【課題】ガス吸蔵特性を有する新規な多孔性金属錯体を提供する。
【解決手段】周期表第２族〜第１３族から選択される１種の金属原子又はそのイオンと、下記式（１）で表され、配位基を有する芳香族化合物とを含み、金属原子又はそのイオンと、芳香族化合物が有する配位基との配位結合を有する多孔性金属錯体。
［化１］


（Ｐ：置換基を有してもよい２価の芳香族複素環基、Ｑ：置換基を有してもよいｍ価の芳香環炭化水素基又は置換基を有してもよいｍ価の芳香族複素環基、Ｒ：−ＣＯ_２⁻、−ＳＯ_３⁻、−ＰＯ_４^２−又は−Ｃ≡Ｎ。ｍ：３〜６の整数、ｎ：０〜５の整数。ただし、複数存在するｎの少なくとも１つは１以上の整数）。 （もっと読む）

【課題】優れたガス吸蔵性能及びガス分離性能を有する金属錯体を提供すること。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）；
【化１】


（式中、Ｘ及びＲ^１〜Ｒ^１２は明細書に定義されるとおりである。）で表されるジカルボン酸化合物（Ｉ）と、周期表の２族及び７〜１２族に属する金属のイオンから選択される少なくとも１種の金属イオンと、該金属イオンに二座配位可能な有機配位子とからなる金属錯体によって上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】優れたガス吸着性能、優れたガス吸蔵性能及びガス分離性能を有する金属錯体を提供すること。
【解決手段】２−メトキシテレフタル酸に代表される下記一般式（Ｉ）で表される芳香族ジカルボン酸化合物と、亜鉛イオンに代表される周期表の２族及び７〜１２族に属する金属のイオンから選択される少なくとも１種の金属イオンと、該金属イオンに二座配位可能な１，２−ビス（４−ピリジル）エタンに代表される窒素原子を含む芳香族複素環式化合物とからなる金属錯体。
（もっと読む）

【課題】優れたガス吸着性能及び優れたガス吸蔵性能を有する金属錯体を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）；（式中、Ｒ^１〜Ｒ^６はそれぞれ同一または異なって水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、アルコキシ基、ホルミル基、アシロキシ基、アルコキシカルボニル基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、モノアルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アシルアミノ基またはハロゲン原子である。）で表されるジカルボン酸化合物（Ｉ）と、周期表の２族及び７〜１２族に属する金属のイオンから選択される少なくとも１種の金属イオンと、特定の二座配位可能な有機配位子とからなる金属錯体。
（もっと読む）

【課題】 優れたガス吸着性能、ガス吸蔵性能及びガス分離性能を有する金属錯体を提供すること。
【解決手段】アニオン性配位子と、周期表の２族及び７〜１２族の２〜５周期に属する金属のイオンから選択される少なくとも１種の金属イオンと、下記一般式（Ｉ）；
【化１】



（式中、Ｒ^１〜Ｒ^１０は明細書に定義されるとおりである。）で表される該金属イオンに二座配位可能な有機配位子（Ｉ）とからなる金属錯体によって上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】優れたガス吸蔵性能及びガス分離性能を有する金属錯体を提供する。
【解決手段】ジカルボン酸化合物（２−ニトロテレフタレート）と、周期表の２族、７〜１２族に属する金属のイオンと、式（ＩＩ）（式中、Ｒ⁵〜Ｒ^１２はそれぞれ同一または異なってＨ、置換基を有し得るアルキル基、アルコキシ基、ホルミル基等又はハロゲン原子である。）で表される該金属イオンに二座配位可能な有機配位子とからなる金属錯体。
（もっと読む）

【課題】優れたガス吸着性能を有する金属錯体を提供すること。
【解決手段】ビフェニルジカルボン酸化合物と、下記一般式（ＩＩ）；で表される化合物を配位子とする金属錯体。（例えば亜鉛酢体）


（例えば、４，４’−ビフェニルジカルボン酸） （もっと読む）

【課題】ガス状実体を吸着剤材料と接触させる工程を含む、ガス状実体を貯蔵する方法であって、吸着剤材料に多孔質構造化有機フィルム（ＳＯＦ）を用いる方法を提供する。
【解決手段】ガス状実体を貯蔵するための多孔質構造化有機フィルムおよび多孔質構造化有機フィルムにガス状実体を貯蔵するための方法であって、この多孔質構造化有機フィルムが、共有結合性有機骨格として整列された複数のセグメントおよび複数のリンカーを含み、ここで巨視的には、共有結合性有機骨格はフィルムであり、１つ以上のガス状実体に利用可能な複数の部位を含有する。 （もっと読む）

【課題】ガス吸着性能及びガス分離性能を有する金属錯体の提供。
【解決手段】アルケニレンジカルボン酸化合物と、周期表の２族、７〜１０族及び１２族に属する金属のイオンから選択される少なくとも１種の金属イオンと、下記一般式（Ｉ）で表される該金属イオンに二座配位可能な有機配位子とからなる金属錯体。


（式中、Ｘ、Ｙはそれぞれ同一または異なってもよいＣＨ_２、ＣＨ（ＯＨ）等である。） （もっと読む）

【課題】優れたガス吸着性能及びガス分離性能を有する金属錯体を提供。
【解決手段】式（Ｉ）


（式中、Ｒ^１〜Ｒ^８はそれぞれ同一または異なって水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基等である。）で表されるジカルボン酸化合物（Ｉ）と、周期表の２族、７〜１０族及び１２族に属する金属のイオンから選択される少なくとも１種の金属イオン（例えば、亜鉛イオン）と、該金属イオンに二座配位可能な特定な有機配位子（例えば、１，２−ビス（４−ピリジル）エタン）とからなる金属錯体の提供。 （もっと読む）

【課題】優れたガス分離性能を有する金属錯体を提供すること。
【解決手段】５−シアノイソフタル酸と、周期表の２族及び７〜１２族に属する金属のイオンから選択される少なくとも１種の金属イオンと、該金属イオンに二座配位可能な有機配位子とからなる金属錯体によって上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】ガス吸着性能、ガス吸蔵性能及びガス分離性能を有する金属錯体の提供。
【解決手段】式（Ｉ）


で表されるジカルボン酸化合物（Ｉ）と、周期表の２族、７〜１０族及び１２族に属する金属のイオンから選択される少なくとも１種の金属イオンと、該金属イオンに二座配位可能な特定な有機配位子（例えば、１，２−ビス（４−ピリジル）エタン）とからなる金属錯体。 （もっと読む）

【課題】優れたガス分離性能を有する金属錯体を提供すること。
【解決手段】５−ニトロイソフタル酸と、ニッケルイオンと、下記一般式（Ｉ）；
【化１】


（式中、Ｒ^１〜Ｒ^８は明細書に定義されるとおりである。）とからなる金属錯体によって上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】回収プロセス中のキセノン濃度を高める改良した減圧スイング吸着（ＶＳＡ）プロセスを与える。
【解決手段】次の工程を含む、Ｘｅ含有供給ガスからキセノンを回収するための方法：吸着材を有する吸着容器を与える工程；上記Ｘｅ含有供給ガスを上記吸着容器に供給する工程；上記吸着容器を、大気圧から大気圧未満の圧力に減圧することで排気する工程であって、上記排気工程は、次の２つを含む工程：（１）ガスの第一部分を排気すること、及び（２）上記大気圧未満の圧力がＰ１に達したときに、第一のキセノン富化ガスを回収すること；上記大気圧未満の圧力がＰ２に達したときに上記吸着容器をパージして、第二のキセノン富化ガスを回収する工程；及び上記第一のキセノン富化ガスと上記第二のキセノン富化ガスとを混合して、初期キセノン濃度より少なくとも２０倍超高い最終キセノン濃度を有する生成ガスを与える工程、ここで、Ｐ１はＰ２以上である。 （もっと読む）

【課題】優れたガス吸着性能、ガス吸蔵性能及びガス分離性能を有する金属錯体を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）；


（式中、Ｒ^１〜Ｒ^８はそれぞれ同一または異って水素原子等である。）で表されるジカルボン酸化合物（Ｉ）と、周期表の２族及び７〜１２族に属する金属のイオンから選択される少なくとも１種の金属イオンと、点群がＤ_∞ｈであり、かつ長軸方向の長さが８．０Å以上１５．５Å未満であり、かつヘテロ原子を６〜１２個有する該金属イオンに二座配位可能な有機配位子（但し、３，６−ジ（４−ピリジル）−１，２，４，５−テトラジンは除く。）とからなる金属錯体。 （もっと読む）

【課題】 優れたガス吸着性能、ガス吸蔵性能及びガス分離性能を有する金属錯体を提供すること。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）；
【化１】


（式中、Ｒ^１〜Ｒ^４は明細書に定義されるとおりである。）で表されるジカルボン酸化合物（Ｉ）と、周期表の２族及び７〜１２族に属する金属のイオンから選択される少なくとも１種の金属イオンと、テトラカルボキシジイミド骨格を有する該金属イオンに二座配位可能な有機配位子とからなる金属錯体によって上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】優れたガス吸蔵性能及びガス分離性能を有する金属錯体を提供すること。
【解決手段】イソフタル酸とその誘導体と、マグネシウムイオン、カルシウムイオン、亜鉛イオン等のの金属イオンと、下記一般式（ＩＩ）；


（式中、Ｘはメチン基または窒素原子であり、Ｒ^５〜Ｒ^１２は水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基もしくはハロゲン原子である。）で表される該金属に二座配位可能な有機配位子（ＩＩ）とからなる金属錯体。 （もっと読む）

【課題】優れた二酸化炭素分離性能を有する金属錯体を提供する。
【解決手段】周期表の２族及び７〜１２族に属する金属から選択される少なくとも１種の金属イオンと、ルイス塩基性アニオンと、下記一般式（Ｉ）；


で表される該金属イオンに二座配位可能な有機配位子とからなる金属錯体。 （もっと読む）

【課題】優れたガス吸着性能を有する金属錯体の提供。
【解決手段】一般式（Ｉ）


（式中、Ｘはアルキル基を示す。）で表されるジカルボン酸化合物(Ａ)と、マグネシウム、アルミニウム、クロム、鉄、ニッケル及び亜鉛などから選択される少なくとも１種の金属(Ｍ)と、該金属に二座配位可能な有機配位子(Ｂ)とからなる、その組成が


で表される金属錯体。 （もっと読む）

【課題】優れたガス吸蔵性能及びガス分離性能を有する金属錯体を提供。
【解決手段】ジフェニルジカルボン酸化合物と、周期表の２族及び７〜１２族に属する金属のイオンから選択される少なくとも１種の金属イオンと、一般式（ＩＩ）


（式中、Ｒ^９〜Ｒ^１６はそれぞれ同一または異なって水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基もしくはハロゲン原子であるか、Ｒ^１０とＲ^１１、或いはＲ^１４とＲ^１５が一緒になって置換基を有していてもよいアルケニレン基を形成してもよい。）で表される該金属に二座配位可能な有機配位子（ＩＩ）とからなる金属錯体、及びその製造方法。 （もっと読む）