル％、６０．０モル％）、Ｂ：（Ｂｉ_２Ｏ_３、Ａｇ_２Ｏ）＝（１２．５モル％、５０．０モル％）、Ｃ：（Ｂｉ_２Ｏ_３、Ａｇ_２Ｏ）＝（１２．５モル％、４２．５モル％）、Ｄ：（Ｂｉ_２Ｏ_３、Ａｇ_２Ｏ）＝（３２．５モル％、２．５モル％）、Ｅ：（Ｂｉ_２Ｏ_３、Ａｇ_２Ｏ）＝（１７．５モル％、２．５モル％）、Ｆ：（Ｂｉ_２Ｏ_３、Ａｇ_２Ｏ）＝（１７．５モル％、１０．０モル％）、Ｇ：（Ｂｉ_２Ｏ_３、Ａｇ_２Ｏ）＝（２．５モル％、２５．０モル％）。 （もっと読む）

【課題】危険な薬品を使用しなくとも、線引き時におけるガラスプリフォームの破断を抑制し、比較的幅が広い高性能の偏光ガラスを安定にかつ容易に製造する方法を提案することを目的とする。
【解決手段】金属ハロゲン化物粒子または金属粒子が分散されたガラスプリフォーム表面に、液相成膜法により金属酸化物薄膜を形成する。そして、その後金属酸化物薄膜が形成されたガラスプリフォームを線引きする。 （もっと読む）

【課題】特にリチウムイオン二次電池用固体電解質として好適なリチウムイオン伝導性材料を、安定かつ大量に製造することが可能な方法を提供する。
【解決手段】（１）組成としてリチウム、リンおよび硫黄を含有する複合化合物を溶融してガラス化させる工程、および、（２）溶融ガラスを急冷することにより硫化物ガラスを得る工程、を含むことを特徴とするリチウムイオン伝導性材料の製造方法、およびその製造方法により製造されたことを特徴とするリチウムイオン伝導性材料。 （もっと読む）