装甲複合材、及び、ガラスセラミックを含む第１の層と、力散逸物質と、第１の層の少なくとも一部を第２の層に貼り付ける接着剤と、を含む装甲複合材を作製するための方法。 （もっと読む）

【課題】環境にやさしく、半導体電子部品が、常用で１０００℃以上の耐熱性を有する半導体封止用ガラスセラミックス及び半導体電子部品を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の半導体封止用ガラスは、半導体とリード線の一部を被覆封止する半導体封止用ガラスであって、該ガラスが、封止することで結晶相を析出し、且つ、結晶相の割合が５０体積％以上となる性質を有する結晶性ガラス粉末からなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 屈折率（ｎｄ）及びアッベ数（νｄ）が大であり、かつ、ガラス転移温度（Ｔｇ）及び屈伏点（Ａｔ）が低く、高屈折率低分散で、溶融性及び安定性が高くて成形性の良好な精密プレス成形用光学ガラスを提供すること
【解決手段】 ＳｉＯ₂：９．０〜２５．０モル％、Ｂ₂Ｏ₃：１５．０〜３０．０モル％未満、ＧｅＯ₂：０〜７．０モル％、Ｌａ₂Ｏ₃：１０．０〜１８．０モル％、Ｇｄ₂Ｏ₃：５．０〜１３．０モル％、Ｔａ₂Ｏ₅：０〜６．０モル％、
Ｌｉ₂Ｏ：１０．０〜２６．０モル％、ＺｎＯ：１．０〜１０．０モル％、ＺｒＯ₂：０〜６．０モル％、ＴｉＯ₂：５．０を超え１０．０モル％以下、ＷＯ₃：０〜４．０モル％、及びＮｂ₂Ｏ₅：０〜３．０モル％、を含有する組成の精密プレス成形用光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】紫外線遮断性能を有するガラスについて、特定波長以下の紫外線のみをシャープに遮断する優れた透過特性を維持した上で、アルカリ成分による悪影響を低減することができる新規な改質方法を提供する。
【解決手段】ハロゲン化銅微粒子が全体又は一部に分散し且つＳｉＯ₂を含有する相を含む分相ガラスを酸溶液に接触させて、該分相ガラス表面の少なくとも一部に高ケイ酸層を形成することを特徴とする紫外線遮断ガラスの改質方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、高屈折率光学ガラスであり、非常に低いガラス転移点（Ｔｇ）を有し、かつ化学的耐久性に優れ、精密プレス成形に適した光学ガラスを提供する。
【解決手段】屈折率（ｎｄ）が１．９以上およびアッベ数（νｄ）が１５以上であり、ガラス転移点（Ｔｇ）が３００℃以下であり、Ｐｂ及び／又はＡｓ化合物を含まず、ＴｅＯ_２成分を５０ｍｏｌ％以上含有することを特徴とする光学ガラス。Ｒ_２Ｏ（ＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓからなる群より選択される１種以上）成分、ＺｎＯ成分、Ｂｉ_２Ｏ_３成分を含有し、さらにＡｌ_２Ｏ_３及び／又はＧａ_２Ｏ_３成分を含有する前記光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】 屈折率（ｎｄ）が高く、屈伏点（Ａｔ）が低い精密プレス成形用光学ガラスを提供すること。
【解決手段】 構成成分として重量％表示で、Ｂｉ₂Ｏ₃：６４〜８３％、Ｂ₂Ｏ₃：４〜１７％、ＧｅＯ₂：０〜１２％（但し、Ｂ₂Ｏ₃ とＧｅＯ₂ の合計量が１０〜２０％）、Ｌａ₂Ｏ₃：０~７％、Ｇｄ₂Ｏ₃：０〜７％（但し、Ｌａ₂Ｏ₃ とＧｄ₂Ｏ₃ の合計量が１〜１３％）、ＺｒＯ₂：０〜４％、Ｔａ₂Ｏ₅：０〜５％、ＺｎＯ：０〜１５％、Ｓｂ₂Ｏ₃：０〜２％、Ｉｎ₂Ｏ₃：０〜１％を含み、屈折率（ｎｄ）が２．０５〜２．２５、アッベ数（νｄ）が１５〜２２の光学恒数を有し、屈伏点（Ａｔ）が５１０℃以下である精密プレス成形用光学ガラス。 （もっと読む）

【課題】誘電率が低く、軟化点が低く、耐水性が高い、ディスプレイパネル用に適したガラス組成物を提供する。
【解決手段】少なくともＢ_２Ｏ_３と、Ｒ_２Ｏ（ＲはＬｉ、Ｎａ、Ｋの１種類以上）と、Ｌｎ_２Ｏ_３（Ｌｎは希土類金属とＡｌより選ばれた一種類以上）を含み、Ｂ_２Ｏ_３の含有量が５０重量％以上９５重量％以下であり、Ｌｎ_２Ｏ_３の含有量が０．２重量％以上１０重量％以下であり、実質的に鉛を含まない事を特徴とする、低軟化点ガラス組成物。 （もっと読む）

【課題】酸化ビスマスを含有し光学ガラスにおいて、脱泡性に優れた光学ガラスを提供する。
【解決手段】質量％で、Ｂｉ_２Ｏ_３成分を１０％以上９０％未満含有する光学ガラスにおいて、かつＴｅＯ_２成分及び／又はＳｅＯ_２成分を０．１％以上含有させることにより、「ＪＯＧＩＳ１２−１９９４光学ガラスの泡の測定方法」に準じた測定方法において、４級から１級の級を有する光学ガラスを製造できる。さらに、アルカリ土類金属酸化物、アルカリ金属酸化物等の調整により、清澄工程を短時間・低温で完了することが可能である。 （もっと読む）

【課題】
安定性がさほど高くないガラスや融液の状態で揮発性の高いガラスを用いた場合であっても、失透や脈理のない高品質なプリフォームを製造する方法を提供する。
【解決手段】
精密プレス成形に供するためのガラス製プリフォームの製造方法であって、 流出口から流出する熔融ガラスから熔融ガラス塊を分離し、プレス成形して前記プリフォームに近似する形状を有するガラス体を作製し、少なくとも研磨工程を経て前記ガラス体からプリフォームを作製することを特徴とするガラス製プリフォームの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 高速回転化に対応できる情報記憶媒体を得ること。
【解決手段】 ＳｉＯ_２を４５−６５モル％、Ａｌ_２Ｏ_３を０−１５モル％、Ｌｉ_２Ｏを４−２０モル％、Ｎａ_２Ｏを０−８モル％、（Ｌｉ_２Ｏ＋Ｎａ_２Ｏ）を４−２８モル％、ＣａＯを０−２１モル％、ＭｇＯを０−２２モル％、（ＣａＯ＋ＭｇＯ）を４−４０モル％、Ｙ_２Ｏ_３を０−１６モル％、及び、ＴｉＯ_２を１−１５モル％含み、かつ１００ＧＰａ以上のヤング率、１３５０℃以下の液相温度を達成するガラス成分によって形成されている情報記憶媒体用基板上に記録層を形成して情報記憶媒体を作製する。 （もっと読む）

【課題】プレス成形等に適した低温成形用ガラス及びそのような低温成形用ガラスを用いたガラス成形品の製造方法を提供する。
【解決手段】低温成形用ガラス及びそのような低温成形用ガラスを用いたガラス成形品の製造方法であって、ガラス原料として、Ｐ₂Ｏ₅と、ＢａＯと、ＺｎＯと、ＳＯ₃と、を含む低温成形用ガラスであって、全体量に対して、Ｐ₂Ｏ₅の添加量を４０〜６０重量％の範囲内の値とし、ＢａＯの添加量を１０〜４０重量％の範囲内の値とし、ＺｎＯの添加量を１〜４０重量％の範囲内の値とし、かつ、ＳＯ₃の添加量を０．１〜２０重量％の範囲内の値としたガラス組成物を使用する。 （もっと読む）

本発明は高屈折率低色分散の精密プレス成形用光学ガラスを提供し、その成分の重量百分率は、ＳｉＯ_２：１〜８％、Ｂ_２Ｏ_３：１６〜３０％、Ｌａ_２Ｏ_３：１５〜４０％、Ｇｄ_２Ｏ_３：０〜２０％、ＺｎＯ：８〜３０％、Ｎｂ_２Ｏ_５：０．５〜１４．５％、ＷＯ_３：０〜１２．５％ 、ＴｉＯ_２：０〜９％、Ｌｉ_２Ｏ：０．５〜４％、ＺｒＯ_２：１〜１０％、Ｙ_２Ｏ_３：０〜５％、Ｙｂ_２Ｏ_３：０〜５％、Ｌｕ_２Ｏ_３：０〜５％、Ｎａ_２Ｏ：０〜３％、Ｋ_２Ｏ：０〜２％、Ａｌ_２Ｏ_３：０〜２％、ＢａＯ：０〜３％、ＣａＯ：０〜３％、ＳｒＯ：０〜３％、ＭｇＯ：０〜３％、Ｓｂ_２Ｏ_３：０〜０．５％及びＳｎＯ_２：０〜０．５％である。本発明は、Ｂ_２Ｏ_３−ＳｉＯ_２−Ｌａ_２Ｏ_３（Ｇｄ_２Ｏ_３）−ＺｎＯ系を採用し、合理的比率のＮｂ_２Ｏ_５、ＷＯ_３、ＴｉＯ_２を使用することで、ガラスが、必要な光学定数に達し、かつ精密プレス成形に適した良好な物理化学特性を有するようにする。本発明の光学ガラスの転移温度（Ｔｇ）は５６０℃より低く、成分中に価格の高いＴａ_２Ｏ_５を含まず、また、ガラスが良好な化学的安定性を有するため、単一の坩堝または連続溶解タンク窯等の設備で大量の安定した生産をすることができ、低コストで非球面レンズ等の光学素子を精密金型プレス成形するのに適している。 （もっと読む）

【課題】ガラスに含有される希土類成分を還元するに際し、希ガスと水素の混合気体雰囲気、窒素と水素の混合気体雰囲気等の還元ガス雰囲気中での還元処理を必要とせず、従って、処理作業中に爆発する危険性が無く、内部まで還元処理できるガラスの製造方法または結晶化ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】ガラスを熱処理する過程、またはガラスを熱処理して結晶化する過程において、該ガラスに０．１ｍＡ〜１０ｍＡの電流を通電する。該ガラスは希土類成分、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅの成分を少なくとも１種以上含有したガラスであり、該ガラスに電場を印加して通電しながら熱処理する、または熱処理して結晶化することで、希土類成分、Ｃｒ、Ｍｎ及びＦｅの成分が還元されたガラスまたは結晶化ガラスが製造される。 （もっと読む）

【課題】本発明は、ビスマス系ガラス粉末と耐火性フィラー粉末を含有する封着材料において、耐火性フィラー粉末の粒度および熱膨張係数等を改良し、封着材料の熱的安定性を向上させるとともに、封着材料の流動性を向上させることにより、スローリーク等が発生し難い平面表示装置を得ることを技術的課題とする。
【解決手段】本発明の封着材料は、ビスマス系ガラス粉末と耐火性フィラー粉末を含有する封着材料において、耐火性フィラー粉末の平均粒子径Ｄ₅₀が９〜２４μｍ、９０％粒子径Ｄ₉₀が３２〜９０μｍであることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 特殊な原料や溶解坩堝や溶解方法を用いず、一般的な溶融法によって安定に取得できる、屈折率（ｎｄ）が１．４１〜１．４７、かつ、アッベ数（νｄ）が９０〜１００である極低屈折率極低分散弗燐酸光学ガラスを提供する。
【解決手段】 Ｐ、Ａｌ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｙ、Ｆ、Ｏを含有するガラス原料組成物の元素質量％比（Ｓｉ＋Ｂ＋Ｐ＋Ａｌ）／Ｆを０．２０〜０．４０とし、かつ、構成元素比率を調整することにより、所望の屈折率及びアッベ数を実現しつつ、溶融状態からの冷却過程におけるガラス内部の失透（結晶）発生を効果的に抑制することにより、極低屈折率極低分散弗燐酸光学ガラスを安定に取得する。 （もっと読む）

【課題】Ｂ_２Ｏ_３成分、Ｌａ_２Ｏ_３成分を必須成分としたガラス系において、高い放射線遮蔽性能を有するガラス組成物を提供すること。
【解決手段】酸化物基準の質量％で、Ｂ_２Ｏ_３を５〜２０％未満、Ｌａ_２Ｏ_３を１６〜５０％、Ｍ_２Ｏ_３（ＭはＡｌ、Ｇａ、Ｉｎからなる群より選択される１種以上を示す。）を０〜５％、Ｇｄ_２Ｏ_３および／またはＤｙ_２Ｏ_３および／またはＬｕ_２Ｏ_３を０〜２５％、ＢａＯを０〜１０％の範囲で各成分を含有し、１５０ｋＶのＸ線に対する鉛当量が０．０５ｍｍＰｂ／ｍｍ以上であるガラス組成物。 （もっと読む）

【課題】Ｂ_２Ｏ_３成分、ＳｉＯ_２成分、Ｌａ_２Ｏ_３成分を必須成分としたガラス系において、高い放射線遮蔽性能を有するガラス組成物を提供すること。
【解決手段】酸化物基準の質量％で、Ｂ_２Ｏ_３を２０〜３５、ＳｉＯ_２を１１〜４５、Ｌａ_２Ｏ_３を１６〜５０、Ｍ_２Ｏ_３（ＭはＡｌ、Ｇａ、Ｉｎからなる群より選択される１種以上を示す。）を０〜５％、Ｇｄ_２Ｏ_３および／またはＤｙ_２Ｏ_３および／またはＬｕ_２Ｏ_３を０〜２５％、ＢａＯを０〜１０％の範囲で各成分を含有し、１５０ｋＶのＸ線に対する鉛当量が０．０５ｍｍＰｂ／ｍｍ以上であるガラス組成物。 （もっと読む）

【課題】一般的な熔融法によって安定に取得できる、屈折率（ｎｄ）が１．４１〜１．４７、かつ、アッベ数（νｄ）が９０〜１００である極低屈折率極低分散弗燐酸ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス原料組成物にＳｉ及び／又はＢを０．００５〜０．２元素質量％未満含有させ、Ｐ、Ａｌ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｙ、Ｆ、Ｏの構成元素比率を調整することによって、所望の屈折率及びアッベ数を実現しつつ、熔融状態からの冷却過程におけるガラス内部の失透（結晶）発生を効果的に抑制することにより、極低屈折率極低分散弗燐酸ガラスを安定に取得する。 （もっと読む）

【課題】
フツリン酸ガラスからなる光学ガラスを熔融法で作製する場合に、ガラス中への白金又は白金合金異物の混入を低減することができる光学ガラスの製造方法を提供する。
【解決手段】
リン酸塩原料およびフッ化物原料を用いたフツリン酸ガラスからなる光学ガラスの製造方法であって、リン酸塩原料を、非金属製容器で熔融して、リン酸塩ガラスを得る第１の工程と、得られたリン酸塩ガラスを熔融物のまま又は該熔融物を固化した後、フッ化物原料とともに白金又は白金合金製の容器で熔融する第２の工程とを含むことを特徴とする光学ガラスの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 絶縁層を形成するガラス組成物中にＰｂＯを含まない絶縁層形成用のガラスフリットを提供する。
【解決手段】 ＳｉＯ₂ 、Ａｌ₂ Ｏ₃ 、Ｂ₂ Ｏ₃ 、Ｌｉ₂ Ｏ＋Ｎａ₂ Ｏ＋Ｋ₂ Ｏ、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ、ＺｎＯ、ＣｕＯ、ＳｎＯ₂ 、ＣｅＯ₂ 、Ｇｄ₂ Ｏ₃ を基本組成とする無鉛硼珪酸塩ガラスで、前記無鉛硼珪酸塩ガラスフリットにＡｌ₂ Ｏ₃ 、ＳｉＯ₂ 、ＺｒＯ、ＺｎＯの１つ以上の無機酸化物を含有させてガラスペーストとし、塗布、焼成して形成された絶縁層は白色で黄味化し難いものである。 （もっと読む）