【課題】（１）絶縁性があり、（２）耐熱性があり、（３）金属などの基材に塗布および熱処理して用いることができ、（４）基材との熱膨張係数差が大きくても剥離および破壊しない膜状の材料を得ること。
【解決手段】Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｂｅのいずれかからなる金属アルコキシドが加水分解および脱水重合されて形成される無機物質中にフィラーを分散した材料で、フィラーの粒子は結晶面の一つが完全なへき開面を有する無機物を含んだものとし、さらにフィラーの粒子のへき開面は膜の面方向に対して並行に略整列とすることにより解決した。 （もっと読む）

【課題】硬化性樹脂に添加して半導体用封止材とした際に、耐久性の高い硬化物を形成することができ、しかも硬化性樹脂に対して優れた分散性を有し良好な流動性を確保して高密度実装などのアンダーフィル実装にも好適に使用することができる非晶質シリカ粒子を提供する。
【解決手段】本発明の非晶質シリカ粒子は、半導体用封止材に用いる非晶質シリカ粒子であって、フーリエ変換赤外線吸収スペクトル（ＦＴ−ＩＲ）において、３４００〜３５００ｃｍ^-1にピークトップを有するシラノール基のＯＨ結合のピークの最大吸光度（Ｉ（ａｄＯＨ））とシロキサン結合のピークの最大吸光度（Ｉ（ＳｉＯ））との比（Ｉ（ａｄＯＨ）／Ｉ（ＳｉＯ））が０．００１０以上０．００２５未満であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明の課題は、バイオ由来シリカと炭素質物質と少量の金属ケイ素を塩素と反応させる四塩化ケイ素の製造方法において、工業的な実施に適すると同時に、シリカの反応率の高い製造方法を提供することである。
【解決手段】本発明者らは、バイオ由来シリカと炭素質物質との混合物を、塩素と反応させて、四塩化ケイ素を製造する方法において、篩分粒径が１．０ｍｍ以上４．８ｍｍ以下の金属ケイ素を、シリカに対して、１０〜３０ｗｔ％加えて塩素化反応を行うことにより、外部からの余分なエネルギー供給の必要がなく、高いシリカ反応率で四塩化ケイ素が製造できることを見出した。 （もっと読む）

【課題】 シリコン融液及び多結晶シリコンインゴットへの不純物汚染を十分に防止することができる能力を有し、かつ、離型性に優れた、低コストの多結晶シリコンインゴット製造用角形シリカ容器、及びそのような角形シリカ容器を製造する方法を提供する。
【解決手段】 シリコン融液を収容した後凝固して多結晶シリコンインゴットを製造するための角形シリカ容器であって、該角形シリカ容器は、少なくとも多孔質シリカ基体からなるものであり、前記多孔質シリカ基体は、かさ密度が１．８０〜２．１０ｇ／ｃｍ^３であり、Ａｌ濃度が５〜５００ｗｔ．ｐｐｍであり、ＯＨ基濃度が５〜５００ｗｔ．ｐｐｍであり、前記多孔質シリカ基体の内表面部分の少なくとも一部に、前記多結晶シリコンインゴットの離型を促進する離型促進剤が含有されているものである多結晶シリコンインゴット製造用角形シリカ容器、及びこのような角形シリカ容器を製造する方法。 （もっと読む）

【課題】製紙用の填料や顔料とするに適したシリカ複合混合無機粒子を連続的に製造することができるシリカ複合混合無機粒子の製造方法とする。
【解決手段】混合無機粒子Ｓ、珪酸アルカリ水溶液Ｋ及び鉱酸Ｒ１，Ｒ２からシリカ複合混合無機粒子を製造するにあたり、混合無機粒子Ｓ及び珪酸アルカリＫを第１の槽７０Ａに供給し、この槽７０Ａ内のスラリーＨＡが、第２の槽７０Ｂへ、第３の槽７０Ｃへ、第４の槽７０Ｄへと順に流れるものとしつつ、第３の槽７０Ｃ内のスラリーＨＣに鉱酸Ｒ２を添加するほか、第１の槽７０Ａ内のスラリーＨＡにも鉱酸Ｒ１を先行添加して、シリカ複合混合無機粒子を連続的に製造する。 （もっと読む）

【課題】含水湿潤ゲルを乾燥させる過程で、ゲルに手を加えず、かつ有機溶媒や気体など亀裂の発生を抑制するための試薬を使用することなく、ゲルの亀裂の発生を簡単、安価に抑制する方法を提供する。
【解決手段】含水湿潤ゲルを乾燥する際に、まず含水湿潤ゲルから水を除去して含水湿潤ゲルの水含有量を減少させ、次いで、残りの溶媒を除去することにより湿潤ゲルを乾燥する。例えば、湿潤ゲル３と溶媒を含有する含水湿潤ゲルが収容された湿潤ゲル容器１を加熱する。これにより、溶媒３は湿潤ゲル容器１の上部空間８に蒸気となって蒸発する。この溶媒含有気体は、湿潤ゲル容器に嵌合された脱水剤容器２内に孔７を通して拡散し、脱水剤により水が除去される。この状態を１〜２日保持することにより、溶媒３中の水はほぼ除去される。その後脱水剤容器２を取り外し、水の除去された湿潤ゲルを加熱することにより溶媒をほぼ完全に除去した後、さらに高温で加熱して溶媒を完全除去すれば、亀裂の無い乾燥ゲルが得られる。 （もっと読む）

【課題】 導電性、白色度及び分散性に優れ、毒性の危惧がない導電性粉末を提供することを目的とする。
【解決手段】芯材を水中に分散させたスラリーに、水溶性錫化合物を添加後、酸又はアルカリを用いて中和反応を行い、前記芯材の表面に酸化錫水和物からなる被覆層が形成された導電性粉末前駆体を生成し、該前駆体を洗浄し、乾燥した後、酸化性雰囲気中２５０〜６００℃で仮焼して仮焼粉を得、該仮焼粉を粉砕後、非酸化性雰囲気中１５０〜２５０℃で焼成して、酸化錫層を還元によりメタル化させずに酸素欠損を形成させて得られる、前記芯材の表面に酸化錫層が形成された導電性粉末であって、前記酸化錫層が実質的にアンチモンを含まず、体積抵抗率が１００Ω・ｃｍ未満であることを特徴とする導電性粉末を採用した。 （もっと読む）

本発明は、分散体を生成する方法であって、ａ）シラン処理コロイダルシリカ粒子の水性分散体と少なくとも２個のヒドロキシル基を含有する少なくとも１つの有機化合物を混合して、シラン処理コロイダルシリカ粒子および前記少なくとも１つの有機化合物の水性分散体を提供するステップであって、混合が単官能アルコールの実質的に非存在下で行われるステップと、ｂ）形成された水性分散体から、分散体中の水の残部が約１０重量％未満になるまで水を抜き取るステップとを含む方法に関する。本発明はまた、それから得られる分散体、および分散体の使用にも関する。 （もっと読む）

【課題】四塩化珪素を加水分解し合成シリカ粉を製造する方法において、生産性がよく、粒度の大きいシリカ粉を製造することができる合成シリカ粉の製造方法を提供する。
【解決手段】無極性の有機溶媒に混合した四塩化珪素と飽和塩酸との反応によってスラリー状の合成シリカを生成させ、この合成シリカスラリーを洗浄し、濾過してケーキ状になったスラリーを解砕し、これを押し固めて造粒した後に解砕し、乾燥して焼成することを特徴とする合成シリカ粉の製造方法であり、好ましくは、水酸化アンモニウム１〜５％、および過酸化水素１〜５％を含有する純水を用いてスラリー状の合成シリカを洗浄した後に加圧する合成シリカ粉の製造方法。 （もっと読む）

【課題】含水湿潤ゲルを乾燥させる過程で、ゲルに手を加えず、かつ有機溶媒や気体など亀裂の発生を抑制するための試薬を使用することなく、ゲルの亀裂の発生を簡単、安価に抑制する方法を提供する。
【解決手段】含水湿潤ゲルを乾燥する際に、まず含水湿潤ゲルから水を除去して含水湿潤ゲルの水含有量を減少させ、次いで、残りの溶媒を除去することにより湿潤ゲルを乾燥する。例えば、湿潤ゲル３と溶媒を含有する含水湿潤ゲルが収容された湿潤ゲル容器１を加熱する。これにより、溶媒３は湿潤ゲル容器１の上部空間８に蒸気となって蒸発する。この溶媒含有気体は、湿潤ゲル容器に嵌合された脱水剤容器２内に孔７を通して拡散し、脱水剤により水が除去される。この状態を１〜２日保持することにより、溶媒３中の水はほぼ除去される。その後脱水剤容器２を取り外し、水の除去された湿潤ゲルを加熱することにより溶媒をほぼ完全に除去した後、さらに高温で加熱して溶媒を完全除去すれば、亀裂の無い乾燥ゲルが得られる。 （もっと読む）

【課題】低屈折率でそれを長期に維持可能であり、高硬度でかつ被コーティング材料への膜の密着性に優れる多孔質シリカ膜およびその製造方法を提供する。
【解決手段】膜の表面および内部に存在する細孔が直径２ｎｍ以下のミクロ孔のみであって、鉛筆硬度が５Ｈ以上であり、分光エリプソメータを用いて波長６５５ｎｍの光を膜表面に対して入射角７５度にて入射させた際の屈折率が１．３３以下である多孔質シリカ膜であり、少なくとも、テトラアルキルオルソシリケート、メタノール若しくはエタノール、ヒドロキシケトン誘導体および水を混和して反応させる工程を含む方法により製造する。 （もっと読む）

【課題】無薬注で安定して脱水処理が可能で、且つ高濃縮度でシリコンを回収することができるシリコン回収方法、及びシリコン回収装置を提供すること。
【解決手段】シリコン粒子の粒径分布に２つ以上のピークを有するシリコン粒子群を含む研削或いは研磨排水を、液体サイクロン１３等の湿式分級装置で大きい粒径のピークのシリコン粒子群を含む濃縮液（液体サイクロンボトム液Ｗ３）と、小さい粒径のピークのシリコン粒子群を含む希薄液（液体サイクロントップ液Ｗ２）の２つに分け、濃縮液を脱水乾燥機１７で脱水し、高濃度でシリコン粒子を回収する。 （もっと読む）

一般式Ｈ−（ＳｉＨ_２）_ｎ−Ｈ（式中、ｎ≧２である）の高級ヒドリドシランの製造方法において、−１種又は複数種の低級ヒドリドシラン−水素、及び−周期律表の第ＶＩＩＩ属遷移金属の元素及びランタニドを含む１種又は複数種の遷移金属化合物を、５バールを上回る絶対圧で反応させ、その後減圧し且つ得られた反応混合物から高級ヒドリドシランを分離する、高級ヒドリドシランの製造方法。 （もっと読む）

【課題】四塩化珪素の加水分解によって合成石英粉を製造する方法において、生成したゲルを濃縮してシリカ含有率を高めて生産性を向上させた製造方法を提供する。
【解決手段】四塩化珪素の加水分解によって生成したシリカ質のゲルを１５０時間以上放置して自然脱水した後に、乾燥し焼成して石英粉にすることを特徴とする合成石英粉の製造方法であり、例えば、容器内の純水を攪拌しながら四塩化珪素を添加してシリカ質のゲルを生成させ、該ゲルを常温大気下に２００時間以上放置して自然脱水させ、含水量比８５％以下に低減した後に、乾燥し焼成して石英粉にする合成石英粉の製造方法。 （もっと読む）

【課題】多孔性構造のコアのシリカ粒子内部の連通孔に蛍光色素化合物、吸光色素化合物等の機能性化合物を閉じ込めたコア‐シェル構造のシリカナノ粒子の提供。
【解決手段】次の工程（ａ）及び（ｂ）を含んでなることを特徴とするコア‐シェル構造のシリカナノ粒子の製造方法。（ａ）オルガノアルコキシシラン化合物をテトラアルコキシシランとともにアンモニア水含有溶媒中で加水分解した後に縮重合させ、連通孔を有するシリカ粒子を調製する工程、及び（ｂ）前記アンモニア水含有溶媒に機能性化合物をあらかじめ溶解させておき、前記工程（ａ）により前記シリカ粒子を調製した後に、前記アンモニア水含有溶媒にテトラアルコキシシランを追加的に含有させ、前記シリカ粒子の表面上を包囲してなる緻密シリカのシェルを共有結合により形成することにより、前記シリカ粒子内部の前記連通孔に前記機能性化合物を前記シェルにより閉じ込める工程。 （もっと読む）

【課題】軽量であって滑らかな表面を有する無機質成形体を提供する。
【解決手段】主成分が以下の（ａ）〜（ｄ）
（ａ）粒径が１〜５００μｍの非晶質シリカとカルシウム塩との混合物、
（ｂ）粒径が１〜５００μｍの非晶質シリカ、
（ｃ）粒径が１〜５００μｍの非晶質シリカに、粒径が５０〜２０００Åの粒状の非晶質シリカが多数不規則に付着した非晶質シリカ複合物とカルシウム塩との混合物、
（ｄ）粒径が１〜５００μｍの非晶質シリカに、粒径が５０〜２０００Åの粒状の非晶質シリカが多数不規則に付着した非晶質シリカ複合物、
からなる群から選択される少なくとも１種である無機質成形体であって、当該成形体の少なくとも一面に於いて、当該最表面の光沢度が４％以上であることを特徴とする無機質成形体。 （もっと読む）

本発明は、疎水性付与剤で表面処理された金属酸化物粒子、その製造方法およびそれを含むトナーを提供する。 （もっと読む）

【課題】脱墨フロスを主原料とする再生粒子又は再生粒子凝集体を利用して、白色度が高く、低摩耗性のシリカ被覆再生粒子を製造する。
【解決手段】脱墨フロスを主原料としかつ平均粒子径が０．１〜１０μｍ再生粒子又は再生粒子凝集体を得て、この再生粒子又は再生粒子凝集体を珪酸アルカリ水溶液中に懸濁するとともに鉱酸を添加し、再生粒子又は再生粒子凝集体粒子の周囲をシリカで被覆してシリカ被覆再生粒子を得る。 （もっと読む）

少ない研磨性と実効的な洗浄特性をもち、口腔用組成物内に使用されるものであり、シリカを粉砕し分類して粒子の油吸収値が１５０ｃｍ^３／１００ｇになるように製造し、重量平均粒度ｄ_５０が３μｍ未満であり、重量比で９０％の粒子がｄ_９０の値より小さい粒度を持つとしたときのｄ_９０が６μｍ以下である、無定形沈降シリカ。 （もっと読む）

研磨組成物の製造法、更に詳しくは、優れた清掃性能と低研磨性を有する沈降シリカ研磨組成物の製造法を提供する。該製造法は、研磨粒子の反応器後サイジングを直接湿式粉砕及び遠心分離によって実施し、所望によりその後、真空脱水及び解凝集と組み合わせた水圧チャンバプレスフィルタリングを行う。特定の粒径範囲を標的にすることにより、高い被膜清掃レベルが、シリカ製品自体の象牙質研磨性まで増大することなく達成できることが分かった。その結果、特に望ましい清掃利益を示すそのような分級研磨シリカ製品を含む歯磨剤が、歯の硬質表面に悪影響を及ぼすことなく改良された歯磨き、ホワイトニングなどのために提供できる。本発明はまた、この選択的プロセススキームによる製品及びそのような特製及び分級シリカ製品を含有する歯磨剤も包含する。 （もっと読む）