【解決課題】シリカ粒子中のイオン性の高い不純物を短時間に除去することができる精製効果に優れた処理方法と装置および精製シリカ粒子を提供する。
【手段】シリカ粒子を流動状態にし、高温下で流動状態のシリカ粒子に精製ガスを接触させてシリカ粒子の不純物成分を除去する精製方法において、流動状態のシリカ粒子を磁場領域内に位置させて、シリカ粒子の移動により生じる電場によってシリカ粒子に電圧を印加した状態にして精製ガスと接触させることを特徴とするシリカ粒子の精製方法であり、好ましくは、流動状態のシリカ粒子を、１０ガウス以上の磁場領域内に位置させて、１０００℃以上の温度下で精製ガスと接触させるシリカ粒子の精製方法。 （もっと読む）

乾燥液体、その製造方法およびその製造のための装置に関する。５μｍ未満の個々の液滴を有する疎水性の熱分解法シリカを含有する乾燥液体は、液体および疎水性シリカを、強力撹拌機を用いて混合することにより製造され、その際、ウォール−チャネリングスターラーを同時に動かし、かつこの強力撹拌機をその軸方向に動かす。 （もっと読む）

粒度分布（積算値 ふるい下）Ｄ１０％：８〜１４０μｍ；Ｄ５０％：１４０〜２００μｍ；Ｄ９０％：１９０〜３４０μｍを有する乾燥液体を、液体および疎水性の熱分解法シリカを、明確に定義され空間的に限定された剪断領域中を通過させることにより製造し、その際、液体は小さい液滴に分割され、かつ疎水性の熱分解法シリカによって包囲されている。
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【課題】珪素を効率的に製造する方法を提供する。
【解決手段】工程(i)を含む珪素の製造方法。
式（１）で示されるハロゲン化シランを金属により還元する工程(i)、
ＳｉＨ_nＸ_4-n （１）
〔式中、ｎは０〜３の整数であり、ＸはＦ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩから選ばれる少なくとも１つであり、Ｘが複数のとき、複数のＸは互いに同一でも異なってもよい。〕
前記金属は、融点が１３００℃以下であり、還元反応時に液相であり、かつその液相の形状は球状であり、その半径をｒ（μｍ）とし、反応時間をｔ（分）、反応温度をｘ（℃）としたとき、式（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を満たす。
ｌｎ（ｒ／√ｔ）≦（１０．５−７０００／（ｘ＋２７３）） （Ａ）
１≦ｒ≦２５０ （Ｂ）
４００≦ｘ≦１３００ （Ｃ） （もっと読む）

【課題】３００〜５０００μｍの粒度のシリコン粒状物から５００〜１０００μｍの粒度のシリコン種結晶粒子を製造する装置を提供する。
【解決手段】前記装置は、シリンダー状横断面を有する垂直に配置された噴射室（８）を有し、噴射室（８）の底面に噴射ノズル（４）を有し、噴射ノズルにより粉砕ガス流（１）を噴射室（８）に導入することができ、噴射室（８）に直接接続する向流重力分離器（９）およびシリコン粒状物の入口（６）を有する装置であり、噴射室（８）が噴射室の横断面に粉砕ガス流を拡大するために十分な長さを有し、噴射室（８）が向流重力分離器（９）より小さい流動横断面を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】粒状シリコン結晶の製造方法において、粒状シリコン結晶の生産性が高く、製造された粒状シリコン結晶の粒径バラツキが小さく、しかも再現性良く粒状シリコン結晶を製造できる粒状シリコン結晶の製造方法を提供することにある。
【解決手段】坩堝１内のシリコン融液を炭化珪素または窒化珪素から成るノズル部１ａから粒状に排出して落下させるとともに、この粒状のシリコン融液４を落下中に冷却して凝固させることによって粒状シリコン結晶５を製造する方法において、前記坩堝１内のシリコン融液に、前記ノズル部１ａが炭化珪素から成る場合には炭素源を、前記ノズル部１ａが窒化珪素から成る場合には窒素源を添加することである。 （もっと読む）

【課題】 安定して高効率に結晶化するとともに高い結晶性を持ったシリコン結晶粒子を得ることができるシリコン結晶粒子の製造方法を提供すること。
【解決手段】 シリコン結晶粒子１の製造方法は、不純物ドープされたシリコン層３が表面に形成されている、不純物ドープされていないシリコン結晶粒子１を、台板２上に載置して加熱炉内に導入し、シリコン結晶粒子１を加熱してその形状を保持した状態で溶融させた後、シリコン結晶粒子１を固化させることによって、不純物ドープされたシリコン結晶粒子１を製造する。 （もっと読む）

生物材料の溶解物を清浄化するための浮遊性粒子のネットワークであって、このネットワークは互いに共有結合した２つ以上の浮遊性粒子を含み、ここでこのネットワークはそのネットワークの最長寸法に沿って約３０μｍ〜約１ｃｍの大きさに及ぶ、生物材料の溶解物を清浄化するための浮遊性粒子のネットワーク。浮遊性粒子はシリカ表面を有し得る。このネットワークは約１．２ｇ／ｃｍ^３未満の密度を有し得る。浮遊性粒子のネットワークを作製する方法、及び浮遊性粒子又は浮遊性粒子のネットワークを使用して、標的となる生物材料を単離する方法も記載されている。 （もっと読む）

【課題】疎水性物質を有する粒子の製造方法を開示する。
【解決手段】
疎水性物質をその中へ含有する粒子の製造方法であって、該方法は；疎水性媒体中へ分散された第一乳剤を含有する多重乳剤を提供する工程であって、該第一乳剤は親水性相中へ分散された疎水性相を含有し、ここで疎水性相は疎水性物質及び非流動性マトリックスを形成する反応可能な前駆体を含有する疎水性相を含有し；及び−多重乳剤中の前駆体を反応させ、疎水性物質をその中へ含有する粒子の形でマトリックスを形成し；ここで前駆体は多重乳剤の生成に先行して添加されるものである、製造方法。また、疎水性物質を有する粒子及び粒子の使用方法を開示する。該粒子は、疎水性物質をその中へ有する粒子と同様に放出可能であって、放出可能であって、本発明の製造工程によって製造されたものである。 （もっと読む）

【課題】 クラウンエーテル等のイオンを交換乃至は吸着できる樹脂を担持させてなる吸着成分を大量に担持させることができ、しかも十分な粒子強度を有しており、クラマトグラフィのカラム等の充填した場合にも粒子形状が安定に保持され、元素や同位体を化学的に分離濃縮に支障を及ぼすことがない多孔質粒子を提供する。
【解決手段】 シリカ微細粒子の集合体から形成された球状二次粒子からなり、該球状二次粒子は、レーザ回折法により測定して５乃至２００μｍの平均粒径（Ｄ_５０）を有しており、水銀圧入法で測定して半径０．１乃至２μｍの粒子内細孔と０．５ml／ｇ以上の細孔容積とを有し、且つ粒子強度が０．５以上であることを特徴とする。シリカ微細粒子が有機バインダーと共に水に懸濁分散されたスラリーを調製し、該スラリーをスプレー造粒し、得られた粒状物を乾燥及び焼成することにより製造する。 （もっと読む）

【課題】本発明は長期に亘って安定した炭酸ガスの吸収特性を得られる炭酸ガス吸収材を提供する。
【解決手段】リチウム複合酸化物を主成分とする多孔質の炭酸ガス吸収材であって、前記多孔質体において１０〜１００μｍの孔径をもつ第１気孔が合計で全気孔の１０〜８０％を占め、かつ１００μｍを超え、５００μｍ以下の孔径を持つ第２気孔が合計で全気孔の１０〜８０％を占めることを特徴とする炭酸ガス吸収材。 （もっと読む）

超高純度の光学品質ガラス製品を製造する方法が開示され、前記方法は、
１． 金属酸化物又はメタロイド酸化物を緻密化して約１ミリメートルより小さい平均粒子サイズを有する顆粒にする工程；
２． 場合により、前記顆粒を完全に焼結させて、高純度の人工砂を製造する工程；
３． この顆粒状の人工砂を通常の技術、例えばスリップ注型成形により注型して、高密度の多孔性成形体を作成する工程；
４． 場合により、前記成形体を乾燥及び部分的に焼結する工程；
５． 場合により、前記成形体を真空下で完全に焼結する工程；及び
６． 場合により、前記の完全に焼結した成形体を熱間静水圧加圧成形する工程を有し、
その際、前記金属酸化物又はメタロイド酸化物は、ＢＥＴ表面積３０〜９０ｍ²／ｇ、ＤＢＰインデックス８０より低、アグリゲート平均面積２５０００ｎｍ²より低及びアグリゲート平均周長１０００ｎｍより低を有し、その際、前記アグリゲートの少なくとも７０％は１３００ｎｍより短い周長を有する熱分解二酸化ケイ素粉末、又は０．２μｇ／ｇより低い金属含有量を有する熱分解法により製造された高純度二酸化ケイ素である。 （もっと読む）

二酸化ケイ素をベースとし、かつ次の特性：平均粒度：１０〜１２０μｍ、ＢＥＴ表面積：４０〜４００ｍ²／ｇ、細孔容積：０．５〜２．５ｍｌ／ｇ、細孔分布：合計の細孔容積の５％未満が、直径＜５ｎｍを有する孔であり、残りはメソ孔及びマクロ孔、ｐＨ値：３．６〜８．５、タップ密度：２２０〜７００ｇ／ｌを有する顆粒。前記顆粒は、二酸化ケイ素を水中に分散、噴霧乾燥、場合により加熱及び／又はシラン化することにより調整される。その際、ＢＥＴ表面積３０〜９０ｍ²／ｇ、ＤＢＰ値８０以下、アグリゲート平均面積２５０００ｎｍ²未満及び平均アグリゲート周長１０００ｎｍ未満を有し、アグリゲートの少なくとも７０％が１３００ｎｍより小さい周長を有する熱分解二酸化ケイ素粉末又は０．２μｇ／ｇより少ない金属含有量を有する高純度な熱分解により調整された二酸化ケイ素（３０ｐｐｂよりも少ない金属含有量を有する四塩化ケイ素を火炎加水分解により反応させて調整された）が使用される。 （もっと読む）

ガラスは、プリフォームの縦方向に対してほぼ平行に前後に動くプラズマトーチの前方で動かしてプリフォームに予備焼結組成物を堆積させることにより製造され、第１の供給ダクトはプラズマに予備焼結組成物の粒を供給し、場合により第２の供給ダクトはプラズマにキャリアガスと混合されたフッ素化合物又は塩素化合物、有利にフッ素化合物を供給し、その際、前記の予備焼結組成物は、３０〜９０ｍ²／ｇのＢＥＴ表面積、８０以下のＤＢＰインデックス、２５０００ｎｍ²より低いアグリゲート平均面積、１０００ｎｍより低いアグリゲート平均周長を有し、その際、前記アグリゲートの少なくとも７０％は１３００ｎｍより低い周長を有する熱分解二酸化ケイ素粉末、又は火炎加水分解法により３０ｐｐｂよりも低い金属含有量を有する四塩化ケイ素の反応により製造された０．２μｇ／ｇよりも低い金属含有量を有する熱分解法により製造された高純度の二酸化ケイ素の金属酸化物又はメタロイド酸化物の顆粒からなる。 （もっと読む）

【課題】 溶融時に発泡のない、高純度かつ高品質の合成石英ガラスを提供しうるシリカゲルを得る。
【解決手段】 少なくとも反応容器を備えた反応装置を用い、該反応容器中でゾルゲル反応を行なうことにより、シリカゲルを製造する方法において、該反応容器の液又はシリカゲルが接する内壁部分を予めアルカリ洗浄することにより、該内壁部分に付着するスケール層を剥離限界厚み以下にした後、上記ゾルゲル反応を行なう。 （もっと読む）

【課題】平均粒子径１００μｍ以上の大きな粒径を有する無機質球状体の製造方法の提供。
【解決手段】無機化合物を含む水性液体を有機液体中に分散させてＷ／Ｏ型エマルジョンを形成する工程、前記Ｗ／Ｏ型エマルジョンに金属アルコキシドを添加する工程、及び、前記Ｗ／Ｏ型エマルジョン中の無機化合物を含む水性液体を固形化して無機質球状体を生成させる工程、を経る無機質球状体の製造方法。前記Ｗ／Ｏ型エマルジョンを形成する工程が、流路中を流速０．００１〜２ｍ／ｓで、かつ、層流状態で流れる有機液体中に、微小孔を有する隔壁を通して無機化合物を含む水性液体を押し出してＷ／Ｏ型エマルジョンを形成する。 （もっと読む）

【課題】 加工コストを削減できる形状であるとともにノズル孔の詰まりを防止でき、またノズル孔の腐食防止、粒状結晶の平均粒径の安定化、粒状結晶の製造歩留まりの向上が達成されるノズルを用いた粒状結晶の製造装置を提供すること。
【解決手段】 粒状結晶の製造装置は、坩堝１のノズル５から結晶材料の融液を粒状に排出して落下させるとともに、この粒状の融液を落下中に冷却して凝固させることによって粒状結晶を製造するものにおいて、ノズル５は、平板状の基体の坩堝１内側の面に突出部５ａが形成されているとともに突出部５ａの頂部から他方主面にかけてノズル孔６が形成されている。 （もっと読む）

高純度の半導体グレードの顆粒状シリコン、及びそのような顆粒状シリコンを製造する方法を開示する。第１の化学気相蒸着（ＣＶＤ）反応装置内で、シリコン・シードにシリコンをデポジットさせ、それによってシードをより大きな二次シードに成長させて、商業的品質の顆粒状シリコンを製造することができる。第２の化学気相蒸着反応装置内で、二次シードに追加のシリコンをデポジットさせる。この明細書に記載する方法を用いて、常套の方法よりも高いスループット及びより良い収率を達成することができる。
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本発明は、非常に早いバイオリソープション速度を有するゾル−ゲル誘導ＳｉＯ₂を調製するための方法に関し、ゾル−ゲル誘導ＳｉＯ₂は、触媒として鉱酸または塩基を用いて水、アルコキシドまたは無機シリケートおよび低級アルコールを含有するゾルから調製され、前記ゾルは熟成し乾燥される。該方法の特徴は、ｐＨは１．５から２．５、水対アルコキシドまたは無機シリケートのモル比が０．５〜２．５で、アルコール対アルコキシドまたは無機シリケートのモル比が０．５以上であり、かつゾルを組成の誘導変化なしに、かつゾルの強制乾燥なしにゲル化させ、または組成の変化を誘導し、誘導変化してから３０分以内にゾルの強制乾燥が行われるかまたは開始されることである。本発明はゾル−ゲル誘導ＳｉＯ₂のバイオリソープション速度を調節するための方法にも関する。調節方法についての特徴は、非常に早いバイオリソープション速度を有するＳｉＯ₂は上で該当する方法により得られ、もっとも早いバイオリソープション速度よりゆっくりしたバイオリソープション速度を有するＳｉＯ₂はパラメータのいくつかを変化させることによって得られる。ｐＨ、水対アルコキシドまたは無機シリケートのモル比および／またはアルコール対アルコキシドまたは無機シリケートのモル比、成分または複数の成分および／または任意の生物学上活性な薬剤または複数の薬剤の添加による誘導変化、強制乾燥を行わない、または後にゾルの強制乾燥を行うか、または開始することによる値に影響を及ぼす前記変化を行うこと、および／またはゾルを自然にゲル化させるために温度を変化させることである。本発明は、さらに本発明の方法により得られる生体再吸収性ゾル−ゲル誘導ＳｉＯ₂に関し、生物学上活性な薬剤の投与における使用に関する。 （もっと読む）

本発明は種々のペースト状若しくは固体状のマトリックス又は媒体、エラストマー又はシリコン中で高い分散性を有する低吸水性で高度に構造化された沈降シリカ、並びにその製造方法に関する。また、本発明は（靴底用の透明又は半透明）エラストマーをベースとしたマトリックス、（とりわけ電線被覆用の）シリコンマトリックス中の補強充填剤としての、種々の組成物（食品、化粧品、医薬組成物、塗料や紙を製造するための組成物、電池用の多孔質膜セパレータを製造するための組成物）の充填剤及び／又は担体及び／又は賦形剤としての、或いは歯磨剤中の増粘剤としての上記シリカの使用に関する。 （もっと読む）