以下の物理化学的パラメータを有するミクロポーラス沈降シリカが本明細書に記載される：ＣＴＡＢ表面積５０から３００平方メートル／グラム、ＢＥＴ／ＣＴＡＢ比≧１．３、細孔径分布の相対幅γ≦３．５。上記沈降シリカは、Ｓｅａｒｓ数１０から２８及びＳｅａｒｓ数／ＣＴＡＢ比≦０．１６も有することができる。上記ミクロポーラス沈降シリカを含む、加硫可能及び加硫されたエラストマー組成物、例えばタイヤも本明細書に記載される。 （もっと読む）

本発明は、平均径が１０〜１２０μｍの範囲にあり、ＢＥＴ表面積が４００〜８００ｍ^２／ｇの範囲にあり、気孔体積が０．３〜３．０ｃｍ^３／ｇの範囲にある、少なくとも一種の金属及び／又は半金属酸化物を含む球状ビーズであって、あるビーズのいずれの位置でのビーズ径も該ビーズの平均径から１０％以上相違することがなく、該ビーズの表面が実質的に平滑であることを特徴とするビーズと、これらの球状ビーズ製造方法、該球状ビーズを含む粒子状触媒、および該球状ビーズの触媒または触媒担体としての利用に関する。 （もっと読む）

【課題】化粧料に配合されたとき、持続して優れたソフトフォーカス性を付与することができる新規な非晶質シリカ及びその製造法を提供する。
【解決手段】Ｘ線小角散乱法で測定した一次粒子径が１８乃至５０ｎｍであり、電子顕微鏡で観察した個々の粒子の円形度が０．７０乃至０．８５であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高い不純物除去効果を有する金属含有物除去方法を提供する。
【解決手段】本発明の金属含有物除去方法は、シリコンを機械加工して得られかつシリコン粒子を含む廃スラリー又は前記廃スラリーから分離したシリコン回収固形分を酸性の第１洗浄液で洗浄する第１洗浄工程と、前記シリコン粒子を含む第１洗浄液を塩基で処理する中和処理工程と、前記塩基で処理した第１洗浄液から分離した前記シリコン粒子を含む固形分又はスラリーを酸性の第２洗浄液で洗浄する第２洗浄工程とを備え、前記機械加工から生じかつ第１洗浄工程で除去できなかった金属含有物を第２洗浄工程で効率的に除去することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】短時間で細孔内にシリカゲルを添着できると共に、ミクロ孔内にもシリカゲルを添着できる複合活性炭の製造方法を提供する。
【解決手段】シリカゲル原料となるケイ酸のアルカリ金属塩水溶液１に活性炭２を浸漬して、シリカゲル原料を活性炭２の細孔内に含浸させる含浸工程と、含浸工程後の活性炭２へ酸を添加するゾル化工程と、ゾル化工程後に固液分離して、活性炭２を加熱熟成するゲル化工程と、を有する、細孔内にシリカゲルが添着された複合活性炭の製造方法であって、含浸工程は、活性炭２を正極１１側に浸漬して水溶液１に電場を印加しながら行うことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 低品位の金属シリコンから冶金精錬法より太陽電池用高純度化シリコンを製造するに当たり、設備費用、エネルギーコストの低減及び原料シリコンの歩留り向上を図ると共に、品質が安定であり、かつ生産性の高い高純度シリコンの製造法を提供することを目的とする。
【解決手段】 金属シリコンを溶解する溶融炉において、電磁誘導方式、プラズマ方式、電子ビーム方式等の２種以上の加熱装置を有し、溶融した溶融シリコンを１基の溶融炉で真空処理及び、異なるガス雰囲気での酸化処理、還元処理を組み合わせて行うことにより原料シリコンに含まれる不純物を効率的に除去する。 （もっと読む）

本発明は、シリカート溶液からの高純度ＳｉＯ₂の新規の製造方法、特殊な汚染物質スペクトルを有する新規の高純度ＳｉＯ₂並びにその使用に関する。 （もっと読む）

【課題】化学的に不活性な粒子状不純物を効率的に除去することができるシリコンの精製方法を提供することを課題とする。
【解決手段】二酸化珪素と、シリコンカーバイト、シリコンナイトライドまたはダイヤモンドの何れかを粒子状不純物として含む回収シリコンを、加熱してシリコン融液を得る融解工程と；前記シリコン融液を冷却して得られるシリコン塊を粉砕してシリコン粒を得る粉砕工程と；前記シリコン粒を酸溶液で洗浄して二酸化珪素を前記粒子状不純物とともに除去する酸洗浄工程と；を含むことを特徴とするシリコンの精製方法により上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】高純度のシリカを、簡易にかつ低コストで製造しうる方法を提供する。
【解決手段】、（Ａ）珪質頁岩の粉状物を準備する工程と、（Ｂ）工程（Ａ）で準備した珪質頁岩の粉状物と、アルカリ水溶液を混合して、ｐＨが１１．５以上のアルカリ性スラリーとし、珪質頁岩の粉状物中のＳｉ、Ａｌ、Ｆｅを液分中に溶解させた後、該アルカリ性スラリーを固液分離して、Ｓｉ、Ａｌ、Ｆｅを含む液分と、固形分を得る工程と、（Ｃ）工程（Ｂ）で得られた液分と酸を混合してｐＨを１０．３以上１１．５未満とし、液分中のＡｌ、Ｆｅを析出させた後、固液分離を行い、Ｓｉを含む液分と、Ａｌ、Ｆｅを含む固形分を得る工程と、（Ｄ）工程（Ｃ）で得られた液分と酸を混合してｐＨを９．０以上１０．３未満とし、液分中のＳｉを析出させた後、固液分離を行い、高純度シリカとして回収しうるＳｉＯ_２を含む固形分と、液分を得る工程を含む高純度シリカの製造方法。 （もっと読む）

【課題】低湿度下でも高湿度下でも吸湿率が高いシリカゲル及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】全細孔容積が０．４５〜１．０ｃｍ^３／ｇであり、且つ、細孔直径２．５ｎｍ以下の領域に細孔分布のピーク（最大値）が存在することを特徴とするシリカゲル。珪酸アルカリ水溶液に鉱酸水溶液を加えて、ｐＨ１０．５〜１１．５でゾルを形成後、ゲル化させて、熟成前シリカヒドロゲルを得るゲル化工程と、該熟成前シリカヒドロゲルを、ｐＨ４〜７で一次熟成し、一次熟成シリカヒドロゲルを得る一次熟成工程と、該一次熟成シリカヒドロゲルを、ｐＨ０．５〜２で二次熟成し、二次熟成シリカヒドロゲルを得る二次熟成工程と、該二次熟成シリカヒドロゲルを乾燥し、シリカゲルを得る乾燥工程と、を有することを特徴とするシリカゲルの製造方法。 （もっと読む）

【課題】
効果的にＰＣＢ類やダイオキシン類等を含有する試料をクリーンアップ処理できるシリカゲル、及びこれを用いたＰＣＢ類やダイオキシン類等の高精度測定方法を提供すること。
【解決手段】
シリカゲルを９７〜１００％の硫酸で処理する、高濃度硫酸含有シリカゲルの製造法、該方法で得られた高濃度硫酸含有シリカゲルで処理する試料の前処理方法、該方法で処理した試料を用いる環境分析方法、該高濃度硫酸含有シリカゲルを含んでなるクロマトグラフィー用充填剤及び該充填剤を充填してなるクロマトグラフィー用カラム。 （もっと読む）

式Ｓｉ_nＨ_2n+2（ここでｎは１以上４以下の整数である）の化合物の製造方法であって、式Ｍ¹_xＭ²_yＳｉ_z（ここでＭ¹は還元性金属であり、Ｍ²はアルカリ金属またはアルカリ土類金属であり、ｘ、ｙおよびｚは０から１まで変化し、ｚは０と異なり、ｘ＋ｙは０と異なる）の粉末の形態にある少なくとも１種のシリサイドまたは珪素合金の、ＣＯ₂を含む水溶液との反応により、前記溶液は前記反応の温度および圧力においてＣＯ₂で飽和されているかまたは飽和されていない方法。 （もっと読む）

本発明は、水性懸濁液（Ｓ）を濾過して洗浄するための工程を含む沈降シリカの調製方法に関するものであり、この方法は次の工程を含む：
（ａ）沈降シリカの懸濁液（Ｓ）の第１の部分（Ｓ１）を濾過し、それによってケーク（Ｇ１）を形成させ、次いでこのケーク（Ｇ１）を洗浄し、それによって得られた洗浄されたケーク（Ｇ１）を特に水で希釈することによって懸濁させることによって、懸濁液（Ｓ'１）を形成させる工程；
（ｂ）前記懸濁液（Ｓ）の第２の部分（Ｓ２）を濾過し、それによってケーク（Ｇ２）を得る工程；並びに
（ｃ）工程（ａ）から得られた前記懸濁液（Ｓ'１）を、工程（ｂ）の終わりに得られて濾過プレコート層として用いられるケーク（Ｇ２）を通して濾過する工程：
を含む。
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【課題】珪酸は、しばしば極性化合物、例えば塩化コリン、プロピオン酸または蟻酸のための担持材料として使用されるので、極性化合物に関連して特に良好な吸収挙動を有する珪酸を提供する。
【解決手段】少なくとも１５〜６０の一定のアルカリ数の維持下に珪酸塩水溶液を酸により沈殿させることによって得ることができる沈降珪酸または珪酸塩。 （もっと読む）

【課題】耐水熱性に優れるシリカゲルを提供すること。
【解決手段】遷移金属又は卑金属を含有し、ナトリウム含有量がＮａ_２Ｏとして、０〜０．２質量％であるシリカゲル。 （もっと読む）

本発明は、特殊な孔径分布とともに特に狭い粒径分布を有する沈降珪酸、それらの製造方法、およびゴム混合物のための充填剤としてのそれらの使用に関する。
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【課題】コア粒子の表面にシリカ系被覆層が形成されたコア・シェル粒子からコア粒子の一部または全部を除去する工程において、シリカ系中空粒子の凝集を防ぐことができるシリカ系中空粒子の製造方法を提供すること。
【解決手段】上記課題は、コア粒子の表面にシリカ系被覆層が形成されたコア・シェル粒子を分散させた水及びアルコールの混合分散媒中に、無機酸を加えて、コア粒子の一部または全部を除去する工程、を含むことを特徴とするシリカ系中空粒子の製造方法により達成される。また、前記無機酸は、塩酸、硝酸、硫酸、リン酸から選ばれる少なくとも一種であることができる。そして、前記コア粒子が炭酸カルシウム粒子であることができる。 （もっと読む）

安定な表面を有する無機半導体ナノ粒子の製造方法が提供される。方法はシリコンまたはゲルマニウムのごとき無機バルク半導体物質を供し、次いで、選択された還元剤の存在下バルク半導体物質を粉砕することを含むことを特徴とする。還元剤は、半導体物質の１以上の成分元素の酸化物を化学的に還元するか、または優先的に酸化することによってかかる酸化物の形成を防止するように作用し、それにより、ナノ粒子間の電気的接触を可能にする安定な表面を有する半導体ナノ粒子を供する。粉砕はミルで行なわれ、粉砕手段および／またはミルの１以上の成分が、選択された還元剤を含む。
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【課題】絶縁性樹脂に高い絶縁性を付与することが可能なシリカゲル粉末を提供すること。
【解決手段】本発明のシリカゲル粉末は、比表面積が２００〜１０００ｍ²／ｇ、細孔分布曲線の主ピークの細孔直径が４ｎｍ以下であり、中空球の形状をしていることを特徴とする。このシリカゲル粉末は、中空球の形状をしている粉末珪酸アルカリと鉱酸とを、ｐＨ１以下の酸性領域で反応させることで得られる。中空球状の粉末珪酸アルカリとして、平均粒径が１０〜５００μｍのものを用いることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】
不透明度が高く、印刷インクの裏抜け（プリントスルー）防止適性、印刷適性（ブランケット汚れ、パイリング、表面強度）に優れ、記録面にインクジェットプリンターを用いて印字した際の印字濃度が高いインクジェット記録用紙を提供する。
【解決手段】
原紙の少なくとも片面に多孔性顔料と接着剤を含有するインク受容性塗工層を一層以上設けてなるインクジェット記録用紙であって、該原紙が填料として比表面積が１５〜２００ｍ^２／ｇ、かつ細孔径が０．０５〜０．８０μｍである水和ケイ酸塩を含有することを特徴とするインクジェット記録用紙。 （もっと読む）