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Fターム[4G072DD02]の内容

珪素及び珪素化合物 (39,499) | 粒径 (1,792) | 1−0.1mm (120)

Fターム[4G072DD02]に分類される特許

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本発明は、冶金学および/または化学に関し、特に、気体状四フッ化ケイ素、および気体状四フッ化ケイ素から多結晶シリコンを製造するための方法および設備に関する。ケイフッ化水素酸溶液から四フッ化ケイ素を製造する方法は、酸抽出物の発生、抽出物洗浄、抽出物乾燥および抽出物分解、および分離されていない気体状四フッ化ケイ素およびフッ化水素流を二酸化ケイ素を通してバブリングすることを含む。シリコン製造方法は、気体状四フッ化ケイ素をマグネシウム蒸気と相互作用させ、続いて最終製品を分離することを含む。本発明により、高純度のシリコンを製造すること、最終製品の収率を増加させること、製造の環境保全性を改良すること、シリコンの製造方法を簡素化すること、および最終製品の素原価を下げることができる。
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【課題】渦動床反応器中で反応ガスをシリコン顆粒に析出させることによって高純度のポリシリコン顆粒を連続的に製造する方法を提供する。
【解決手段】少なくとも2つの隣接する帯域からなる反応空間を備えた反応器において、下方の帯域はシリコン不含ガスを複数のできるだけ均一に分布したノズルを通してシリコン顆粒中に導入することによって弱く流動化され、上方の帯域は壁の外側に設けた加熱装置により加熱され、形成された反応帯域中にシリコン含有反応ガスは1つ以上のノズルにより上向きに垂直方向に向いたガス噴流よりも高速で噴入され、ノズルの上方で気泡を形成する渦動床によって包囲されて局部的な反応ガス噴流が形成され、反応ガス噴流の内部でシリコン不含ガスは粒子表面上で分解し、粒子の成長を生じ、反応ガスは殆んど化学的な平衡反応が静止するまで導入され、反応ガスに含まれるシリコンをシリコン顆粒に析出させる。 (もっと読む)


【課題】ウラン含有量と共にリン含有量についても制御を行い、半導体封止材に適用した場合に、より高い性能が実現できる金属ケイ素粉末を提供すること。
【解決手段】ウラン元素を質量基準で10ppb以下、リン元素を質量基準で100ppm以下、1ppm以上含有することを特徴とする。球状シリカ粉末を製造して半導体封止材に適用する場合に、ウラン含有量を低減して用いるような高い性能が要求される用途であっても高い性能を発揮することが可能になる。具体的にはリンを所定範囲内に制御することで、球状シリカ粉末を製造した場合に、樹脂組成物を構成する有機樹脂材料に対する濡れ性を向上することが可能になると共に、樹脂組成物の電気伝導度を低減することが可能になっている。 (もっと読む)


【課題】ウラン及びトリウムの含有量が少なく、かつアルカリ金属及びアルカリ土類金属の含有量が少ない高純度のクリストバライト粒子、及びこのクリストバライト粒子を短時間で効率よく、しかも経済的に製造する方法を提供する。
【解決手段】表面の一部又は全面にアルミニウム、マグネシウム及びチタンから選ばれる金属及び/又はその酸化物が、金属換算で200〜2,000ppm存在する高純度クリストバライト粒子。 (もっと読む)


多相乳液の油/水の界面でアルコキシシランを重合させて、多核マイクロカプセルの懸濁液を形成することにより多核マイクロカプセルを調製する方法を開示する。また、親水性活性物質を場合によって含む、多核マイクロカプセルおよびその使用を開示する。
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【課題】工業生産により適したシリコンの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明のシリコンの製造方法では、化学反応式(1)
【数1】


の右辺に反応が進む酸素濃度及び温度の反応条件で微粒子状のSiO2を還元することによりシリコンを製造する。 (もっと読む)


【課題】、優れた細孔の利用効率を持ち、通常の汚染試料に加え、極めて低濃度の汚染試料においても、その混在するVOCs等の有害な有機化合物を、特に液相系で高効率に吸着・除去できる、処理効率が高い新規な吸着剤を提供する。
【解決手段】マイクロメートル領域の細孔径を有する連続した細孔(マクロ貫通孔)と、そのマクロ貫通孔に直結したナノメートル領域の細孔径を有する細孔(ナノ細孔)との二種類のタイプの細孔を併せ有する二元細孔シリカに疎水化処理を施し、二元細孔構造を破壊することなく表面が有機官能基で修飾された疎水性シリカであって、疎水化後の上記ナノ細孔の平均直径が2〜15nmを特徴とする有機化合物用吸着剤。 (もっと読む)


【課題】工業的に且つ安価に生産可能な金属シリコンの精製方法を提供すること。
【解決手段】純度が99.5%以上の金属シリコンを150μm以下に粉砕した後、その粉砕物から5μmより小さな粒径の微粒子を分級除去することにより、5〜150μmの粒径の金属シリコンを採取し、次いでこの微粒子の除去された金属シリコン粒子を希薄フッ化水素酸中において10時間以上浸漬処理することによって、酸洗浄を施し、更にその後、水洗して、乾燥するようにした。 (もっと読む)


【解決課題】吸着性能が高く且つ難燃性が高い吸着剤を提供すること。吸着性能及び脱着性能が高く且つ難燃性が高い吸着剤を提供すること。
【解決手段】活性炭及び該活性炭の外側表面に固定されているシリカゲル粒子からなることを特徴とするシリカゲル活性炭複合体。活性炭及びシリカゲル粒子の混合物に、機械的エネルギーを加えて得られることを特徴とするシリカゲル活性炭複合体。回転部材を備える撹拌型混合造粒装置に、活性炭及びシリカゲル粒子の混合物を投入し、該回転部材の回転数を10〜600回転/分で回転させて、該活性炭及びシリカゲルの混合物を、該回転部材で撹拌することにより得られることを特徴とするシリカゲル活性炭複合体。 (もっと読む)


【課題】アルミナ粉末の有する艶、伸び、密着性、カバー力等の物性を生かしながら、ぎらつき感や不自然な仕上がりを改善した粉体を提供する。
【解決手段】球状粉末の表面をアルミナ粉末で被覆したことを特徴とする複合粒子。 (もっと読む)


【課題】液相法により、少ない有機化合物使用量で、小粒径で化学組成が均一で単相のSc含有複合金属酸化物、複合金属窒化物、複合金属酸窒化物、複合金属硫化物、または複合金属酸硫化物を効率的にかつ安価に製造する。
【解決手段】Scと、Sc以外の1種以上の金属元素とを含む、複合金属酸化物、複合金属窒化物、複合金属酸窒化物、複合金属硫化物、または複合金属酸硫化物を製造する方法であって、以下の工程を含むことを特徴とする複合金属化合物の製造方法。
a)少なくともSc化合物を含む2種以上の金属元素化合物と、ヒドロキシカルボン酸とを溶媒に溶解し、これらを反応させて金属錯体を生成させる工程
b)前記金属錯体が生成した液に多価アルコール化合物を加えて加熱することによりゲルを生成させる工程
c)生成したゲルを加熱することにより複合金属化合物前駆体を得る工程
d)前記複合金属化合物前駆体を熱処理する工程 (もっと読む)


【課題】 極めて制御された均一な形状を有するとともに、不純物量が少なく、シャープな細孔分布を示し、耐水性、耐熱性、物性安定性に優れ、且つ製造コストが低くて生産性にも優れるシリカゲルを提供する。
【解決手段】 (a)細孔容積が0.3〜3.0ml/g、(b)比表面積が200〜1000m2/g、(c)細孔の最頻直径(Dmax)が20nm未満、(d)直径がDmax±20%の範囲内にある細孔の総容積が、全細孔の総容積の50%以上、(e)非晶質、(f)金属不純物の総含有率が500ppm以下、
(g)短径/長径の値が0.90〜1であり、且つ、(h)固体Si−NMR測定におけるQ4ピークのケミカルシフトδ(ppm)が下記式(I)
−0.0705×(Dmax)−110.36>δ ・・・式(I)
を満足するようにする。 (もっと読む)


【課題】珪酸アルカリ水溶液を用いる二元細孔シリカの製造において、その生産性を向上させ、また製造工程から発生する洗浄廃液量を削減し、且つ、高純度の二元細孔シリカが得られる二元細孔シリカの製造方法を提供する。
【解決手段】珪酸アルカリ水溶液、水溶性有機化合物、及び酸を含むゾル液を、該ゾル液中の相分離が過渡の状態でゲル化させた後、得られる湿潤ゲルに洗浄液を加え、加圧または減圧濾過することにより、該湿潤ゲルを洗浄することを特徴とする二元細孔シリカの製造方法。 (もっと読む)


【課題】クーラントが除去されたシリコン含有材料を回収する方法を提供する。
【解決手段】本発明のシリコン含有材料の回収方法は,水溶性クーラント,砥粒及びシリコン粒を少なくとも含有する,シリコンウエハの製造プロセスでの使用済みスラリーから水溶性クーラントを予め除去することによって固形分を得て,その固形分から,水溶性クーラントに対し相溶性を有しかつ水溶性クーラントよりも沸点が低い低沸点有機溶媒を用いて前記固形分中に残留する水溶性クーラントを抽出し,抽出に用いた低沸点有機溶媒を濾過によって除去し,濾過により得られる固形分を回収することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】クーラントが除去されたシリコン含有材料を回収する方法を提供する。
【解決手段】本発明のシリコン含有材料の回収方法は,水溶性クーラント,砥粒及びシリコン粒を少なくとも含有する,シリコンウエハの製造プロセスでの使用済みスラリーから水溶性クーラントを予め除去することによって固形分を得て,その固形分から,水溶性クーラントに対し相溶性を有しかつ水溶性クーラントよりも沸点が低い低沸点有機溶媒を用いて前記固形分中に残留する水溶性クーラントを抽出し,抽出に用いた低沸点有機溶媒を遠心分離によって除去し,遠心分離により得られる固形分を回収することを特徴とする。 (もっと読む)


本発明は、出発材料を破砕することにより、前記出発シリコン材料を回収および/またはリサイクルするための方法に関する。回収またはリサイクルされた材料は溶融され、結晶は、例えばシリコンブロック、チューブ、またはストリップとして得られた融液から成長する。何の問題もなく同じものを搬送するために高いアスペクト比を有する出発材料を用いることを可能にするために、5<AI≦30のアスペクト比AIを有する粒子を含有する、破いた多結晶ニードル状Si材料(材料I)を出発材料として用いる。材料Iを、破砕した粒子(材料II)が実質的にAII<3のアスペクト比を有するように破砕する。あるいは、砕いたSiウエハを用い、これは、破砕した粒子(III)が本質的にAIII<3のアスペクト比を有するように破砕した層状粒子から成る。
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【課題】 融液から余分な飛沫の発生を抑制するとともに、安定して粒径の揃った粒状半導体を得ることができるとともに、高い結晶性を持った粒状半導体を得ることができる粒状半導体の製造装置および製造方法を提供すること。
【解決手段】 坩堝3のノズル部2からシリコンの融液1を粒状に排出して落下させるとともに、この粒状の融液1を落下中に冷却して凝固させることによって粒状シリコンを製造する粒状シリコンの製造装置であって、坩堝3を振動させる加振手段7と、坩堝3内を加圧して融液4を排出する加圧手段と、排出された融液1を観察する観察手段9と、観察された融液1の落下状態を調節するために加振手段7を制御する制御手段とを具備している粒状シリコンの製造装置である。 (もっと読む)


本発明は、(a)反応管と、(b)反応管を取り囲む反応器シェルと、(c)シリコン粒子層が形成されシリコン析出が起きる反応管内に形成される内部領域、及び不活性ガス雰囲気下に維持される反応器シェルと反応管の間に形成される外部領域と、並びに(d)内部領域と外部領域との間の圧力差が0バール(bar)以上1バール以下の範囲内に維持される制御手段と、を備え、それによって、比較的高反応圧力下であっても反応管の物理的安定性を維持し、粒状多結晶シリコンを効率的に製造可能とする粒状多結晶シリコン製造用高圧流動層反応器に関する。
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熱分解により製造された二酸化ケイ素をクラスト形成のために緻密化し、その際、熱分解により製造された二酸化ケイ素を予備脱気に供し、かつ緻密化してクラストを形成させ、かつ該クラストを破砕し、かつ場合により分級する。クラスト形成のために緻密化された二酸化ケイ素の(DIN EN ISO 787−11による)タップ嵩密度は185〜700g/lである。該二酸化ケイ素はゴム混合物中のフィラーとして使用されることができる。
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微粒子を官能基化するシステムおよび方法を提供する。微粒子を官能基化する方法は、微粒子をリアクターに供給する工程、実質的に溶媒の不存在下で微粒子を流動化させる工程、シラン含有物質を前記流動化された微粒子に供給する工程、および前記シラン含有物質と前記流動化された微粒子とを反応させてシラン官能基化微粒子を得る工程とを含む。このシラン官能基化微粒子は、分離媒体その他の工業用途に利用することができる。
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