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白色結晶化ガラス物品及びその製造方法
【課題】Fe2O3の含有量を制限することなく、安定した白色度を示すことができる白色結晶化ガラス物品及びその製造方法を提供する。
【解決手段】複数のガラス小領域1bが互いに融着しており、ガラス小領域1b間の界面3から内部に向けて主結晶として針状結晶4が析出している結晶化ガラスにより構成されている白色結晶化ガラス物品であって、白色着色剤2が0.3〜2質量%の範囲で含有されていることを特徴としている。
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無アルカリガラス基板
【課題】熱収縮率のばらつきの小さい無アルカリガラス基板とその製造方法を提供する。
【解決手段】常温から10℃/分の速度で昇温し、保持温度450℃で10時間保持し、10℃/分の速度で降温(図1に示す温度スケジュールで熱処理)したときの熱収縮率の絶対値が50ppm以上であることを特徴とする。
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耐火性フィラー及びこれを用いた封着材料
【課題】原料の一部が未反応になる事態を防止しながら、従来よりも低温で作製可能であり、しかも封着材料等の熱膨張係数を適正に低下させ得る耐火性フィラーを創案する。
【解決手段】本発明の耐火性フィラーは、主結晶(最も析出量が多い結晶)として、ウイレマイトが析出している耐火性フィラーにおいて、組成として、モル%で、ZnO 50〜80%、SiO2 10〜40%、Al2O3 0.1〜10%を含有すると共に、ウイレマイト:Al系結晶の割合が、モル比で、100:0〜99:1であることを特徴とする。
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発光素子搭載基板
【課題】光反射率が高くかつ腐食による反射率の低下の少ない光反射層を備え、光の取出し効率が向上された発光素子搭載基板を提供する。
【解決手段】表面に反射層としての銀導体層2が形成された無機材料基板1からなり、この銀導体層2の上に発光素子6が搭載される発光素子搭載基板であって、銀導体層2が、ペースト体の焼成により形成されており、銀導体層2を覆うように無機材料基板2に焼き付けて形成した厚み5〜20μmのオーバーコート層3を有しており、このオーバーコート層3が酸化物基準のモル%表示でSiO2を62〜84%、B2O3を10〜25%、Al2O3を0〜5%、Na2OおよびK2Oのいずれか1以上を合計で0〜5%、含有し、SiO2とAl2O3の含有量の合計が62〜84%、MgOを0〜10%、CaO、SrO、BaOのいずれか1以上を含有する場合にその含有量の合計が5%以下のホウケイ酸ガラスである。
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収着材料
【課題】塩化物系の混合塩からなる電解質融液中のCs又はSr、例えば、塩化物系使用済電解質融液中に残留するFPであるCs又はSrを選択的に収着することで、電解質の再生が簡便化出来る収着材料が求められている。
【解決手段】Fe2O3を必須成分とし、モル%で表して、Fe2O3が1〜50、P2O5が50〜80、かつ、Al2O3、B2O3、TiO2、CoO、NiO、CeO2、Cr2O3、La2O3、MoO3、Nb2O5、WO3から選択される1種以上の合計が1〜40のFe2O3−P2O5系ガラスからなり、塩化物系の混合塩からなる電解質融液中のCs又はSrを選択的に収着することを特徴とする収着材料。ガラス転移点が450℃以上である特徴も持つ。
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蓄電デバイス用負極活物質の製造方法
【課題】良好な初回充放電特性を有する蓄電デバイス用負極活物質の製造方法を提供する。
【解決手段】少なくともSとPを含む化合物からなる酸化物材料とリチウム含有物質を、有機溶媒中で接触させることにより、酸化物材料にリチウムを挿入することを特徴とする蓄電デバイス用負極活物質の製造方法。酸化物材料とリチウム含有物質を有機溶媒中で混合すること、または、酸化物材料とリチウム含有物質を圧着させた状態で、有機溶媒中に浸漬させることが好ましい。
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ガラス組成物
【課題】環境負荷の大きい酸化ヒ素や酸化アンチモンの使用量が少なく、しかも残泡の少ないガラス組成物を提供する。
【解決手段】このガラス組成物は、質量%で表示して、SiO2:40〜70%,B2O3:5〜20%,Al2O3:10〜25%,MgO:0〜10%,CaO:0〜20%,SrO:0〜20%,BaO:0〜10%,Li2O:0〜0.5%,Na2O:0〜0.5%,K2O:0〜0.5%,Cl:0%を超え1.5%以下,を含み、Li2O+Na2O+K2Oが0.06%を超える範囲にある。このガラス組成物は、例えば、ガラス原料の一部として塩化物を用いることにより好適に製造できる。
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ガラスコーティング剤
【課題】200℃以下のいわゆる常温において、ステンレス鋼等の金属の表面に塗布し、耐候性、防汚性及び難燃性に優れた金属を容易に得ることのできる常温ガラスコーティング剤を提供する。
【解決手段】酸化物化に必要な触媒としてホウ素イオン及びハロゲンイオンを含み、アルコールに溶融した加水分解可能な有機金属化合物の単一組成もしくは複合組成からなる常温ガラスコーティング剤である。該ガラスコーティング剤を金属板の表面に塗布することで200℃以下のいわゆる常温で乾燥させることができ、かつ、耐候性、防汚性及び難燃性に優れたものとできる。
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硫化物系固体電解質ガラスの製造方法
【課題】特殊な設備を必要としないで、硫化リチウムの粉砕及び精製を実施しなくても、イオン伝導度が高い硫化物系固体電解質を製造できる方法を提供する。
【解決手段】LiR(Rは、炭素数1〜20の直鎖又は分岐アルキル基、炭素数3〜20のシクロアルキル基、炭素数4〜20のシクロアルキルアルキル基、炭素数4〜20のアルキルシクロアルキル基、炭素数1〜20の直鎖又は分岐アルコキシ基、炭素数3〜20のシクロアルコキシ基、炭素数4〜20のシクロアルキルアルコキシ基、又は炭素数4〜20のアルコキシシクロアルキル基である)と硫化水素を反応させて硫化リチウムを製造する工程と、硫化りん、硫化ゲルマニウム、硫化ケイ素及び硫化ほう素から選択される1以上の化合物と、前記硫化リチウムとを反応させて、硫化物系固体電解質ガラスを製造する工程とを含む硫化物系固体電解質ガラスの製造方法。
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無アルカリガラス、その製造方法および液晶表示装置のTFT形成用ガラス基板
【課題】 化学的耐久性、低熱膨張性、高歪み点、低比重、高ヤング率などの特性を有し、しかも泡などの欠陥が少なく製造安定性に優れる無アルカリガラスを提供する。
【解決手段】 30〜300℃における平均熱膨張係数が30〜35×10−7/℃、歪み点が670℃以上、ヤング率が70GPa以上、比重が2.4未満、液相温度が1200℃未満、101.5Pa・sの粘度を示す温度が1600℃未満、50℃の濃度1モル/Lの硝酸水溶液に50時間浸漬した際の質量減少が1mg/cm2未満である無アルカリガラス、および実質的にBaO、ZnOおよびPbOを含まず、SiO2 65.0〜70.0モル%、Al2O3 9.5〜12.5モル%、B2O3 8.5〜11.5モル%(ただし、SiO2+Al2O3+B2O3 87.5〜90.0モル%)、B2O3/(SiO2+Al2O3) 0.12〜0.14、MgO 2.5〜4.0モル%未満、CaO 5.0〜10.0モル%、SrO 0.1〜2.5モル%(ただし、MgO+CaO+SrO 10.0〜12.5モル%)を含む無アルカリガラスである。
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ガラスペーストおよびそれを用いたプラズマディスプレイパネルの製造方法
【課題】隔壁前駆体と同時焼成に際し、昇温速度を大きくした場合であっても誘電体層の剥離や隔壁の断線を生じない誘電体ペースト、および生産性が高く、高品位なプラズマディスプレイの製造方法を提供する。
【解決手段】 軟加点ガラス(A)、熱重合開始剤(B)、下記一般式(1)で表される化合物(C)を含むことを特徴とするガラスペーストであること、である。
【化1】
(式中、R1〜R6のうち1〜3個がアルキロイル基であり、残りの5〜3個がアクリル基またはメタクリル基である。)とする。
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磁気ディスク用ガラス基板の製造方法
【課題】真円度に優れた磁気ディスク用ガラス基板を効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】一対の主表面を有する磁気ディスク用ガラス基板Gの製造方法であって、溶融したガラスの塊GGを落下させる落下工程と、前記塊の落下経路の両側から、互いに対向する一対の型121,122の面121a,122aで前記塊GGを同じタイミングで挟み込みプレス成形することにより、板状ガラス素材Gを成形するプレス工程と、前記板状ガラス素材Gを加工する加工工程と、を有し、前記塊GGの落下方向の速度成分について、前記一対の型121,122に対する前記塊GGの相対速度を0に近づけるべく、前記プレス工程は、前記塊GGが落下する方向に前記一対の型121,122が移動しながら、前記塊GGを挟み込むことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板Gの製造方法。
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光学ガラス、プリフォーム及び光学素子
【課題】光学素子の色収差の補正に有用であり、且つ、研磨時や洗浄時等にガラス表面に曇りが発生し難い光学ガラスと、これを用いたプリフォームを提供する。
【解決手段】光学ガラスは、酸化物換算組成でBi2O3成分、SiO2成分及び/又はB2O3成分並びにF成分を含有し、粉末法による化学的耐久性(耐水性)がクラス1〜5であり、部分分散比[θg,F]が0.63以上、アッベ数[νd]が27以下であり、部分分散比[θg,F]>−0.0131×[νd]+0.9000を満たす。
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カバーガラスの製造方法及びカバーガラス
【課題】エッチングレートを向上させることによりカバーガラスの生産効率を向上し、さらには、複雑な形状であっても、形状精度の高いカバーガラスを形成することができるカバーガラスの製造方法およびカバーガラスを提供する。
【解決手段】カバーガラスは、ダウンドロー法により成形されたガラス基板をエッチング加工し、かつ、ガラス主表面に圧縮応力層を有するように化学強化したカバーガラスである。前記ガラス基板は、成分としてSiO2を50〜70質量%、Al2O3を5〜20質量%、Na2Oを6〜30質量%、および、Li2Oを0〜8質量%未満含む。必要に応じて、CaOを0〜2.6質量%含む。前記ガラス基板は、濃度10質量%のフッ化水素を含む22℃のエッチング環境で、3.7μm/分以上のエッチングレートのエッチング特性を有する。
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結晶化ガラス
【課題】製造時におけるガラス溶融の熱履歴が変動した場合であっても可視光透過特性のばらつきが小さく、かつ、長期にわたる使用によっても色合いが変化しにくい結晶化ガラスを提供する。
【解決手段】ガラス組成として、質量%で、SiO2 55〜73%、Al2O3 17〜25%、Li2O 2〜5%、TiO2 2.5〜5.5%、ZrO2 0〜2.3%、SnO2 0.2〜0.9%、V2O5 0.005〜0.09%を含有し、As2O3およびSb2O3を実質的に含有しないことを特徴とする結晶化ガラス。
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ガラス、発光装置用のガラス被覆材および発光装置
【課題】400℃以下の被覆処理温度での被覆が可能であるとともに、熱膨張係数が低く、さらに良好な耐候性を有するガラス。
【解決手段】酸化物基準のmol%表示で、29%〜33%のP2O5、43%〜58%のSnO、11%〜25%のZnO、0.1%〜2%のGa2O3、0.5%〜5%のCaO、ならびに0〜1%のSrOを含み、酸化物基準のmol%表示で、ZnO、Ga2O3、およびCaOの総和Xが13%〜27%の範囲である、ガラス。
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液晶表示装置用ガラス基板の製造方法
【課題】 液晶表示装置用ガラス基板として、微量のアルカリ金属酸化物を含むガラス板を製造するに際し、アルカリ金属酸化物による清澄効果(気泡低減効果)を向上させる。
【解決手段】 ガラス原料を熔融して熔融ガラスを生成する工程と、熔融ガラスをガラス板へと成形する工程とを含み、ガラス板が、SiO2、Al2O3およびR2O(R:Li、Na、Kから選ばれる少なくとも1種であって少なくともその一部がNa)を含むとともに、R2Oの含有率が0.01〜2.0質量%であってNa2Oの含有率が0.01〜0.15質量%であるガラス組成物からなり、ガラス原料が、Al2O3の原料として、Na2Oを0.1〜0.6質量%の範囲で含有するアルミニウム酸化物(アルミナ)を含む、液晶表示装置用ガラス基板の製造方法とする。
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光学ガラス、光学素子およびプリフォーム
【課題】異常分散性がより高いことでガラスレンズの色収差を高精度に補正することができ、さらに高屈折率、低分散性を備え、加えて、耐失透に優れる光学ガラス、光学素子およびプリフォームの提供。
【解決手段】カチオン成分として、P5+、Al3+およびR2+(R2+は、Mg2+、Ca2+、Sr2+およびBa2+からなる群から選ばれる少なくとも1つ)を含み、カチオン%表示で、Ca2+の含有率が14.0〜24.0%、R2+の含有率が32.0〜58.0%であり、アニオン成分として、F-およびO2-を含有し、屈折率(nd)が1.50以上で、アッベ数(νd)が65以上である光学ガラス。
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光学ガラス
【課題】 ガラス転移点Tgが低く、しかも清澄性が良好であり、かつ化学耐久性に優れた低屈折率低分散(具体的には屈折率ndが1.48〜1.54、アッベ数νdが59〜67)の光学ガラスを提供する。
【解決手段】 質量%で、SiO2 45.5〜70%、B2O3 10〜44%、Al2O3 7.2〜20%、TiO2 0〜7%、Na2O 1〜20%、Li2O 0〜9%、R2O 3〜30%(R2OはNa2O、Li2O及びK2Oの合量)、Sb2O30〜0.1%未満、(B2O3+R2O)/(Al2O3+SiO2)が0.16〜0.80であり、実質的にPbOを含まないことを特徴とする。
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半導体封入用外套管の製造方法及び半導体封入用外套管
【課題】低温で半導体素子を封入可能であり、しかも耐酸性に優れた半導体封入用外套管を製造する方法を提供する。
【解決手段】106dPa・sの粘度に相当する温度が650℃以下であり、B2O3が15.5モル%以上の組成を有するSiO2−B2O3−R2O系無鉛ガラスにてガラス管を作製する工程と、前記ガラス管をpH3〜6の酸性溶液又はpH8〜12のアルカリ性溶液で表面処理する工程とを含む半導体封入用外套管を製造方法を特徴とする。
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