【課題】分散性に優れた微粒子シリカを調製できるシリカの製造方法、及び該製造方法により得られたシリカを含むゴム組成物を提供する。
【解決手段】陽イオン交換樹脂を用いてｐＨを調整したケイ酸ナトリウム水溶液１と、ケイ酸ナトリウム水溶液２とを混合する工程（Ｉ）を含むシリカの製造方法に関する。 （もっと読む）

【課題】高純度のシリカを、簡易にかつ低コストで製造しうる方法を提供する。
【解決手段】
（Ｂ）液分中のＳｉ濃度が６．０質量％以上のケイ酸アルカリ水溶液と鉱酸を混合して、液分中のＳｉを非ゲル状の沈降性シリカとして析出させた後、固液分離を行い、ＳｉＯ_２を含む固形分と、不純物を含む液分を得るシリカ回収工程、を含むことを特徴とする高純度シリカの製造方法。
上記ケイ酸アルカリ水溶液は、シリカ含有鉱物粉末とアルカリ水溶液を混合したもの、又は水ガラス等である。 （もっと読む）

【解決課題】製造コストが低く、運転管理及び装置管理が簡便な多結晶シリコンの製造方法を提供すること。
【解決手段】高純度四塩化珪素と亜鉛との反応により生成する排出ガスから分離した該塩化亜鉛及び未反応亜鉛の混合物を酸化する酸化処理と、該混合物を塩酸水溶液に溶解させる塩酸水溶液溶解処理と、酸性抽出剤により亜鉛成分を抽出する亜鉛成分抽出処理と、硫酸水溶液により亜鉛成分を逆抽出する亜鉛成分逆抽出処理と、硫酸亜鉛水溶液を水溶液電解する硫酸亜鉛水溶液電解処理と、該亜鉛成分抽出処理で得られる塩酸水溶液のうちの一部の塩酸水溶液を精製する塩酸精製処理及び塩化水素ガスを気化させる塩化水素気化処理、又は該亜鉛成分抽出処理で得られる塩酸水溶液のうちの一部の塩酸水溶液を気化させ、塩化水素を精製する塩化水素気化精製処理とを有し、該塩酸水溶液のうちの他部、該酸性抽出剤を含有する有機溶媒、及び該硫酸水溶液を循環使用する高純度多結晶シリコンの製造方法。 （もっと読む）

【課題】製紙用の填料や顔料とするに適したシリカ複合粒子を連続的に製造することができるシリカ複合粒子の製造方法とする。
【解決手段】無機粒子Ｓ、珪酸アルカリ水溶液Ｋ及び鉱酸Ｒ１，Ｒ２からシリカ複合粒子を製造するにあたり、無機粒子Ｓ及び珪酸アルカリＫを第１の槽７０Ａに供給し、この槽７０Ａ内のスラリーＨＡが、第２の槽７０Ｂへ、第３の槽７０Ｃへ、第４の槽７０Ｄへと順に流れるものとしつつ、第３の槽７０Ｃ内のスラリーＨＣに鉱酸Ｒ２を添加するほか、第１の槽７０Ａ内のスラリーＨＡにも鉱酸Ｒ１を先行添加して、シリカ複合粒子を連続的に製造する。 （もっと読む）

【課題】ハンドリングが容易な洗浄液を用いて、少ないシリコンのロスでアルミニウムを効果的に低減できる精製方法により精製されたシリコンの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の精製されたシリコンの製造方法は、アルミニウムを含むシリコン塊を粉砕してシリコン粒子を得る粉砕工程（Ｓ１０）、及び当該シリコン粒子を塩酸中に浸漬して酸洗浄する洗浄工程（Ｓ３０）、をこの順に備える。 （もっと読む）

【課題】疎水性有機物の有効利用効率を向上できる、複合シリカ粒子及び中空シリカ粒子の製造方法の提供。
【解決手段】シリカを含む成分から構成されるメソ細孔構造を有する外殻部を備え、かつ、前記外殻部の内部に疎水性有機物を含む複合シリカ粒子の製造方法であって、疎水性有機物を含む溶液に水性溶媒を添加して乳化すること、及び、前記疎水性有機物の乳化油滴表面にシリカを含む成分から構成されるメソ細孔構造を有する外殻部を形成させることを含む複合シリカ粒子の製造方法。 （もっと読む）

本発明は、沈降シリカ、特に粉体形状の沈降シリカの製造方法に関する。本発明はまた、得られる沈降シリカ、その使用、特にシリコーンエラストマーマトリックス又はシリコーンペーストをベースとするマトリックスを補強するためのその使用にも関する。 （もっと読む）

金属イオンを含む化学エッチング液を使用して多孔質シリコンを製造する方法が、記載される。 （もっと読む）

【課題】耐食性、耐衝撃性等に優れ、かつシリカ純度が高いシリカ膜およびその形成方法を提供する。
【解決手段】本発明のシリカ膜は、ケイ酸アルカリ金属塩を炭酸化および蒸気養生して形成されている。本発明のシリカ膜の形成方法は、ケイ酸アルカリ金属塩を炭酸化および蒸気養生する炭酸化蒸気養生工程を含む。 （もっと読む）

【課題】 自然に存在する天然物を原料として得られるシリカの一層の微細化を図る。
【解決手段】 微粉末シリカの製造方法であり、シリカ含有溶液生成槽２３において天然物由来の沈降シリカを液化炭酸に溶解させたシリカ含有溶液を生成し、次いで、圧縮機２４を用いてシリカ含有溶液を圧縮し、その後、圧縮されたシリカ含有溶液を噴射機構２５から噴射することによって急速減圧しながら膨張することにより、溶液中の二酸化炭素を蒸発させ、微粉化されたシリカを微粉末シリカ回収槽２６中に回収する。 （もっと読む）

【課題】籾殻などのケイ酸植物をシリカ原料として用い、効率よく金属シリコンを製造し得る方法の提供。
【解決手段】ケイ酸植物を焼成してシリカを主体として含むシリカ灰を形成する工程、次いで、得られたシリカ灰にアルミニウムを加え不活性ガス雰囲気中で加熱し、次式（１）
４Ａｌ＋３ＳｉＯ_２ → ３Ｓｉ＋２Ａｌ_２Ｏ_３ ・・・（１）
の反応を生じさせて金属シリコンを得る工程とを有することを特徴とする金属シリコンの製造方法。 （もっと読む）

【課題】不純物金属の珪素微粒子内への拡散が防止された、高純度の珪素微粒子を得ることができる珪素微粒子の製造方法を得ること。
【解決手段】珪素塊１を粉砕して珪素微粒子を得る珪素微粒子の製造方法であって、酸素を放出して珪素に対する酸化作用を有する酸化性液体４中において前記珪素塊１を粉砕することにより、粉砕された珪素微粒子の表面に酸化珪素膜を形成しながら前記珪素塊１を粉砕して前記珪素微粒子を作製する。これにより、粉砕時の珪素内への不純物の拡散を防止することができ、不純物金属の珪素微粒子内への拡散が防止された、高純度の珪素微粒子を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】シリカフュームに代表されるシリカ質微粉末の分散性を効率よく改善し、コンクリートやモルタルなどの圧縮強度や流動性の改善に寄与しうるシリカ質微粉末を得ることを一の目的とする。
【解決手段】 本発明は、シリカ質微粉末に酸性ガスを接触させることを特徴とするシリカ質微粉末の改質方法を提供する。また、本発明は、シリカ質微粉末に酸性ガスを接触することにより得られたことを特徴とする改質シリカ質微粉末を提供する。また、本発明は、シリカ質微粉末に酸性ガスを接触することにより得られた改質シリカ質微粉末を含むことを特徴とするセメント組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】シリコンの精製を短時間で効率的に行なうことができるシリコン精製方法を提供する。
【解決手段】アルカリ金属の塩化物およびアルカリ土類金属の塩化物の少なくとも一方を含む材料が溶融されてなる溶融物に固体シリコンを接触させる工程と、溶融物に接触させた後の固体シリコンの表面を処理する工程とを含むシリコン精製方法である。 （もっと読む）

【課題】低コストでシリコンを高純度に精製することが可能なシリコンの精製方法およびその方法により得られた精製シリコンを提供する。
【解決手段】原料シリコンから精製シリコンを得るシリコン精製方法であって、原料シリコンを溶融させて得られた溶融シリコンを凝固させてシリコン塊を形成する工程と、シリコン塊を第１の酸溶液で洗浄する工程と、第１の酸溶液で洗浄されたシリコン塊を第１の塩基性溶液でさらに洗浄する工程とを含むシリコン精製方法とその方法により得られた精製シリコンである。 （もっと読む）

【課題】物理的衝撃に強い光導電層を製造する。
【解決手段】放射線画像情報を静電潜像として記録する放射線撮像パネルを構成するＢｉ₁₂ＭＯ₂₀粒子（ただし、ＭはＳｉ，Ｇｅ，Ｔｉ中の少なくとも1種である）からなる光導電層の製造方法であって、Ｂｉ₁₂ＭＯ₂₀粒子の圧粉体２′を成形し、この圧粉体２′に高分子物質５を含浸させ、含浸させた高分子物質を硬化させる。 （もっと読む）

【課題】高い不純物除去効果を有する金属含有物除去方法を提供する。
【解決手段】本発明の金属含有物除去方法は、シリコンを機械加工して得られかつシリコン粒子を含む廃スラリー又は前記廃スラリーから分離したシリコン回収固形分を酸性の第１洗浄液で洗浄する第１洗浄工程と、前記シリコン粒子を含む第１洗浄液を塩基で処理する中和処理工程と、前記塩基で処理した第１洗浄液から分離した前記シリコン粒子を含む固形分又はスラリーを酸性の第２洗浄液で洗浄する第２洗浄工程とを備え、前記機械加工から生じかつ第１洗浄工程で除去できなかった金属含有物を第２洗浄工程で効率的に除去することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】不純物や斑点を低減した良質の多結晶シリコンを得ることができる洗浄装置を提供する。
【解決手段】酸を満たした状態の複数の酸槽２〜６に多結晶シリコンＳを順次浸漬しながら洗浄する多結晶シリコン洗浄装置であって、各酸槽２〜６の液温は、隣接する酸槽の後段位置の酸槽が前段位置の酸槽と同じかもしくは低く設定され、かつ、最も前段位置の酸槽２よりも最も後段位置の酸槽６の方が低温に設定され、各酸槽２〜６に、その液温を一定に維持する温調手段１８が設けられている。 （もっと読む）

シリコン−オン−インシュレータ構造体の劈開された表面を処理する方法を開示している。当該シリコン−オン−インシュレータ構造体は、ハンドルウェハ、シリコン層、上記ハンドルウェハと上記シリコン層との間の誘電体層を含む。上記シリコン層は、上記構造体の外表面を規定する劈開された表面を有する。開示された当該方法は、上記シリコン−オン−インシュレータ構造体から劈開面に沿ってドナーウェハの一部が分離される際に与えられる表面ダメージ及び欠陥を除去するため、上記シリコン−オン−インシュレータ構造体を処理するのに要する時間とコストを削減するエッチングプロセスを含む。当該方法は、上記構造体をアニールする工程、上記劈開された表面をエッチングする工程、上記劈開された表面上において非接触スムージングプロセスを実行する工程と、を含む。
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本発明は、シリカート溶液からの高純度ＳｉＯ₂の新規の製造方法、特殊な汚染物質スペクトルを有する新規の高純度ＳｉＯ₂並びにその使用に関する。 （もっと読む）