【課題】分散剤や樹脂等のバインダー成分がオープン孔内へ侵入するのを防止することができ、低屈折率性、低誘電性等の多孔質酸化物粒子の特性を維持することができる表面被覆多孔質酸化物粒子及び多孔質酸化物粒子の表面被覆方法を提供する。
【解決手段】本発明の表面被覆多孔質酸化物粒子は、酸化ケイ素等からなる多孔質酸化物粒子１の外周表面２に反応点５を形成し、この反応点５に有機高分子からなる被覆層６を結合して固定し、この被覆層６によりオープン孔３の開口端を封止するとともに、このオープン孔３内を親水性とし、この被覆層６の厚みを０．１ｎｍ以上かつ３０ｎｍ以下とした。 （もっと読む）

【課題】水素結合性ポリマーとシリカからなる有機無機ハイブリッド材料及びその製造方法に関する。さらに詳しくは、沈降シリカと同様の外観と嵩高さを有する新規な有機無機ハイブリッド材料、及びその製造方法に関するものである。
【解決手段】本発明は、シリカと水素結合性ポリマーからなる有機無機ハイブリッド材料であって、水銀ポロシメーターによる細孔径３ｎｍ〜１０μｍの範囲の細孔容積が０．６ｍｌ／ｇ以上であることを特徴とする有機無機ハイブリッド材料、及び、アルカリ金属珪酸塩と酸性化剤を、水及び水素結合性ポリマーの存在下で、ｐＨを４〜９に維持しながら反応させ、反応物を沈降させることを特徴とする有機無機ハイブリッド材料の製造方法である。 （もっと読む）

帯鋸および他のシリコンの機械的作業から回収されたシリコン粉末を、光起電力用途向けに利用可能な多結晶−多重結晶シリコンインゴットを成形するためのるつぼの充填材料を調製するための供給材料として再利用するためのプロセスを提供する。このプロセスは複数のステップであり、大部分の作業が不活性雰囲気下で実行される。 （もっと読む）

本発明は、水系プロセスによる１５ｎｍより小さい結晶サイズを有するルチル型の微結晶二酸化チタンの製造方法、及び該方法により得られるケイ素をドープされた二酸化チタン生成物に関する。上記二酸化チタン生成物の製造方法の少なくとも一工程で、ケイ素含有化合物を用いて小結晶サイズを有する上記二酸化チタン生成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】シリコンの加工工程及び回収・再生工程において、不純物金属や炭素とシリコンとの化学反応を抑制することで、これら金属及び炭素によるシリコンの汚染を低減させた電子産業用シリコンの加工方法及び再生方法を提供する。
【解決手段】シリコンインゴットやシリコンウェーハを加工する加工方法又はその加工により生じた加工屑を含有するシリコンスラッジから、シリコンを回収し、電子産業用シリコンとして再生するシリコンの再生方法において、シリコンの加工表面又はシリコン削り屑を含む溶液に酸化還元電位を制御するガスを添加する電子部品用シリコンの加工方法及び再生方法。 （もっと読む）

超疎水性コーティング、超疎水性コーティングを含むデバイスおよび物品、ならびに超疎水性コーティングを調製する方法が提供される。例示的な超疎水性デバイスは、基材構成部分と、この基材構成部分を覆って配置された１層または複数の超疎水性コーティングであり、これらの１層または複数の超疎水性コーティングの少なくとも１層が、少なくとも約１５０°の水接触角および約１°未満の接触角ヒステリシスを有する超疎水性コーティングとを含むことができる。これらの１層または複数の超疎水性コーティングは、超高水分含量酸触媒作用によるポリシリケートゲルを含むことができ、このポリシリケートゲルは、シリル化剤により誘導体化された表面官能基を有するシリカ粒子の三次元網目、および多数の孔を含む。
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【課題】低湿度下でも高湿度下でも吸湿率が高いシリカゲル及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】全細孔容積が０．４５〜１．０ｃｍ^３／ｇであり、且つ、細孔直径２．５ｎｍ以下の領域に細孔分布のピーク（最大値）が存在することを特徴とするシリカゲル。珪酸アルカリ水溶液に鉱酸水溶液を加えて、ｐＨ１０．５〜１１．５でゾルを形成後、ゲル化させて、熟成前シリカヒドロゲルを得るゲル化工程と、該熟成前シリカヒドロゲルを、ｐＨ４〜７で一次熟成し、一次熟成シリカヒドロゲルを得る一次熟成工程と、該一次熟成シリカヒドロゲルを、ｐＨ０．５〜２で二次熟成し、二次熟成シリカヒドロゲルを得る二次熟成工程と、該二次熟成シリカヒドロゲルを乾燥し、シリカゲルを得る乾燥工程と、を有することを特徴とするシリカゲルの製造方法。 （もっと読む）

【課題】蛍光を発光可能なランタニド錯体を含むシリカナノ粒子を提供する。
【解決手段】少なくとも１つのランタニドと、式（Ａ）：


（式中、−Ｚ_１〜Ｚ_３は、孤立電子対及び／又は負電荷を保持する原子を有する基を表し、−Ｒ_１〜Ｒ_１２は、水素、任意に置換されたアルキルラジカル、アリールラジカル、ハロゲン、基−ＯＲ_１３又は基−ＳＲ_１３を表す）の少なくとも１つの配位子との少なくとも１つの錯体を含むシリカ粒子。 （もっと読む）

【課題】
効果的にＰＣＢ類やダイオキシン類等を含有する試料をクリーンアップ処理できるシリカゲル、及びこれを用いたＰＣＢ類やダイオキシン類等の高精度測定方法を提供すること。
【解決手段】
シリカゲルを９７〜１００％の硫酸で処理する、高濃度硫酸含有シリカゲルの製造法、該方法で得られた高濃度硫酸含有シリカゲルで処理する試料の前処理方法、該方法で処理した試料を用いる環境分析方法、該高濃度硫酸含有シリカゲルを含んでなるクロマトグラフィー用充填剤及び該充填剤を充填してなるクロマトグラフィー用カラム。 （もっと読む）

【課題】珪酸は、しばしば極性化合物、例えば塩化コリン、プロピオン酸または蟻酸のための担持材料として使用されるので、極性化合物に関連して特に良好な吸収挙動を有する珪酸を提供する。
【解決手段】少なくとも１５〜６０の一定のアルカリ数の維持下に珪酸塩水溶液を酸により沈殿させることによって得ることができる沈降珪酸または珪酸塩。 （もっと読む）

【課題】高温で熱処理を施すことなく、結晶性の高い良好なシリコン膜を形成することが可能なシリコン膜の形成方法を提供する。
【解決手段】ポリシラン修飾シリコン細線を含む液体を調製（Ｓ１０１）したのち、基体の上にポリシラン修飾シリコン細線を含む液体を用いて塗布膜を形成（Ｓ１０２）し、この塗布膜を加熱する（Ｓ１０３）ことにより、シリコン膜を形成する。これにより、高温で加熱せずに、塗布膜中においてシリコンの結晶化が促進される。 （もっと読む）

ＣＯＫ−１０で示される、一群の新規な、秩序化したメソポーラスシリカ材料は、温和な酸性もしくは中性のｐＨ条件下において、両親媒性ブロック共重合体と、任意で用いられるテトラアルキルアンモニウム化合物とを組み合わせることによって合成される。そのメソポアサイズは、実質的に均一であり、４〜３０ｎｍの範囲内であり、合成条件を状況に合わせて変化させることによって微調整することができる。ＣＯＫ−１２で示される、一群の新規な、２Ｄ−六方晶系の秩序化したメソポーラスシリカ材料もまた、温和な酸性もしくは中性のｐＨ条件下において、両親媒性ブロック共重合体と、ｐＨが２より高く８未満のバッファーとを組み合わせることによって合成される。そのメソポアサイズは、実質的に均一であり、４〜１２ｎｍの範囲内であり、合成条件を状況に合わせて変化させることによって微調整することができる。これらの秩序化したメソポーラスシリカ材料は、難溶解性の薬物分子における製剤のためのキャリア材料として、および短時間作用型の利用のための経口薬物製剤として有用である。 （もっと読む）

【課題】芯材の表面に被覆層が均一に形成された粒子を高い量産性で容易に製造し得る方法を提供する。
【解決手段】被覆層を有する粒子の製造方法は、芯材粒子が媒体に分散してなる母液２０を循環させつつ、循環経路の一部に設けられた強分散装置１３に被覆層形成用の反応物を供給し、該強分散装置１３において該母液２０を強分散させた状態下に該芯材粒子と該反応物とを反応させて、該芯材粒子の表面に被覆層を形成する。複数の強分散装置１３が、循環経路に対して並列に又は直列に設けられていることが好ましい。また時間の経過と共に反応物の供給量及び／又は濃度を漸減させることも好ましい。 （もっと読む）

【課題】
以上より、本発明の目的は、金属が添加された多孔体シリカ（ＫＩＴ−５）およびその製造方法を提供することである。本発明のさらなる目的は、高濃度の金属が添加された多孔体シリカ（ＫＩＴ−５）およびその製造方法を提供することである。
【解決手段】
所定の空間群からなる多孔構造をもつ多孔体シリカであって、Ａｌ、Ｆｅ、Ｔｉ、ＣｏおよびＧａからなる群から選択される金属元素が添加されてなることを特徴とする、多孔体シリカとその製造方法として、界面活性剤Ｆ１２７と、酸と、水と、ケイ素源並びにＡｌ、Ｆｅ、Ｔｉ、ＣｏおよびＧａからなる群から選択される金属元素を含む金属源とを混合する工程と、 前記混合する工程によって得られた原料混合物を加熱して、ケイ化する工程と、 前記ケイ化する工程によって得られたケイ化物を焼成する工程とからなることを特徴とする、方法を提供する。 （もっと読む）

本発明は、特殊な孔径分布とともに特に狭い粒径分布を有する沈降珪酸、それらの製造方法、およびゴム混合物のための充填剤としてのそれらの使用に関する。
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【課題】シリコン源として反応ガスを用いずに、粒子状シリコンを原料としたシリコンワイヤの製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明に係るシリコンワイヤの製造方法は、平均粒径が１μｍ以下の粒子状シリコンを準備する工程と、鉄属遷移金属元素を含む金属酸化物前駆体化合物を含有した溶液を準備する工程と、前記粒子状シリコンと前記溶液の混合物を作製する工程と、前記混合物を水素ガスを含む還元雰囲気下で加熱処理することにより、ワイヤ状のシリコン構造体を形成する工程を含む。 （もっと読む）

【課題】四塩化珪素の加水分解によって合成シリカ粉を製造する方法において、生産性がよく、粒度の大きいシリカ粉を製造することができる合成シリカ粉の製造方法を提供する。
【解決手段】四塩化珪素と飽和塩酸との反応によってスラリー状の合成シリカを生成させ、この合成シリカスラリーを洗浄し、濾過してケーキ状になったスラリーを解砕し、これを押し固めて造粒した後に解砕し、乾燥して焼成することを特徴とする合成シリカ粉の製造方法であり、好ましくは、水酸化アンモニウム１〜１０％、および過酸化水素１〜１０％を含有する純水を用いてスラリー状の合成シリカを洗浄した後に加圧する合成シリカ粉の製造方法。 （もっと読む）

【課題】イオン性界面活性剤または高分子量非イオン性界面活性剤のような特定の鋳型を使用する必要がなく、特別の装置も必要ない多孔質シリカ相を形成可能な塗布液及びその製造方法と多孔質シリカ薄膜が形成される基材が平板なものに限定されることがない多孔質シリカ相の形成方法等を提供する。
【解決手段】多孔質シリカ相を形成可能な塗布液は、ＴＥＯＳとＴＥＯＳの重合のための触媒である酢酸とＴＥＯＳの溶解性を高めるための所定のアルコール類とシリカ相に細孔を形成するための添加物である所定の低分子量ジオール類と塗布液調製用の水とを備えている。所定の低分子量ジオール類としては、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール又は１，４−ブタンジオールとすることが好適である。多孔質シリカ相の形成方法は、上記塗布液中にガラス基板または試験管等の基材を浸漬させることにより、所定の基材に多孔質シリカ相を形成させる。 （もっと読む）

【課題】平均粒子径及び比表面積が小さい中空シリカ粒子、並びにその製造方法を提供する。
【解決手段】（１）平均粒子径が０．１〜１μｍで、粒子全体の８０％以上が平均粒子径±３０％以内の粒子径を有し、かつＢＥＴ比表面積が３０ｍ²／ｇ未満である中空シリカ粒子、及び（２）粉末Ｘ線回折測定において、面間隔（ｄ）が１〜１２ｎｍの範囲に相当する回折角（２θ）にピークを示す、粒子内部に空気を含有する中空シリカ粒子（Ａ）、又は焼成により消失して中空部位を形成する材料を内包するコアシェル型シリカ粒子（Ｂ）を、９５０℃を超える温度で焼成する、ＢＥＴ比表面積が３０ｍ²／ｇ未満の中空シリカ粒子の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】四塩化珪素の加水分解によって合成石英粉を製造する方法において、生成したゲルを濃縮してシリカ含有率を高めて生産性を向上させた製造方法を提供する。
【解決手段】四塩化珪素の加水分解によって生成したシリカ質のゲルを１５０時間以上放置して自然脱水した後に、乾燥し焼成して石英粉にすることを特徴とする合成石英粉の製造方法であり、例えば、容器内の純水を攪拌しながら四塩化珪素を添加してシリカ質のゲルを生成させ、該ゲルを常温大気下に２００時間以上放置して自然脱水させ、含水量比８５％以下に低減した後に、乾燥し焼成して石英粉にする合成石英粉の製造方法。 （もっと読む）