【課題】四塩化珪素の加水分解によって高純度合成シリカ粒子を生成する方法において、加水分解によって生成するゲルから効率よく塩酸を除去して高純度シリカ粒子を製造する方法を提供する。
【解決手段】四塩化珪素の加水分解によって生成したシリカと塩酸を含むゲル状物質から高純度のシリカ粒子を製造する方法において、水相溶性を有する易揮発性の有機溶媒によってゲル中の塩酸を置換させた後に該ゲルを乾燥することを特徴とする高純度シリカ粒子の製造方法、好ましくは、有機溶媒としてメタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトンのいずれかあるいは１種以上の混合物を使用し、７０〜１５０℃で乾燥を行う製造方法。 （もっと読む）

【課題】比誘電率及び／又は誘電正接が低く、異方性が高い板状シリカ粒子の製造方法、及び該板状シリカ粒子を提供する。
【解決手段】（１）ナノ細孔が実質的に存在しない中空状シリカ粒子を粉砕する工程を含む、比誘電率が３．５以下及び／又は誘電正接が０．０１以下である板状シリカ粒子の製造方法、及び（２）その製造方法により得られた、比誘電率が３．５以下及び／又は誘電正接が０．０１以下である板状シリカ粒子である。 （もっと読む）

【課題】四塩化珪素の加水分解によって高純度シリカ粒子の製造する方法において、生産性がよく、平均粒径が１００μｍ以上の高純度シリカ粒子を製造することができる製造方法を提供する。
【解決手段】 四塩化珪素の加水分解によって高純度のシリカ粒子を製造する方法において、塩酸を抽出する難水相溶性の有機溶媒を反応溶液に予め混合し、反応液中の塩酸を該有機溶媒中に抽出して加水分解を行うことを特徴とする高純度シリカ粒子の製造方法であり、好ましくは、四塩化珪素の導入量が純水１リットルに対して１.５モル以上であり、生成したゲル中のシリカ含有量が５.０重量％以上であって、１００μｍ以上の平均粒子径を有する高純度シリカ粒子を製造する方法。 （もっと読む）

【課題】機械的強度が強く、かつ比表面積も大きなシリカ系材料であって、しかも化学的安定性に優れたシリカ系材料を提供すること。
【解決手段】本発明は、ケイ素と、アルミニウムと、鉄、コバルト、ニッケル及び亜鉛からなる群より選択される少なくとも１種の第４周期元素と、アルカリ金属元素、アルカリ土類金属元素及び希土類元素からなる群より選択される少なくとも１種の塩基性元素と、を、前記ケイ素と前記アルミニウムと前記第４周期元素と前記塩基性元素との合計モル量に対して、それぞれ、４２〜９０モル％、３〜３８モル％、０．５〜２０モル％、２〜３８モル％、の範囲で含有するシリカ系材料を提供する。 （もっと読む）

【課題】 シリカゲルの用途の拡大を図るために、ケイ酸アルカリ溶液からシリカゲルを筒状又は板状に析出させることのできるシリカゲルの製法を提供することにある。
【解決手段】 ケイ酸アルカリ溶液のpH値を硫酸で11.0以上12.0以下に調整し、調整後のケイ酸アルカリ溶液を電気分解して陽極線の表面にシリカゲルを円筒状に析出させる。 （もっと読む）

【課題】低密度シリカナノ中空粒子及びその製造方法において、塗料等を始めとする材料中に混入等をすることによって、極めて低い熱伝導率を得るために有効であること。
【解決手段】炭酸カルシウム２を結晶成長させた（Ｓ１０）後に、熟成（Ｓ１１）、脱水し（Ｓ１２）、固体微粉末状とした後、エタノールに分散させ（Ｓ１３）、シリコンアルコキシド及びアンモニアを添加して、ゾル−ゲル法によりシリカをコーティングする（Ｓ１４）。このようにして作製したシリカコーティング粒子３を洗浄した（Ｓ１５）後に、水に分散させて（Ｓ１６）、塩酸を添加して内部の炭酸カルシウム２を溶解させて流出させることによって（Ｓ１７）、流出孔を有する立方体状形態のシリカ殻からなるナノ中空粒子４が形成され、乾燥した（Ｓ１８）後に、加熱工程において４００℃で加熱し流出した孔を塞ぐことによって（Ｓ１９）、低密度シリカナノ中空粒子１が製造される。 （もっと読む）

【課題】四塩化珪素の加水分解によって合成シリカ粉を製造する方法において、生産性がよく合成シリカ粉の製造方法を提供する。
【解決手段】四塩化珪素の加水分解によってシリカ粉を製造する方法において、四塩化珪素を無極性の有機溶媒と混合して四塩化珪素の加水分解を行い、この加水分解で副生する塩酸に水酸化アンモニウムを添加して中和しながら反応を進行させてシリカ質のゲルを生成させ、該ゲルを乾燥して合成シリカ粉を製造することを特徴とする合成シリカ粉の製造方法であり、無極性の有機溶媒としてベンゼンまたはヘキサンを用い、溶液のｐＨを１〜７好ましくは１〜２に制御してシリカ質のゲルを生成させる合成シリカ粉の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 金属酸化物がナノメートルオーダーのファイバー、粒子又はリボン形状を有し、これらを基本ユニットとして集合してなるナノ構造体で固体基材が被覆されている構造物とその簡便且つ効率的な製造方法を提供すること。
【解決手段】 ポリエチレンイミン骨格を有するポリマーを含有する溶液中に固体基材を浸漬させた後取り出し、該固体基材の表面にポリマー層を形成させる工程（Ｉ）と、前記工程（Ｉ）で得られたポリマー層を有する固体基材と、金属酸化物のソース液とを接触して、固体基材表面のポリマー層中に金属酸化物を析出させナノ構造複合体被覆型構造物を得る工程と、前記工程（ＩＩ）で得られたナノ構造複合体被覆型構造物を焼成する工程（ＩＩＩ）と、を有することを特徴とする金属酸化物を主構成成分とするナノ構造体で被覆された金属酸化物被覆構造物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】含水湿潤ゲルを乾燥させる過程で、ゲルに手を加えず、かつ有機溶媒や気体など亀裂の発生を抑制するための試薬を使用することなく、ゲルの亀裂の発生を簡単、安価に抑制する方法を提供する。
【解決手段】含水湿潤ゲルを乾燥する際に、まず含水湿潤ゲルから水を除去して含水湿潤ゲルの水含有量を減少させ、次いで、残りの溶媒を除去することにより湿潤ゲルを乾燥する。例えば、湿潤ゲル３と溶媒を含有する含水湿潤ゲルが収容された湿潤ゲル容器１を加熱する。これにより、溶媒３は湿潤ゲル容器１の上部空間８に蒸気となって蒸発する。この溶媒含有気体は、湿潤ゲル容器に嵌合された脱水剤容器２内に孔７を通して拡散し、脱水剤により水が除去される。この状態を１〜２日保持することにより、溶媒３中の水はほぼ除去される。その後脱水剤容器２を取り外し、水の除去された湿潤ゲルを加熱することにより溶媒をほぼ完全に除去した後、さらに高温で加熱して溶媒を完全除去すれば、亀裂の無い乾燥ゲルが得られる。 （もっと読む）

【課題】多孔質の複合酸化物粒子の表面を多孔質のシリカ系無機酸化物層で被覆した種々の微粒子構造を提供すると共に、該微粒子を含有する被膜を基材の表面に形成して、低屈折率で、樹脂等との密着性、強度、反射防止能等に優れた被膜付きの基材を提供する。
【解決手段】微粒子は、シリカとシリカ以外の無機酸化物とからなる多孔質の複合酸化物粒子が、厚さが０．５〜２０ｎｍである多孔質のシリカ系無機酸化物層で被覆されてなる。前記微粒子は、珪素に直接結合した有機基を含むことが好ましく、該有機基が直接結合した珪素のモル数（Ｓ_R）と全珪素のモル数（Ｓ_T）の比Ｓ_R／Ｓ_Tが０．００１〜０．９であることが好ましい。被膜付基材は、前記した微粒子と被膜形成用マトリックスを含む被膜が基材表面に形成されてなる。 （もっと読む）

【課題】別途のミーリング工程なしでセラミック粉末粒子を満遍なく分散させセラミック粉末らを満遍なく分散させるために必要な多くの工程を画期的に改善することができ、セラミックスラリー製造において粉砕工程が要らなくなるので、セラミック粉末の結晶性に損傷なしに、セラミック粉末粒子を均一に分散させることができ、高品質のセラミックスラリーを製造することができる。
【解決手段】洗浄されたセラミック粉末表面に親核性作用基を形成させる段階、及び上記親核性作用基が形成されたセラミック粉末表面にアジリジン同等体を連鎖重合反応させ末端にアミン基を有するポリマー層でコーティングする段階、とを含むことを特徴とするセラミック粉末コーティング方法、上記セラミック粉末を分散溶媒に酸と一緒に添加して正電荷を形成させ分散性を向上させる方法、上記方法により製造されたセラミック粉末及びセラミックスラリーを提供する。 （もっと読む）

【課題】物理的衝撃に強い光導電層を製造する。
【解決手段】放射線画像情報を静電潜像として記録する放射線撮像パネルを構成するＢｉ₁₂ＭＯ₂₀粒子（ただし、ＭはＳｉ，Ｇｅ，Ｔｉ中の少なくとも1種である）からなる光導電層の製造方法であって、Ｂｉ₁₂ＭＯ₂₀粒子の圧粉体２′を成形し、この圧粉体２′に高分子物質５を含浸させ、含浸させた高分子物質を硬化させる。 （もっと読む）

【課題】化粧料に配合されたとき、持続して優れたソフトフォーカス性を付与することができる新規な非晶質シリカ及びその製造法を提供する。
【解決手段】Ｘ線小角散乱法で測定した一次粒子径が１８乃至５０ｎｍであり、電子顕微鏡で観察した個々の粒子の円形度が０．７０乃至０．８５であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】トナーへの分散性やトナーの流動性低下の原因となる粗大な凝集粒子を含まず、また、トナーからの脱離を抑制することができ、従って、トナーへの均一分散性と流動性の付与効果に優れ、印刷画像上の白点の発生を抑制できる、トナー外添剤として好適な微細な一次粒子径を有するシリカ微粒子を提供する。
【解決手段】気相法により得られた平均一次粒子径が２０〜１００ｎｍの親水性シリカ微粒子を一般式（Ｉ）で表されるポリシロキサンで疎水化処理してなる疎水性シリカ微粒子であって、レーザー回折法による粒子の体積基準粒子径測定で粒子径１．５μｍ以上の凝集粒子の割合が１２％未満であることを特徴とする疎水性シリカ微粒子。
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【課題】従来以上に優れた紫外線遮蔽効果を有する紫外線遮蔽剤、これを含有する化粧料、及び、優れた紫外線遮蔽効果を有する微細針状酸化亜鉛を提供する。
【解決手段】平均長径が５００ｎｍ以下、平均短径が１００ｎｍ以下であり、平均長径／平均短径で定義されるアスペクト比が４以上で、かつＢＥＴ法による比表面積が２０ｍ^２／ｇ以上である微細針状酸化亜鉛からなる紫外線遮蔽剤。 （もっと読む）

【課題】 最頻細孔直径が大きく、制御された細孔特性を有し、不要な金属不純物の含有量が少なく、且つ耐熱性や耐水性等にも優れたシリカを提供する。
【解決手段】 以下の特性を備えるようにする。
（ａ）細孔容積が０．６ｍｌ／ｇ以上、１．６ｍｌ／ｇ以下
（ｂ）比表面積が５０〜６００ｍ²／ｇ
（ｃ）最頻細孔直径（Ｄ_max）が１５ｎｍ以上
（ｄ）固体Ｓｉ−ＮＭＲでのＱ⁴／Ｑ³値が３以上
（ｅ）非結晶質であること
（ｆ）金属不純物の含有量が１００ｐｐｍ以下 （もっと読む）

【課題】高透過率かつ高導電性を有し、表面が平坦であり耐熱性に優れた金属微粒子で構成される網目状構造物を含有する透明導電性膜および前記透明導電性膜積層基板とその製造方法を提供する。
【解決手段】金属微粒子において、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｓｎの金属あるいは前記金属を２種類以上含む合金を加熱焼成して得られる酸化ケイ素ゲル体膜を主成分とし、金属微粒子で構成される網目状構造物が内包されたことを特徴とする透明導電性膜及び透明導電性膜積層基板である。 （もっと読む）

【課題】５７３°Ｋ〜８７３°Ｋの範囲で、ＭｏとＳｉの同時酸化が起こり、さらにＭｏ酸化物の蒸発減少が伴うという、ペスト（粉化現象）を効果的に防止できるＭｏＳｉ_２粉末、同粉末の製造方法、同粉末を用いた発熱体及び発熱体の製造方法の提供。
【解決手段】ＭｏＳｉ_２粉末を酸化性の酸又は酸化剤を含む酸で洗浄し、ＭｏＳｉ_２粉末の比表面積が０．２ｍ^２／ｇ以上であり、かつ表面に酸化皮膜を備え、また酸素含有量が２０００ｐｐｍ以上であるＭｏＳｉ_２粉末とし、さらに、該粉末を用いてペスト（粉化現象）を効果的に防止できるＭｏＳｉ_２粉末を主成分とする発熱体を得る。 （もっと読む）

【課題】ゾルゲル法を利用して作製され且つ粉砕限界粒径前後の粒径を有する金属酸化物粒子。
【解決手段】ゾルゲル法により作製されたシリカ系ゲル状有機金属酸化物を、縦型筒状で上部が開口し、底部にガス吹き出し口９、１３を有し、内部にアジテーター３を備えた粉砕室１と、粉砕室１の開口部に接続され且つ分級ローター２５を備えた分級室２９と、分級室２９内外を貫通する製品回収管１７とを備えた粉砕機の粉砕室１に供給し、平均粒径が４〜８μｍとなるように粉砕分級する粉砕・分級工程と、粉砕分級後のゲル粒子を焼成する焼成工程と、を経て、粉砕分級後のゲル粒子よりも平均粒径の小さい金属酸化物粒子を作製する金属酸化物粒子の製造方法。 （もっと読む）

【課題】シリカを主成分とする粉体そのものを超疎水性にすること、および得られた超疎水性粉体を用いてなる、超疎水性表面を有する構造体とその簡便な製造方法を提供すること。
【解決手段】有機無機複合ナノファイバー（Ｉ）の会合体を含有する超疎水性粉体であって、該ナノファイバー（Ｉ）が、直鎖状ポリエチレンイミン骨格（ａ）を有するポリマー（Ａ）のフィラメントが、疎水性基を有する化合物（Ｘ）を物理吸着したシリカ（Ｂ）で被覆されてなるものであることを特徴とする超疎水性粉体、及びこれらを固体基材上に固定してなる、超疎水性表面を有する構造体。 （もっと読む）