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Fターム[4G072MM31]の内容

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Fターム[4G072MM31]に分類される特許

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【課題】軽量であって滑らかな表面を有する無機質成形体を提供する。
【解決手段】主成分が以下の(a)〜(d)
(a)粒径が1〜500μmの非晶質シリカとカルシウム塩との混合物、
(b)粒径が1〜500μmの非晶質シリカ、
(c)粒径が1〜500μmの非晶質シリカに、粒径が50〜2000Åの粒状の非晶質シリカが多数不規則に付着した非晶質シリカ複合物とカルシウム塩との混合物、
(d)粒径が1〜500μmの非晶質シリカに、粒径が50〜2000Åの粒状の非晶質シリカが多数不規則に付着した非晶質シリカ複合物、
からなる群から選択される少なくとも1種である無機質成形体であって、当該成形体の少なくとも一面に於いて、当該最表面の光沢度が4%以上であることを特徴とする無機質成形体。 (もっと読む)


【課題】高い安定した正摩擦帯電性を有する金属酸化物粒子の提供。
【解決手段】 一般式(I)で表される基で修飾される金属酸化物である。
−O1+n−Si(OR2−n−R−NR 一般式(I)
式中、nは0、1、又は2であり、Rは、水素原子、炭化水素基、又はアセチル基であり、Rは、置換基を有していてもよい、炭化水素基、アリール基、又は炭化水素オキシ基であり、Rは、水素原子、又は置換基を有していてもよい、炭化水素基、若しくはアリール基、又は炭化水素オキシ基であり、Rは、Rと同様であり、T基とT基のNMRの信号強度の合計のT基の合計強度T+T+Tに対する割合は、少なくとも20%であり、T基は以下の通りに定義される。
【化9】


Rは、所望の有機基であり、Rは上記定義の通り又は水素原子である。 (もっと読む)


本発明は、疎水性付与剤で表面処理された金属酸化物粒子、その製造方法およびそれを含むトナーを提供する。 (もっと読む)


本発明は、少なくとも1つのアルコキシシラン化合物で表面処理された金属酸化物粒子、その製造方法およびそれを含むトナーを提供する。 (もっと読む)


シリカ粒子、及びシリカ粒子を含む組成物を開示する。シリカ粒子の製造方法、及びシリカ粒子の使用方法も開示する。 (もっと読む)


【課題】有機成分を実質的に含まず、かつ強固な凝集がなく、樹脂などに粒度分布の揃ったサブミクロン粒子として容易に分散し得るシリカ球状粒子を提供する。
【解決手段】水分散状態において、平均粒子径が0.1〜0.5μmの範囲にあり、かつその粒子径域における式(I)S(%)=(粒子径の標準偏差/平均粒子径)×100・・・(I)より算出される粒度分散係数Sが26%以下であって、式(II)S(%)=aX+b・・・(II)[Xは平均粒子径(μm)、aは−10〜−6、bは15〜27]の関係を満たすシリカ球状粒子である。 (もっと読む)


イオン交換していない水ガラス溶液を前駆物質とし、アルカリ性pHを有するオルガノシラン化合物と無機酸を添加して表面改質およびゲル化させることによりヒドロゲルを生成する段階と、ヒドロゲルを非極性溶媒内に浸漬させて溶媒交換およびNaイオンの除去を行う段階と、溶媒交換の行われたヒドロゲルを常圧下で乾燥させてエーロゲル粉末を製造する段階とを含む、超疎水性シリカ系粉末の製造方法を提供する。本発明は、その工程が非常に単純であるうえ、経済性を有するので、産業的な観点から非常に重要である。
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【課題】大きな生体分子やウィルス等を、長時間内部で保存することができ、超音波、衝撃波などの物理的手段、あるいは高pH、フッ素処理などの化学的手段により内部の材料を選択的に放出することができる、表面が多数のマクロ孔を有するケイ素系表面を有するケイ素系微粒子、その製造方法およびこの微粒子を使用した化粧料を提供すること。
【解決手段】水溶性珪酸塩とマクロ孔形成用水溶性化合物を含む第1水相粒子を油相中に分散してなるW/Oエマルジョンに、沈殿剤水溶液を作用させ、表面が多数のマクロ孔を有するケイ素系表面を有する、中空球状体のケイ素系微粒子を製造すること。 (もっと読む)


【課題】太陽電池用として安定した品質のシリコンを低コストで供給する製造装置及び製造方法を提供する。
【解決手段】高純度亜鉛及び高純度四塩化珪素を蒸発する蒸発器と、還元反応を行う反応炉及び生成物の取り出し装置よりなり、高純度亜鉛及び高純度四塩化珪素をそれぞれ気化させてガス化雰囲気において反応を行うことにより低コストで品質の安定した太陽電池用シリコンを製造する。 (もっと読む)


【課題】機能素子への展開に有用なメソ構造体、更には、シリカメソ構造体、及びこれらの製造方法、メソ構造体のメソ細孔の配向を適宜に制御する方法の提供。
【解決手段】高分子表面に配置されている管状のメソ細孔を有するメソ構造体であって、該メソ細孔が上記高分子表面に対して平行な第1の方向に配向していることを特徴とするメソ構造体、シリカメソ構造体、メソ構造体の製造方法、シリカメソ構造体の製造方法及びメソ細孔の配向制御方法。 (もっと読む)


【課題】安価な珪藻土を用いて高純度二酸化ケイ素を効率よく製造する方法を提供すること。
【解決手段】珪藻土から高純度二酸化ケイ素を製造する方法であって、前記珪藻土の粉粒体に物理的選別を施すことを特徴とする高純度二酸化ケイ素の製造方法、前記製造方法によって製造された二酸化ケイ素であって、その純度が99.999%以上である高純度二酸化ケイ素、前記高純度二酸化ケイ素を原料としてなる太陽電池用シリコン。 (もっと読む)


本発明は混合されたリチウムケイ酸塩に関するものであり、混合されたケイ酸塩は次の式で表され、Li2III(1x)IIIxSiO4(OH)x (I)、0≦x≦1であり、MはFe、Co、Mn又はNiである。それらは実質的に球状の形で、合着していない粒子で、400〜600nmの大きさであり、その構造は空間群Pna21又は空間群Pccnに属することを特徴とする。ケイ酸塩は、前駆物質から、遠心分離によって、水溶液中に得られる。それらは電気化学的な装置の電極の活性物質として用いることができる。 (もっと読む)


【課題】低密度、低熱伝導係数、高多孔性、及び高疎水性などを有する多孔質構造材を調製するために使用される多孔質構造材の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、ゾルゲル工程を介してアルキルシロキサン化合物又はケイ酸塩化合物を有機溶媒と混合して合成され、更に変性剤により変性される多孔質構造材に関する。また、本発明は、ゾルゲル工程を介してアルキルシロキサン化合物又はケイ酸塩化合物を有機溶媒と反応させるステップを備えた多孔質構造材の製造方法に関する。本発明によれば、変性剤を用いて多孔質構造材の表面上の親水基を疎水基に変性することにより表面張力が低下し、多孔質構造が維持される。本発明の多孔質構造材は、低伝導係数、高多孔性、高疎水性、及び自浄性などの特性を有している。 (もっと読む)


【課題】機能素子への展開に有用なメソ構造体、更には、シリカメソ構造体、及びこれらの製造方法、メソ構造体のメソ細孔の配向を適宜に制御する方法の提供。
【解決手段】高分子表面に配置されている管状のメソ細孔を有するメソ構造体であって、該メソ細孔が上記高分子表面に対して平行な第1の方向に配向していることを特徴とするメソ構造体、シリカメソ構造体、メソ構造体の製造方法、シリカメソ構造体の製造方法及びメソ細孔の配向制御方法。 (もっと読む)


【課題】硬度が高く、吸着力を維持することができるようにゼオライトを70重量%以上の高濃度に含有したゼオライト高含有成形体の吸着剤含有成形体の製造方法、及び、安全性が高く、型を個々に使用しなくても成形方法が容易な吸着剤含有成形体の製造方法び該製造方法により得られた吸着剤含有成形体を提供することである。
【解決手段】シランアルコキシドと塩酸を含有するシランアルコキシド加水分解液を形成する工程と、
該シランアルコキシド加水分解液に疎水性ゼオライトを混合する工程と、
混合したゼオライト含有湿潤ゲルを変形率が0%超過10%以下の湿潤ゲル体に硬化させる工程と、
該湿潤ゲル体を切断する工程と、
該切断した湿潤ゲル体を乾燥させて乾燥ゲル体を形成する工程と、
を有することを特徴とする吸着剤含有成形体の製造方法及びこの製造方法により得られた吸着剤含有成形体。 (もっと読む)


【課題】
酸や塩基を用いることのないシリカ疎水膜を製造する。
【解決手段】
シリカ疎水膜の製造方法であって、1つ以上3つ以下の加水分解官能団を有するシランカップリング剤、反応促進剤としてヒドロキシアルデヒド誘導体、ヒドロキシ酢酸誘導体、アリルアルコール誘導体およびヒドロキシニトリル誘導体からなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物、アルコール系溶媒および水を少なくとも含む混合物をゾル化させるゾル溶液作製工程(ステップS101)と、ゾル溶液作製工程(ステップS101)にて得られたゾル溶液を基材上に塗布して、ゾル状薄膜を形成するゾル状薄膜作製工程(ステップS102)と、ゾル状薄膜を加熱してシリカ疎水膜を形成する加熱工程(ステップS103)とを含むシリカ疎水膜の製造方法とする。 (もっと読む)


【課題】トナーの流動性を改良することができる疎水性球状シリカ微粒子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】一般式(1):
Si(OR14 (1)
[式中、R1は同一又は異なり、炭素原子数1〜6の1価炭化水素基である]
で示されるテトラヒドロカルビルオキシシラン化合物及びその部分加水分解縮合生成物からなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物を加水分解及び縮合することによって得られたSiO2単位からなる親水性球状シリカ微粒子の表面にR4SiO3/2単位(式中、R4は置換又は非置換の炭素原子数1〜20の1価炭化水素基である)を導入する工程と、次いでR63SiO1/2単位(式中、R6は同一又は異なり、置換又は非置換の炭素原子数1〜20の1価炭化水素基である)を導入する工程とを含む疎水化処理をして得られた疎水性球状シリカ微粒子であって、ヒドロカルビルオキシ基含量が1000ppm以下であり、粒子径が0.01〜5μmである疎水性球状シリカ微粒子。 (もっと読む)


【課題】塩化セチルピリジニウムを含んでいる歯磨き剤に用いる沈降シリカ製品を提供すること。
【解決手段】沈降シリカは、水銀圧入によって測定されるように、6m2/gを下回る500オングストロームより大きい直径を有する全ての細孔のための累積表面積を有する多孔性シリカ粒子を含み、そして約85%を超えるパーセンテージ塩化セチルピリジニウム(%CPC)親和性を有する。沈降シリカ製品は特に塩化セチルピリジニウムを含んでいる歯磨き剤に用いるのに適している。そして、有意義なレベルの低表面積シリカ製品に付着せず、このように抗菌作用に利用できるままである。シリカ製品を作製するためのプロセスは、CPCとのこの種の親和性を強化するために異なるプロセスステップの間に、硫酸ナトリウム粉の導入が含まれる。 (もっと読む)


【課題】膜形成組成物、特にコーティング組成物のための、コーティングの引っかき抵抗を高め、従来技術で修飾されたナノ粒子の不利点をより低度に有するかまたは全く有さず、また使用するのが簡単でありかつ高価でない、ナノ粒子に基づいた添加物の必要性が依然として存在する。
【解決手段】本発明は、樹脂と、修飾されたナノ粒子とを含んでいる膜形成組成物であって、該修飾されたナノ粒子が、ナノ粒子と、該ナノ粒子上に吸着されたセグメント化コポリマー、好ましくはセグメント化ブロックコポリマーを含んでおり、該セグメント化コポリマー、好ましくはセグメント化ブロックコポリマーが、吸着セグメントと疎水性表面活性セグメントとを含んでいる膜形成組成物において、該吸着セグメントが、ナノ粒子上に吸着する1以上の官能基を有し、かつ、該疎水性セグメントが該樹脂よりも疎水性であることによってナノ粒子の表面移行をもたらす、上記の膜形成組成物に関する。本発明は、新規な修飾された粒子、および特定のセグメント化コポリマーの特定の修飾された粒子を膜形成組成物中に、改良された表面特性、たとえば引っかき抵抗をそれに付与するために使用する方法にも関する。 (もっと読む)


【課題】廃スラリーから簡易に多くのシリコンを回収することができるシリコン再生装置を提供する。
【解決手段】本発明のシリコン再生装置は、砥粒とクーラントを含むスラリーを使用してシリコンを切断する切断装置又は研磨する研磨装置から排出された廃スラリー、又は前記廃スラリーが濃縮された廃スラリー濃縮分を固液分離してシリコン回収用固形分を取得する固液分離部と、有機溶媒を用いて前記シリコン回収用固形分を洗浄する洗浄部と、洗浄後の前記シリコン回収用固形分に対して分級を行って、分級前よりも砥粒の含有率が低減されかつシリコンの含有率が高められたシリコン含有粉体を取得する分級部とを備える。 (もっと読む)


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