【課題】空気の平均自由行程よりも小さな細孔を有し、嵩密度の低いシリカキセロゲルを簡単な製造工程で製造可能なシリカキセロゲル及びその製造方法を提供する。
【解決手段】テトラアルコキシシランとモノアルキルトリアルコキシシランとを、モル比で、テトラアルコキシシラン：モノアルキルトリアルコキシシラン＝０．０５〜０．３５：０．６５〜０．９５の割合で含むゲル原料と、該ゲル原料中のシラン化合物全量１モルに対し、アルコール類を４〜８モル、水を３〜６モル含む溶媒とを混合し、ゲル原料中のシラン化合物を加水分解してゾルを生成させ、得られたゾルをゲル化し、養生して得られた湿潤ゲルを常圧あるいは減圧下で乾燥して、嵩密度が９０〜２００ｋｇ／ｍ^３、平均空孔径が２０〜６５ｎｍのシリカキセロゲルを得る。 （もっと読む）

【課題】平均粒子径１００μｍ以上の大きな粒径を有する無機質球状体の製造方法の提供。
【解決手段】特定の無機化合物を含む水性液体を有機液体中に分散させてＷ／Ｏ型エマルジョンを形成する工程、前記Ｗ／Ｏ型エマルジョンに金属アルコキシドを添加し、無機化合物を含む水性液体の液滴の外殻部に金属アルコキシドの加水分解による金属酸化物を生成させる工程、及び、前記金属酸化物の生成後のＷ／Ｏ型エマルジョン中の無機化合物を含む水性液体を固形化して無機質球状体を生成させる工程、を経る平均粒子径が１００〜１０００μｍの無機質球状体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】、高純度のシリカを、簡易かつ低コストで製造できる方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）シリカ含有鉱物粉末と、アルカリ水溶液を混合して、ｐＨが１１．５以上のアルカリ性スラリーとし、上記珪質頁岩の粉状物中のＳｉ、Ａｌ、Ｆｅを液分中に溶解させた後、該アルカリ性スラリーを固液分離して、Ｓｉ、Ａｌ、Ｆｅを含む液分を得るアルカリ溶解工程と、（Ｂ）工程（Ａ）で得られた液分と酸を混合してｐＨを１０．３以上１１．５未満とし、液分中のＡｌ、Ｆｅを析出させた後、固液分離を行い、Ｓｉを含む液分を得るＳｉ液分分離工程と、（Ｃ）工程（Ｂ）で得られた液分と酸を混合してｐＨを９．０以上１０．３未満とし、液分中のＳｉを析出させた後、固液分離を行い、ＳｉＯ₂を含む固形分を得るシリカ分離工程を経て得られる高純度シリカの製造方法。 （もっと読む）

【課題】洗浄後の多結晶シリコンの乾燥方法を提供する。
【解決手段】洗浄液で洗浄した塊状の多結晶シリコン（ナゲット１２）の乾燥方法であって、前記多結晶シリコンに前記多結晶シリコンまたは前記洗浄液の吸収帯域の波長を有する電磁波を照射して前記多結晶シリコンを昇温し、前記昇温により前記多結晶シリコン表面に付着した洗浄液が気化する間に前記電磁波の照射を停止することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】酸化ケイ素を主成分とし、表面に存在する水酸基及び吸着水が十分に除去された低誘電率性、低誘電正接性の多孔質酸化物粒子を得るとともに、表面に存在する水酸基及び吸着水を十分に除去することができる多孔質酸化物粒子の水酸基及び吸着水の除去方法を提供する。
【解決手段】酸化ケイ素を主成分とする多孔質酸化物粒子の外周表面及び内表面に表面処理剤が修飾されており、シラノール基の３０００〜３８００ｃｍ^-1の赤外線吸光ピークの最大値が、酸化ケイ素のＳｉ−Ｏ吸光を示す１８５０〜１９００ｃｍ^-1の赤外線吸光ピークの最大値の２倍以下である多孔質酸化物粒子である。また、表面の水酸基及び吸着水が除去された多孔質酸化物粒子は、当該多孔質酸化物粒子の表面に表面処理剤を修飾する第１工程と、当該表面処理剤により修飾された多孔質酸化物粒子にマイクロ波を照射する第２工程と、を含む方法により得ることができる。 （もっと読む）

【課題】低燃費性と耐摩耗性に優れたゴム組成物を提供する。
【解決手段】一般式（１）で表される硫黄含有シランカップリング剤と水とアルコールと酸性化合物を混合して処理液を調製し、予め乾燥させたシリカに前記処理液を付与して表面処理を行う表面処理シリカの製造方法である。該表面処理シリカをジエン系ゴムに添加し混合してゴム組成物を調製する。
（Ｒ^１）_ｍ（Ｒ^２）_ｎＳｉ−Ａ …（１）
（Ｒ^１は炭素数１〜３のアルコキシ基、Ｒ^２は炭素数１〜４０のアルキル基、アルケニル基又はアルキルポリエーテル基、Ａは硫黄原子を含む官能基、ｍ＝１〜３、ｍ＋ｎ＝３） （もっと読む）

【課題】真空乾燥装置を用いて溶媒中に微粒子が分散されてなる原料スラリーを乾燥した場合に、得られる粉体内のＦｅ含量の低減を図る。
【解決手段】外部加熱され、減圧に保持された加熱管の一端が原料スラリーの供給部に接続され、他端が減圧に保持された粉体捕集室に接続されている真空乾燥装置を用いて、溶媒中に平均粒子径１〜１０μｍの微粒子が分散された原料スラリーを乾燥して粉体を製造する方法であって、前記微粒子が、非晶質金属酸化物粒子、有機架橋重合体粒子または有機無機複合粒子であり、前記原料スラリーの前記加熱管への供給速度を１８Ｌ／ｈｒ以下にすることを特徴とする粉体の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】四塩化珪素を加水分解し合成シリカ粉を製造する方法において、生産性がよく、粒度の大きいシリカ粉を製造することができる合成シリカ粉の製造方法を提供する。
【解決手段】無極性の有機溶媒に混合した四塩化珪素と飽和塩酸との反応によってスラリー状の合成シリカを生成させ、この合成シリカスラリーを洗浄し、濾過してケーキ状になったスラリーを解砕し、これを押し固めて造粒した後に解砕し、乾燥して焼成することを特徴とする合成シリカ粉の製造方法であり、好ましくは、水酸化アンモニウム１〜５％、および過酸化水素１〜５％を含有する純水を用いてスラリー状の合成シリカを洗浄した後に加圧する合成シリカ粉の製造方法。 （もっと読む）

【課題】四塩化珪素を加水分解して合成シリカ粉を製造する方法において、生産性がよく、粒度の大きいシリカ粉を製造することができる合成シリカ粉の製造方法を提供する。
【解決手段】四塩化珪素を飽和塩酸によって加水分解してスラリー状の合成シリカを生成させ、この合成シリカスラリーを洗浄し、濾過してケーキ状になったスラリーを解砕し、これを押し固めて造粒した後に解砕し、乾燥して合成シリカ粉を製造する方法であって、極性非プロトン性の有機溶媒を混合した飽和塩酸に四塩化珪素を少量づつ添加して加水分解することを特徴とする合成シリカ粉の製造方法であり、好ましくは、水酸化アンモニウム１〜５％、および過酸化水素１〜５％を含有する純水を用いてスラリー状の合成シリカを洗浄した後に加圧する合成シリカ粉の製造方法。 （もっと読む）

【課題】四塩化珪素の加水分解によって合成シリカ粉を製造する方法において、生産性がよく合成シリカ粉の製造方法を提供する。
【解決手段】四塩化珪素を純水に添加して加水分解させることによってシリカ粉を製造する方法において、純水に極性非プロトン性の有機溶媒を混合し、これに四塩化珪素を添加して加水分解させ、さらに加水分解で副生する塩酸に対して水酸化アンモニウムを添加して上記塩酸を中和しながら反応を進行させてシリカ質のゲルを生成させ、該ゲルを乾燥してシリカ粉を製造することを特徴とする合成シリカ粉の製造方法であり、好ましくは、溶液のｐＨを１〜５に制御してシリカ質のゲルを生成させる合成シリカ粉の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 簡便かつ工業的に有効な手法で酸化チタンそのものの光応答能力を向上させることにより、太陽光並びに蛍光灯照射下で高い触媒活性を発揮する光触媒の製造方法、及び光触媒を提供すること。
【解決手段】 （１）直鎖状ポリエチレンイミン骨格を有するポリマーを、水性媒体中で会合させる工程、（２）水性媒体の存在下で、工程（１）の会合体にアルコキシシランを加え、前記ポリマーの会合体とシリカとの複合体を得る工程、（３）工程（２）の複合体と酸化チタン（Ａ）の粉末とを水性媒体中で混合し、酸化チタン（Ａ）を吸着させる工程、（４）工程（３）で得られた酸化チタン（Ａ）の粉末を吸着した複合体を６００〜９００℃で焼成し、複合体中のポリマーの除去と、シリカナノ構造体（Ｂ）への酸化チタン（Ａ）の固定を行なう工程を有する、酸化チタン（Ａ）がシリカナノ構造体（Ｂ）に固定されてなる光触媒の製造方法、及び光触媒。 （もっと読む）

シリコーンゴム配合物（ＲＴＶ−１、ＲＴＶ−２、ＨＴＶ、およびＬＳＲ）中での使用に適し、とりわけＨＴＶシリコーンゴム配合物中での使用に適した、親水性沈降シリカが提供される。これは、ＢＥＴ表面積１８５〜２６０ｍ²／ｇ、ＣＴＡＢ表面積１００〜１６０ｍ²／ｇ、ＢＥＴ／ＣＴＡＢ比１．２〜２．６、および導電率＜２５０μＳ／ｃｍを有する。また、当該沈降シリカを製造するための方法、およびシリコーンゴム配合物の増粘および補強のための当該沈降シリカの使用も提供される。 （もっと読む）

【課題】ＰＫＷ−タイヤ中で使用される珪酸をＬＫＷ−タイヤ、オートバイタイヤ及びＰＫＷ用の高速タイヤ中で使用することは、異なる仕様プロフィルに基づき不適当であるため、特別にこれらの車両に適合された特性プロフィルを有する沈降珪酸を提供する。
【解決手段】BET−表面積２００〜３００ｍ^２/ｇ、CTAB−表面積≧１７０ｍ^２/ｇ、DBP−数２００〜３００ｇ/（１００ｇ）及びセアーズ−数Ｖ_２ ２３〜３５ｍｌ／（５ｇ）を有する沈降珪酸によって解決される。 （もっと読む）

【課題】四塩化珪素の加水分解によって高純度シリカ粒子を製造する方法において、生産性がよく、平均粒径が１００μｍ以上の高純度シリカ粒子を製造することができる製造方法を提供する。
【解決手段】四塩化珪素の加水分解によって高純度のシリカ粒子を製造する方法において、四塩化珪素および純水を入れた反応容器に電極を設置し、加水分解によって生成する塩酸を電気分解して除去しながら、四塩化珪素の加水分解を進めることを特徴とする高純度シリカ粒子の製造方法であり、好ましくは、陽極に塩素発生過電圧の低い電極を用い、副生する塩酸を電気分解することによって反応液のｐＨを１.５以上に保持しながら加水分解を行う高純度シリカ粒子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】粒径を大きくするに際して焼成に伴う不具合を抑制することの容易なポリオルガノシロキサン粒子の製造方法及びシリカ粒子の製造方法を提供する。
【解決手段】ポリオルガノシロキサン粒子は、Ｒ^１_ｎ−Ｓｉ−（ＯＲ^２）_４−ｎで表されるアルコキシドの加水分解及び縮合を通じて製造される。こうしたアルコキシドとしては、例えばメチルトリメトキシシランが挙げられる。ポリオルガノシロキサン粒子及びシリカ粒子の製造方法では、アルコキシドを加水分解及び縮合させることで、液滴状のシード粒子が分散してなるシード粒子水性分散液を調製する。次に、シード粒子水性分散液とアルコキシドと混合することでシード粒子を成長させた成長粒子を得る。続いて、成長粒子を固化させることで固化粒子を得る。固化粒子は、光学顕微鏡で観察されるコアシェル構造を有しており、こうした固化粒子を焼成する。 （もっと読む）

【課題】 導電性を有すると共に、光学的な透明性を備えたシリカ系中空粒子の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】 本発明に係る導電性シリカ系中空粒子の製造方法は、（ａ）シリカ系中空粒子を合成する工程と、（ｂ）前記シリカ系中空粒子に塩化スズ（ＩＶ）溶液を添加して、前記シリカ系中空粒子にスズイオンを吸着させる工程と、（ｃ）スズイオンが吸着されたシリカ系中空粒子を分離して焼成する工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】高圧条件といった過酷な反応条件を必要とすることなく、温和な条件下で高速液体クロマトグラフィー用シリカゲルとして求められる粒径が１．５μｍ以上の球状シリカゲルの製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】水より極性の低い有機溶媒と水との混合溶媒中で、アルコキシシラン化合物及び／又はその誘導体を、特定の（数平均）分子量を有する有機成分を特定量有する反応系において、加水分解し、得られた反応混合物にマイクロ波を照射することにより、粒径が１．５μｍ以上の球状シリカゲルが得られることを見出した。 （もっと読む）

【課題】 屈折率が低く、耐摩耗性に優れ、水に対して安定なシリカ多孔質体、および、それを用いた光学用途積層体の製造方法を提供すること。
【解決手段】シリカ系組成物からシリカ多孔質体を製造する製造方法であって、該組成物が、下記（Ａ）〜（Ｅ）を含み、該組成物中の全アルコキシシラン類由来の珪素原子に対する水の割合（ｍｏｌ／ｍｏｌ）が１０以上５０以下であって、該組成物を膜厚が０．０５〜０．５μｍになるように膜化し、１００℃〜２００℃で加熱した後、更に３００℃〜７００℃で加熱する。
（Ａ）：下記（ａ）及び／又は（ｂ）
（ａ）少なくともテトラアルコキシシラン類、その加水分解物及び部分縮合物からなるテトラアルコキシシラン類群より選ばれる少なくとも一種、並びにテトラアルコキシシラン類以外のアルコキシシラン類、その加水分解物及び部分縮合物からなる他のアルコキシシラン類群より選ばれる少なくとも一種
（ｂ）該テトラアルコキシシラン類群より選ばれる少なくとも一種及び他のアルコキシシラン類群より選ばれる少なくとも一種の部分縮合物
（Ｂ）：水
（Ｃ）：有機溶媒
（Ｄ）：触媒
（Ｅ）：有機ポリマー （もっと読む）

【課題】高純度で安価なコロイダルシリカ及びそのようなコロイダルシリカを製造する方法を提供すること。
【解決手段】アルカリ金属を含有する粗製コロイダルシリカを表面処理剤で湿式処理する表面処理工程と鉱酸含有液、水の順で洗浄して精製コロイダルシリカとする精製工程とを有するものである。特に表面処理剤はシランカップリング剤及びシラザン類からなる群から選択される１以上の化合物を含むことが望ましい。 （もっと読む）

【課題】光触媒作用を効率よく発揮できるとともに、非処理物（水、空気等）の浄化を高度に達成することができる高純度シリカ・光触媒複合体を提供する
【解決手段】（Ａ）珪質頁岩の粉状物とアルカリ水溶液を混合して、ｐＨが１１．５以上のアルカリ性スラリーとし、上記珪質頁岩の粉状物中のＳｉ、Ａｌ、Ｆｅを液分中に溶解させた後、該アルカリ性スラリーを固液分離してＳｉ、Ａｌ、Ｆｅを含む液分を得るアルカリ溶解工程と、（Ｂ）工程（Ａ）で得られた液分と酸を混合してｐＨを１０．３以上１１．５未満とし、液分中のＡｌ、Ｆｅを析出させた後、固液分離を行い、Ｓｉを含む液分を得るＳｉ液分分離工程と、（Ｃ）工程（Ｂ）で得られた液分と酸を混合してｐＨを９．０以上１０．３未満とし、液分中のＳｉを析出させた後、固液分離を行い、ＳｉＯ₂を含む固形分を得るシリカ分離工程を経て得られる高純度シリカに、光触媒である酸化チタンを担持させてなる高純度シリカ・光触媒複合体。 （もっと読む）