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Fターム[4G072MM31]の内容

珪素及び珪素化合物 (39,499) | 反応、分離系操作 (4,111) | 乾燥 (291)

Fターム[4G072MM31]に分類される特許

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【課題】硬質化、低白色度化の問題、スラリー化した際の増粘・固化の問題が解決された再生粒子を簡易にかつ安定的に得ることができる再生粒子の製造方法とする。
【解決手段】製紙スラッジSを脱水(10)及び熱処理(30)して再生粒子を製造し、この再生粒子にシリカを複合する(60)シリカ複合再生粒子Rの製造方法であって、製紙スラッジSの主原料を、新聞古紙パルプの製造工程において排出された脱墨フロスとする。 (もっと読む)


【課題】リンとの反応性が良く、かつリンを吸着して形成した凝集体の沈降性に優れているリン回収材とその製造方法を提供する。
【解決手段】珪酸ナトリウム水溶液に石灰を加え、好ましくは非加熱下で生成した非晶質珪酸カルシウム水和物と未反応のCa(OH)2との凝集体からなり、Ca/Siモル比が1.5〜10であり、好ましくはCa/Siモル比が1.5〜5.5であって、リン含有水溶液に添加したときに、凝集物形成から2分後の沈降部分の高さが、同量の消石灰を用いた場合の沈降部分の高さの1/2以下であり、0.5wt%以上の添加量でリン回収率が60%以上であって、上記凝集体を回収した乾燥体、あるいは該凝集体を含むスラリーの何れの状態でも使用できるリン回収材。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、ゴム混合機に投入するシリカの水分率を把握して、水分率一定のシリカ投入量を正確にコントロールする方法を提供することである。
【解決手段】本発明は、乾燥機中の全量のシリカにおいて加熱減量法を用いた時間間隔における重量変化の微分係数からシリカ水分率を測定し、このシリカ水分率が基準値より多い場合にはそのまま乾燥機中で基準値になるまで乾燥し、シリカ水分率が基準値になったときに混合機にシリカを全量投入し、シリカ水分率が基準値であるときにはそのまま混合機にシリカを全量投入し、あるいはシリカ水分率が基準値より低い場合には調湿機に全量のシリカを移して、その調湿機において必要な量の水を供給しシリカと充分に接触させた後に、混合機へ投入するシリカ混合方法である。 (もっと読む)


【課題】強固に凝集せずに流動性に優れる疎水化無機酸化物粒子を簡易に製造する方法を提供すること。
【解決手段】上記方法は、下記の工程(1)乃至(6)を以下に記載の順で行うことを特徴とする;(1)塩基性触媒の存在下におけるゾルゲル反応を行い、無機酸化物粒子の分散液を得る反応工程、(2)前記反応工程によって得られた無機酸化物粒子の分散液に、特定の表面処理剤を添加して、前記無機酸化物粒子に対して第1の表面処理を行う工程、(3)前記第1の表面処理後の無機酸化物粒子の分散液に、特定の化合物からなる凝析剤を添加する工程、(4)ろ過によって前記第1の表面処理後の無機酸化物粒子を回収する工程、(5)回収した第1の表面処理後の無機酸化物粒子を乾燥する工程、並びに(6)乾燥後の第1の表面処理後の無機酸化物粒子に、特定の表面処理剤を添加して、前記第1の表面処理後の無機酸化物粒子に対して第2の表面処理を行う工程。 (もっと読む)


【課題】本発明の課題は、バイオ由来シリカと炭素質物質と少量の金属ケイ素を塩素と反応させる四塩化ケイ素の製造方法において、工業的な実施に適すると同時に、シリカの反応率の高い製造方法を提供することである。
【解決手段】本発明者らは、バイオ由来シリカと炭素質物質との混合物を、塩素と反応させて、四塩化ケイ素を製造する方法において、篩分粒径が1.0mm以上4.8mm以下の金属ケイ素を、シリカに対して、10〜30wt%加えて塩素化反応を行うことにより、外部からの余分なエネルギー供給の必要がなく、高いシリカ反応率で四塩化ケイ素が製造できることを見出した。 (もっと読む)


【課題】 断熱材、特に真空断熱材の心材とした際に、断熱性に優れかつ耐圧縮性のある断熱材を提供できる新規のエアロゲルを得る。
【解決手段】 エアロゲルを、細孔容積及び細孔直径のピークが各々4〜8ml/g、10〜30nmであり、かつ10MPaの圧力を付与した後の嵩密度が0.4〜0.8g/mlのものとする。このような耐圧性に優れたエアロゲルを心材とすることにより、真空断熱材の鞘材(密閉容器)として柔軟性の高いフィルムを用いても、部分的なつぶれを発生するなどして形状変形を起こすことがなく、高い空隙率を保持するため断熱性にも優れる。当該エアロゲルは、例えば、金属酸化物濃度が50〜150g/Lの水性ゾルをpH3〜6でゲル化した後、ヘキサン等の表面張力の小さな溶媒に溶媒置換し、さらにその状態で金属酸化物100質量部に対して50〜150質量部の疎水化剤で処理することにより得られる。 (もっと読む)


【課題】高純度のシリカを、簡易にかつ低コストで製造しうる方法を提供する。
【解決手段】(B)液分中のSi濃度が10.0質量%以上のケイ酸アルカリ水溶液と10.0体積%以上の濃度の鉱酸を混合して、液分中のSiを非ゲル状の沈降性シリカとして析出させた後、固液分離を行い、SiOを含む固形分と、不純物を含む液分を得るシリカ回収工程、を含み、前記工程(B)において、ケイ酸アルカリ水溶液、及び鉱酸の少なくともいずれか一方と過酸化水素を混合することを特徴とする高純度シリカの製造方法。 (もっと読む)


【課題】高比表面積を有するシリカ含有含水酸化チタンの製造方法を提供する。
【解決手段】微粒子シリカとシリカゾルから選ばれる少なくとも1種のシリカ材料の存在下に、このシリカ材料に対してハロゲン化チタンを酸化チタン換算にてTiO2/SiO2 重量比で90/10〜50/50の範囲にて含むハロゲン化チタン水溶液を60〜95℃の範囲の温度に加熱し、上記ハロゲン化チタン水溶液のpHが1.0以下にあるように上記ハロゲン化チタン水溶液にアルカリ性物質を加えながら、上記ハロゲン化チタンを熱加水分解すると共に、上記ハロゲン化チタンの熱加水分解によって生成するハロゲン化水素を上記アルカリ性物質で中和して、沈殿物を生成させ、この後、得られた反応混合物に更に上記アルカリ性物質を加えて、その反応混合物のpHを3〜7の範囲とし、次いで、上記沈殿物を濾過し、水洗し、乾燥することによって、高比表面積のシリカ含有含水酸化チタンを得る。これを焼成すれば、高比表面積のアナターゼ型酸化チタンを得る。 (もっと読む)


【課題】空隙率が高く、強度の高いシリカ系の中空粒子を得る中空粒子の製造方法、該中空粒子を用いた光学材料及び断熱材料を提供することにある。
【解決手段】コア粒子を有する溶液中にシリカ系材料を添加して乾燥を行った後、該コア粒子を除去することで、該シリカ系材料を有する中空粒子を製造する中空粒子の製造方法であって、該シリカ系材料を添加した後、該コア粒子を除去する前に、該シリカ系材料を架橋する架橋剤及び酸を添加することを特徴とする中空粒子の製造方法。 (もっと読む)


【課題】粒子径が小さく、流動性に優れ、樹脂への分散性に優れたシリカ系微粒子と樹脂とからなる半導体装置実装用ペ−ストを提供する。
【解決手段】流動性に優れ、樹脂への分散性に優れたシリカ系微粒子と樹脂とからなる半導体装置実装用ペ−ストであって、シリカ系微粒子の平均粒子径が50〜1000nmの範囲にあり、該シリカ系微粒子は限外濾過膜処理および/またはイオン交換処理し、ついで乾燥して得られたものである。シリカ系微粒子のアルカリ金属の含有量は20ppm以下であり、ペ−スト注のシリカ系微粒子の含有量は30〜90重量%の範囲にある。 (もっと読む)


【課題】粗粉の発生が少ないシリカ粒子が得られるシリカ粒子の製造方法を提供すること。
【解決手段】シリカ粒子とアルコール及び水を含む溶媒とを含有するシリカ粒子分散液を準備する工程と、超臨界二酸化炭素を前記シリカ粒子分散液に接触させて、前記溶媒を除去する工程と、を有するシリカ粒子の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】極めて微細な中空シリカ粒子、及びその製造方法を提供する。
【解決手段】〔1〕レーザ回折/散乱法によって測定される体積平均粒子径が0.05〜0.45μmで、最大粒子径が体積平均粒子径の5倍以内であり、空孔率が20〜70体積%、BET比表面積が30m2/g未満、98質量%以上がSiO2である中空シリカ粒子、及び〔2〕疎水性有機化合物(a)と、第四級アンモニウム塩(b)、及び加水分解によりシラノール化合物を生成するシリカ源(c)を含有する水溶液を調製する工程(I)、得られた水溶液を10〜100℃の温度で撹拌して、シリカから構成される外殻を有し、かつ核に疎水性有機化合物(a)を有するコアシェル型シリカ粒子の水分散液を調製する工程(II)、得られたコアシェル型シリカ粒子を分離し、950℃以上の温度で焼成して、中空シリカ粒子を得る工程(III)を有する中空シリカ粒子の製造方法である。 (もっと読む)


【課題】平均粒子径が小さく(1μm以下程度)、結晶性を備える、研磨剤(特に仕上げ研磨用の研磨剤)として好ましく利用できる結晶性シリカゾルの提供。
【解決手段】結晶性を備え、平均粒子径が1μm以下であり、粒度分布の標準偏差が10nm以上であるシリカ微粒子を含み、pHが8.7〜10.6である、結晶性シリカゾル。 (もっと読む)


【課題】 ゾルゲル法による3段階の階層的多孔構造を有するモノリス多孔体の製造方法を提供する。
【解決手段】 前駆体ゾルを調製するゾル調製工程と、有機ポリマー繊維を3次元的な広がりを有する塊状に構成してなるテンプレートを収容したゲル化容器内において、前記前駆体ゾルに対して、ゾルゲル転移と相分離を並行して発現させ、前記有機ポリマー繊維の周囲の空間に、ヒドロゲル相と溶媒相の共連続構造体からなるゲルを形成するゲル化工程と、前記ゲルから前記溶媒相と前記有機ポリマー繊維を個別或いは同時に除去する除去工程とを有し、前記有機ポリマー繊維が、長手方向への伸長が拘束された状態で前記長手方向に垂直な断面が収縮可能な構造を有し、前記有機ポリマー繊維を除去した後の空隙にテンプレート孔を、前記溶媒相を除去した後の空隙に貫通孔を、前記ヒドロゲル相の骨格体に細孔を、夫々形成する。 (もっと読む)


【課題】分散性に優れた微粒子シリカを調製できるシリカの製造方法、及び該製造方法により得られたシリカを含むタイヤ用ゴム組成物を提供する。
【解決手段】ケイ酸ナトリウム水溶液を用いたシリカの製造方法であって、水溶性分子を用いたシリカの製造方法に関する。 (もっと読む)


【課題】低温で且つ迅速にSiO系セラミックス膜を形成する方法により、効率良くガスバリアフィルムを得て、最終的に得られるセラミックス膜のガスバリア性、耐傷性等の膜特性を向上したガスバリアフィルム及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ポリ珪素化合物を含有する塗工液をプラスチックフィルム支持体に塗布した後、該塗布されたポリ珪素化合物をVUV光によりセラミックに転化させたガスバリアフィルムであって、該ポリ珪素化合物の下記数式で定義する分散度が、3.00以上20.00以下であることを特徴とするガスバリアフィルム及びその製造方法。 (もっと読む)


【課題】 大型且つ一体型の3次元連続網目状構造のシリカゲルまたはシリカガラスからなるモノリス多孔体で均質な骨格構造のものをゾルゲル法で製造するための製造方法を提供する。
【解決手段】 アルコキシシラン類を主成分として含むシリカ前駆体が溶媒相に混合されたゾルを調製するゾル調製工程と、前記ゾルを、所定のゲル化促進温度以上の温度下に維持して、ゾルゲル転移と相分離を並行して発現させ、3次元連続網目状構造を有するシリカヒドロゲル相と前記溶媒相の共連続構造体を形成するゲル化工程と、前記共連続構造体から前記溶媒相を除去する除去工程と、を有し、前記ゾル調製工程において、前記溶媒相を構成する化合物と前記シリカ前駆体の反応系に添加する化合物の内の少なくとも何れか1つの化合物の強冷された固体からなる冷媒を前記溶媒相内に加えることにより、当該ゾル調製工程中における前記ゾルの温度上昇を抑制する。 (もっと読む)


【課題】 透明性、断熱性に優れ、採光断熱材として使用する場合に優れた性能を発揮するエアロゲルを提供する。
【解決手段】 BET法による比表面積が400〜700m/g、BJH法による細孔容積が4〜8ml/g、BJH法による細孔直径のピークが10〜30nm、ふるい分け法による粒径が4mmを超える粒子を含まず、同0.5mm未満の粒子が5重量%であり以下(特に好ましくは実質的に含まず)、かつD65光源での全光線透過率が60%以上であることを特徴とするエアロゲル。 (もっと読む)


【課題】本発明の目的は、低比重で衝撃安定性の高いハイブリッド微粒子を提供することにあり、更に詳しくは、電子写真用トナーの外添剤としての基本的な性能を保持し、且つ低比重で衝撃安定性の高いハイブリッド微粒子を提供することである。
【解決手段】本発明は、内殻が有機物であり、外殻がシリカ化合物及び酸化アルミニウムからなる複合化合物、シリカ化合物及び酸化チタンからなる複合化合物、及びシリカ化合物及び酸化アルミニウム及び酸化チタンからなる複合化合物の群から選択されるいずれかであることを特徴とするハイブリッド微粒子に関する。 (もっと読む)


【課題】容量劣化が抑制され、サイクル特性に優れた非水電解質二次電池を与える正極活物質の製造方法、それにより得られた正極活物質、それを用いた正極及び非水電解質二次電池を提供することを課題とする。
【解決手段】オリビン構造を有する下記一般式(1)で示される正極活物質を形成するのに必要なリチウム源、M源、リン源及びX源の各所定量を溶媒に溶解させて溶液を調製する工程と、得られた溶液を環状エーテルの付与によりゲル化させる工程と、生成したゲルを焼成処理することで炭素被覆されたリチウム含有複合酸化物を得る工程を含む、一般式(1):Lixy1-zz4で表される化合物(式中、Mは、Fe、Ni、Mn、Zr、Sn、Al及びYからなる群から選択される少なくとも1種の元素であり、Xは、Si及びAlから成る群から選択される少なくとも1種であり、0<x≦2、0.8≦y≦1.2、0≦z≦1の範囲である)を得ることを特徴とする正極活物質の製造方法により上記課題を解決する。 (もっと読む)


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