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Fターム[4G072DD02]の内容

珪素及び珪素化合物 (39,499) | 粒径 (1,792) | 1−0.1mm (120)

Fターム[4G072DD02]に分類される特許

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【課題】平均粒子径100μm以上の大きな粒径を有する無機質球状体の製造方法の提供。
【解決手段】特定の無機化合物を含む水性液体を有機液体中に分散させてW/O型エマルジョンを形成する工程、前記W/O型エマルジョンに金属アルコキシドを添加し、無機化合物を含む水性液体の液滴の外殻部に金属アルコキシドの加水分解による金属酸化物を生成させる工程、及び、前記金属酸化物の生成後のW/O型エマルジョン中の無機化合物を含む水性液体を固形化して無機質球状体を生成させる工程、を経る平均粒子径が100〜1000μmの無機質球状体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】簡単に任意の形状に製造することができ、物体音および/または衝撃音減衰に適しているエアロゲル粒子の使用法の提供。
【解決手段】エアロゲル粒子は、Si化合物を含有し、好ましくは特にSiO2を含有し、永続的に疎水性を示す表面基を有す。この粒子は60%以上の多孔度と0.6g/cm3以下の密度ならびに50μm〜10mmの粒径範囲にあり、マトリックスを形成する少なくとも1つの結合剤とともに結合物の形で使用される。 (もっと読む)


【課題】絶縁性不純物粒子が混入している石英ガラス原料粉から当該絶縁性不純物粒子を分離し取り除くことができる、石英ガラス原料粉の精製方法を提供する。
【解決手段】石英ガラス原料粉の精製方法であって、石英粉に絶縁性不純物粒子が混入している石英ガラス原料粉を加熱し、その絶縁性不純物粒子を炭化させ、炭化不純物粒子となすステップ(S1)と、炭化不純物粒子が混入した石英ガラス原料粉を帯電させるステップ(S2)と、相対向して配置された正負一対の電極の間に、帯電させた石英ガラス原料粉を通過させ、石英粉と炭化不純物粒子とを分離させるステップ(S3)とを有する。 (もっと読む)


本発明は、新規の表面変性されたセミゲル、その製法及びその使用に関する。 (もっと読む)


【課題】化粧料等に適したオパール様の遊色効果を呈する薄片状シリカ及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】180〜280nmの非晶質球状シリカ粒子を、ゲル化した非晶質シリカで結合してなり、オパール様の遊色効果を呈する薄片状シリカである。この薄片状シリカは、表面をアルミノ珪酸イオンで被覆した180乃至280nmの非晶質球状シリカ粒子からなるコロイダルシリカと、活性珪酸水溶液とを混合してなる水性シリカ分散液を凍結して、非晶質球状シリカ粒子をゲル化した非晶質シリカで結合してなる薄片状シリカを氷の結晶界面に析出させることで製造することができる。 (もっと読む)


【課題】大がかりな設備を用いずに、不純物汚染の少ない球状シリコン粒子を製造する。
【解決手段】発散コーン部11、収束コーン部12、発散コーン部11と収束コーン部12との接続部に形成されたスロート部13、および収束コーン部12から発散コーン部11へと浮遊ガスを供給するガス供給部14を備えるガス浮遊装置を用いて、浮遊ガスが供給されている発散コーン部11に、スロート部13の内径よりも小さい球状の熔解シリコン粒が形成される量のアスペクト比が1:1〜1:4である原料30を供給する原料供給工程と、浮遊状態の原料30を非接触加熱装置41により加熱して熔解する熔解工程と、熔解された原料30が浮遊状態のまま非接触加熱装置41の熱出力を下げ原料30を凝固させる凝固工程とを行って、シリコンまたはシリコン系半導体材料の球状シリコン粒子32を製造する。 (もっと読む)


【課題】四塩化珪素の加水分解によって高純度シリカ粒子を製造する方法において、生産性がよく、平均粒径が100μm以上の高純度シリカ粒子を製造することができる製造方法を提供する。
【解決手段】四塩化珪素の加水分解によって高純度のシリカ粒子を製造する方法において、四塩化珪素および純水を入れた反応容器に電極を設置し、加水分解によって生成する塩酸を電気分解して除去しながら、四塩化珪素の加水分解を進めることを特徴とする高純度シリカ粒子の製造方法であり、好ましくは、陽極に塩素発生過電圧の低い電極を用い、副生する塩酸を電気分解することによって反応液のpHを1.5以上に保持しながら加水分解を行う高純度シリカ粒子の製造方法。 (もっと読む)


1つの実施形態では、本発明の方法は、少なくとも1種のシリコン源ガス及びポリシリコンシリコンシードを反応区域に供給するステップ;反応区域内で、少なくとも1種のシリコン源ガスの熱分解の反応平衡に実質的に到達して元素シリコンが生成するように少なくとも1種のシリコン源ガスをその反応区域内で十分な温度と滞留時間に維持するステップ(その少なくとも1種のシリコン源ガスの分解は、以下の化学反応:4HSiCl←→Si+3SiCl+2Hで進行するものであり、十分な温度は、約600℃〜約1000℃の温度範囲である);及びc)ポリシリコンシリコンシードに元素シリコンが蒸着されて被覆粒子が生成するようにその反応区域中に十分な量のポリシリコンシリコンシードを維持するステップ;を包含している。 (もっと読む)


本発明は、平均径が10〜120μmの範囲にあり、BET表面積が400〜800m/gの範囲にあり、気孔体積が0.3〜3.0cm/gの範囲にある、少なくとも一種の金属及び/又は半金属酸化物を含む球状ビーズであって、あるビーズのいずれの位置でのビーズ径も該ビーズの平均径から10%以上相違することがなく、該ビーズの表面が実質的に平滑であることを特徴とするビーズと、これらの球状ビーズ製造方法、該球状ビーズを含む粒子状触媒、および該球状ビーズの触媒または触媒担体としての利用に関する。 (もっと読む)


【課題】軽量性、保温性、耐久性に優れ、汚れが付き難く、臭気が移り難い特性を有し、食材収納材料用として好適な粒材と、その粒材を含有した食材収納材料を提供する。
【解決手段】食材収納材料を形成する樹脂に分散させるシリカ質微粒子であり、粒子数で50%以上の粒子が内部空隙を有し、該内部空間に隔壁を有する中空微粒子であることを特徴とする食材収納材料用粒材であって、好ましくは、内部空間が隔壁によって区切られた複数の独立気泡によって形成されている粒材、および該粒材が混合分散された樹脂からなる食材収納材料、該材料によって形成された食材容器ないし食材梱包材。 (もっと読む)


本発明は、シリコンを含有する溶融した二元若しくは三元の過共晶合金中又は精製したシリコン融液中で大型の高純度シリコン結晶を結晶化することを含み、小型のシリコン結晶を融液に加えて、結果として生じる大型のシリコン結晶を融液から分離することを特徴とする、太陽電池級シリコンの製造方法に関する。当該分離は、遠心分離又はろ過により行ってよい。 (もっと読む)


【課題】軽量でかつ耐熱性に優れた担体と、該担体を用いた機能性材料を提供する。
【解決手段】機能成分を保持ないし固定する担体であって、シリカ質の中空微粒子からなることを特徴とする無機中空担体であり、好ましくは、容重0.15〜0.35g/cm3であって、内部空間に隔壁を有し、また内部空間が微粒子表面に開口を有しない独立気泡によって形成されており、平均粒径が50μm以下の中空微粒子が用いられる無機中空担体および該担体に機能成分として触媒活性物質ないし吸着物質が担持された機能性材料。 (もっと読む)


【課題】 最頻細孔直径が大きく、制御された細孔特性を有し、不要な金属不純物の含有量が少なく、且つ耐熱性や耐水性等にも優れたシリカを提供する。
【解決手段】 以下の特性を備えるようにする。
(a)細孔容積が0.6ml/g以上、1.6ml/g以下
(b)比表面積が50〜600m2/g
(c)最頻細孔直径(Dmax)が15nm以上
(d)固体Si−NMRでのQ4/Q3値が3以上
(e)非結晶質であること
(f)金属不純物の含有量が100ppm以下 (もっと読む)


【課題】所定量の半導体粉末を含む小塊を溶融して球状溶融体を形成し、これを冷却凝固させて半導体粒子を製造する方法において、p型またはn型のドーパントがドープされた、質量と寸法形状のばらつきが小さい球状半導体粒子の効率的な製造を可能とする。
【解決手段】所定質量の半導体粉末とドーピング剤とを含む小固形体を造粒により形成する。これを、加熱して各小固形体内の半導体粉末を溶融させ、融合させて球状溶融体を形成し、冷却して凝固させる。小固形体にはバインダーを含むことが好ましい。ドーピング剤は、半導体粉末にドーピング剤を添加した混合物を造粒する方法、造粒操作中に添加する方法、および、造粒物をドーピング剤溶液に接触させる方法などにより、小固形体中に含ませることができる。 (もっと読む)


【課題】四塩化珪素の加水分解による高純度シリカ粒子の製造方法において、四塩化珪素の反応効率がよく、シリカ含有量の高いゲルを得ることができる製造方法を提供する。
【解決手段】四塩化珪素の加水分解によって高純度のシリカ粒子を製造する方法において、管路型の混合器を用い、混合器の管路に純水と四塩化珪素を導入し、冷却下で混合した後に、この混合液を冷却した容器に入れて静置し、生成したゲルを乾燥して焼成することを特徴とする高純度シリカ粒子の製造方法であり、好ましくは、四塩化珪素の導入量が純水1リットルに対して1.5モル以上であり、生成したゲル中のシリカ含有量が5.0質量%以上であって、50μm以上の平均粒子径を有する高純度シリカ粒子を製造する方法。 (もっと読む)


本発明は、基材およびそれに適用されているケイ酸鉄(II)含有被覆を含む顔料、これらの顔料の調製方法、ならびにそれらの使用に関する。 (もっと読む)


本発明は、シリカート溶液からの高純度SiO2の新規の製造方法、特殊な汚染物質プロファイルを有する新規の高純度SiO2並びにその使用に関する。
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本発明は、ガス中のCO2量を減少させるための方法に関するものであり、前記方法は、ガス性排出物を、CO2捕捉剤を含有する吸収剤に接触させることによる方法であり、前記CO2捕捉剤は固体複合材料(M)からなる基質上に含浸され、前記材料(M)は、ポリマー(P)と鉱物酸化物、シリコアルミン酸及び活性炭から選択される化合物(C)とを含有し、前記材料(M)は、平均粒径(D50)が100μm以上であり、直径が3.6〜1,000nmの範囲で含まれる細孔で形成される細孔容積Vd1が、少なくとも0.2cm3/gである。また、本発明は前記方法で使用する特定の吸収剤に関する。 (もっと読む)


【課題】化学的に不活性な粒子状不純物を効率的に除去することができるシリコンの精製方法を提供することを課題とする。
【解決手段】二酸化珪素と、シリコンカーバイト、シリコンナイトライドまたはダイヤモンドの何れかを粒子状不純物として含む回収シリコンを、加熱してシリコン融液を得る融解工程と;前記シリコン融液を冷却して得られるシリコン塊を粉砕してシリコン粒を得る粉砕工程と;前記シリコン粒を酸溶液で洗浄して二酸化珪素を前記粒子状不純物とともに除去する酸洗浄工程と;を含むことを特徴とするシリコンの精製方法により上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】軽量であって静水圧下の浮揚残存率が高い無機中空微粒子を提供する。
【解決手段】平均粒径5〜200μmのシリカ質微粒子であって、該粒子の内部空間が隔壁によって区切られており、該内部空間が独立気泡によって形成されていることを特徴とする無機中空微粒子であり、好ましくは、8MPa静水圧浮揚残存率が50%以上であって、吸水率が3%以下であり、平均粒径が20〜100μm、容重が0.16〜0.35g/cm3であり、圧縮強度が15MPa以上である無機中空微粒子。 (もっと読む)


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