【課題】着色が低減されたチタン含有金属酸化物の製造方法を提供する。着色が低減されたチタン含有金属酸化物を金属酸化物マトリックスとして用いた、青色レーザを用いたホログラフィックメモリ記録においても好適なホログラム記録材料、その製造方法、及びホログラム記録を提供する。
【解決手段】金属元素として少なくともＴｉを含む金属酸化物を製造する方法であって、ゼミナルジオール及びビシナルジオール以外のグリコールが配位したＴｉのアルコキシド化合物を準備する工程と、前記グリコールが配位したＴｉのアルコキシド化合物を加水分解させ、金属酸化物の前駆体を得る工程と、金属酸化物前駆体の重縮合反応を進行させ、金属酸化物を形成する工程と、を備える金属酸化物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 低粘度で一定期間安定な高濃度でもハンドリング良好である湿式シリカの水性分散液を調製することを目的とする。
【解決手段】 湿式シリカと下記の（１）〜（３）重合体を１種以上含有する分散剤と湿式シリカからなる水性分散液によって達成できる。
（１）水溶性（メタ）アクリル系カチオン性単量体とノニオン性水溶性単量体との共重合体。
（２）ポリビニルアルコール構造単位を有する水溶性あるいは水分散性高分子に（メタ）アクリル系水溶性カチオン性単量体をグラフトした重合体混合物。
（３）ポリビニルアルコール構造単位を有する水溶性あるいは水分散性高分子にジアリルアミン系水溶性単量体をグラフトした重合体混合物。
（もっと読む）

【課題】 本発明は、主として改質チタニウム化合物粒子からなる、有機溶媒に再分散可能な特性を備えた塊状組成物に関する。
【解決手段】 チタニウム化合物粒子の表面を、特定のアルコキシシラン、特定のハロゲン化シランまたはその加水分解物から選ばれた１種または２種以上の改質剤で表面処理して得られる改質チタニウム化合物粒子とｎ-ブタノールとを含む、有機溶媒に再分散可能な塊状組成物並びにその製造方法、および該塊状組成物を有機溶媒に再分散させてなる有機溶媒分散ゾル。 （もっと読む）

本発明は、無機材料に基づく酸官能化コアと少なくとも１つの導電性のポリチオフェンを含むシェルとを含むコアシェル構造を有する粒子、かかる粒子を含む分散液、ならびにその調製および使用に関する。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも約１０の軸比及び少なくとも約６００ｍ２／ｇの比表面積を有するシリカ系粒子を含有するゾルに関する。本発明は、少なくとも約１０の軸比及び約２５以下のＳ値を有するシリカ系粒子を含有するゾルにさらに関する。本発明は、そのシリカ系粒子が表面改質される、少なくとも約１０の軸比及び少なくとも約４００ｍ２／ｇの比表面積を有するシリカ系粒子を含有するゾルにさらに関する。本発明は、そのシリカ系粒子が少なくとも４００ｍ２／ｇの比表面積を有する、少なくとも５０ｃＰの粘度及び少なくとも３重量％のシリカ含有量を有するシリカ系粒子を含有するゾルにさらに関する。本発明は、本発明による水性シリカ系ゾルを製造するための方法、その方法によって得ることができるシリカ系粒子を含有するゾル、そのシリカ系粒子を含有するゾルの凝集剤としての使用にさらに関する。本発明は、上記シリカ系粒子を含有するゾルを濾水及び歩留まり向上剤として使用する、紙を製造するための方法にさらに関する。 （もっと読む）

【課題】細孔容積及び比表面積が大きいだけでなく、細孔分布が狭く、不要な金属不純物量を抑えることができ、且つ耐熱性や耐水性等の物性面でも優れ、即ち各種の好ましい属性をバランスよく備えた、シリカを提供する。
【解決手段】細孔の最頻直径（Ｄ_ｍａｘ）が２０ｎｍ以下のシリカであって、固体Ｓｉ−ＮＭＲでのＱ^４ピークのケミカルシフトδ（ｐｐｍ）が下記式（Ｉ）を満足し、シリコンアルコキシドを加水分解すると共に得られたシリカヒドロゾルを縮合してシリカヒドロゲルを形成する加水分解・縮合工程と、該加水分解・縮合工程に引き続きシリカヒドロゲルを熟成することなく水熱処理する物性調節工程とを包含する方法で製造する。−０．０７０５×（Ｄ_ｍａｘ）−１１０．３６＞δ・・・（Ｉ） （もっと読む）

【課題】外観ムラの無いアクティブマトリクス基板の製造に好適に用いることのできるアクティブマトリックス層間絶縁膜形成用塗布液および層間絶縁膜を有する基板を提供する。
【解決手段】(i)一般式R_nSi(OR’)_4-n[式中、R、R’は炭素数１〜８のアルキル基、アリール基またはアルケニル基を表わし、ｎは０〜３の整数である]で示されるアルコキシシランを加水分解重縮合して得られるシリカゾルと、(ii)前記アルコキシシランの部分加水分解物との反応物と、ポリシリコーン樹脂とが分散媒に分散または溶解してなるアクティブマトリックス層間絶縁膜形成用塗布液。前記ポリシリコーン樹脂がポリエーテル変性シリコーン樹脂である。前記ポリシリコーン樹脂の数平均分子量が1，０００〜１００，０００の範囲にある。 （もっと読む）

【課題】 ナトリウムイオンを含有するシリカ系微粒子が溶媒に分散してなる高濃度シリカ系ゾルにおいて、ゾルの安定性を損なうことなく、ナトリウムイオン濃度を低減させ、カリウム含有シリカ系ゾルを調製する。
【解決手段】 ナトリウムイオンを含有するシリカ系微粒子が溶媒に分散してなり、固形分濃度が１０〜５０質量％であるシリカ系ゾルをカリウム型イオン交換樹脂に通液することにより、ナトリウムイオンとカリウムイオンとをイオン交換させることにより、該シリカ系ゾルに含まれるナトリウムイオン量を低減させ、カリウムイオン量を増大させる （もっと読む）

【課題】 粘度の安定性と貯蔵中の凝集に対する安定性を有する、分散によって組み込まれたナノスケールの無機粒子を含むポリイソシアネートを提供する。
【解決手段】 ナノ粒子修飾ポリイソシアネートを、1) A)ポリイソシアネートを、B)アルコキシシラン：Q-Z-SiX_aY_3-a (I) （式中、Qはイソシアネート反応性基であり、Xは加水分解性基であり、Yは同一または異なるアルキル基であり、ZはC₁-C₁₂アルキレン基であり、aは1〜3の整数である）と反応させ、続いて、2) 分散によってC) 分散液中での動的光散乱によって測定した平均粒径が200nm未満である無機粒子を組み込むことにより製造する。 （もっと読む）

【課題】 塗料組成物の成分として好適なシリカゾルを提供する。
【解決手段】 短径／長径比が０．０５〜０．５の範囲にあり、ＢＥＴ法により測定される比表面積から換算される平均粒子径が４〜１２ｎｍの範囲にあるシリカ微粒子が液状媒体に分散してなるシリカゾルであって、該シリカ微粒子１００重量部に対して０．００００1〜０．００１重量部のカルボン酸塩を含有する。カルボン酸塩は、酢酸、クエン酸、マレイン酸、酒石酸、リンゴ酸、乳酸、グルコン酸から選ばれる１種以上のカルボン酸の塩である。 （もっと読む）

【課題】 粗大粒子径を含まず、粒子径が極めて均一な微粒子が溶媒に分散してなる金平糖状無機酸化物ゾルを得る。
【解決手段】 核粒子分散液に酸性珪酸液を添加して核粒子を成長させた後、前記添加速度の１．２〜１．８倍の添加速度で再び酸性珪酸液を添加して前記核粒子を成長させて金平糖状無機酸化物ゾルを調製し、次いで、該ゾルを遠心分離処理して平均粒子径８００ｎｍ以上の粗大粒子を除去することにより、金平糖状という特異な形状をした微小な球状無機酸化物微粒子が得られる。 （もっと読む）

コロイド状シリカ又はアルミノケイ酸塩粒子のような、高金属性ケイ質物質を生成するための変更したゾルゲル方法が開示されている。最初に、選択した金属塩がケイ酸溶液又はアルミニウム塩を含むケイ酸溶液に添加される。アルミニウムはシリカ基質内でＡｌ−Ｏ−Ｓｉ結合を形成するように、金属―担体間の相互作用を変えるために添加される。アルミニウムに加えて、Ｍ−Ｏ−Ｓｉ（Ｍ＝Ｔｉ、Ｂ等）結合を形成し、還元剤で処理される際に還元されない他の金属を添加できる。一度、金属、ケイ酸 及び／又はアルミニウム塩が生成された場合、塩基性ヒールへの添加によってコロイドの成長を受ける。コロイド合成後すぐに、コロイド粒子を含む金属塩はコロイド安定性を最大化できるように残され、ヒドラジンで還元されて、０価の金属含有性のコロイド粒子を生成する。使用前に粒子をコロイド状に保つことは、簡単に噴霧乾燥し、又は、押し出された触媒粒子のために他の物質と混合される場合に、触媒物質を形成する有効な方法になりうる。 （もっと読む）

【課題】 透明性、安定性、単分散性、紫外線遮蔽性（特に紫外線Ｂ：２９０〜３２０ｎｍ）等に優れたニオブ系酸化物微粒子の分散液を製造する。
【解決手段】 ニオブ酸分散液に過酸化水素を加えて溶解および／または解膠して得られた溶液を、必要に応じてニオブ以外の元素（Ｆe、Ｃe、Ｓi、Ｚr、Ａl、Ｔi、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｗ、Ｚｎ）の化合物の共存下で水熱処理する。 （もっと読む）

【課題】シリカ以外の金属酸化物の含有率を、５０モル％を越えるような高い含有率とすることができ、屈折率を高屈折率に調整することができるシリカ系複合酸化物粒子の集合体であって、該集合体を構成する粒子の粒子径が揃っている粒子集合体を提供する。
【解決手段】チタン、ジルコニウム、および、アルミニウムからなる群から選ばれる少なくとも一種の金属とシリコンとの複合酸化物からなるシリカ系複合酸化物粒子の集合体であって、（Ａ）シリカ系複合酸化物粒子を、円形度０．８以上である球状若しくは略球状の粒子とし、（Ｂ）シリカ系複合酸化物粒子の粒子径の変動係数を、３０％以下とし、（Ｃ）シリカ系複合酸化物粒子に含まれるチタン、ジルコニウム、およびアルミニウムからなる群から選ばれる少なくとも一種の金属の合計グラム原子数をＭ、シリコンのグラム原子数をＳｉとしたときに、０．５＜Ｍ／（Ｍ＋Ｓｉ）＜１．０、の関係を満足するようにする。 （もっと読む）

【課題】従来と比較して高機能化された新規な多孔質ハニカム構造体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】導電性を有する微粉末が分散されたシリカ成形体である、導電性を有する多孔質ハニカム構造体、ならびに、（ａ）ケイ酸ナトリウム水溶液にイオン交換樹脂を混入してシリカゾルを調製する工程と、（ｂ）前記イオン交換樹脂を除去し、ｐＨを調整する工程と、（ｃ）シリカゾルに導電性を有する微粉末を分散させる工程と、（ｄ）シリカゾルをゲル化してシリカ湿潤ゲルを製造する工程と、（ｅ）前記シリカ湿潤ゲルを凍結させる工程とを含む、導電性を有する多孔質ハニカム構造体の製造方法。 （もっと読む）

【目的】球状シリカ粒子の従来の製造手法の中で、大粒の粒子と小粒の粒子の比率、これらの粒子の平均粒子径を特定範囲内で制御することを可能とする独立２峰性の粒径分布を有する球状シリカ粒子懸濁溶液とその製造方法、および球状シリカ粒子を提供する。
【構成】独立２峰性の粒径分布）を有する球状シリカ粒子の懸濁溶液であって、該懸濁溶液の調製が３５℃以上溶媒の沸点以下で行われ、大粒粒子の平均粒子径（Ｄｌ）が９００〜１８００ｎｍ、小粒粒子の平均粒子径（Ｄｓ）が５０〜４００ｎｍであり、ＤｌとＤｓの比（Ｄｌ／Ｄｓ）が５〜２０であり、小粒粒子の占める体積割合が２０〜４０％であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】光学エレメントなどの基材の表面に光学的性質のすぐれた透明なハードコートを形成するための被覆された酸化チタンを提供する。
【解決手段】酸化チタンゾル粒子が、（ａ）ケイ素の含水酸化物か、または（ｂ）ケイ素と、スズ、アルミニウムおよびジルコニウムから選ばれた少なくとも１種の金属種との複合水和酸化物よりなる層で被覆されており、それにより高い透明性と耐光性が確保されていることを特徴とする酸化チタンゾル。 （もっと読む）

【課題】 研磨材として好適な異方形状シリカゾルおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 水溶性珪酸塩の水溶液に対して珪酸液を添加して、ＳｉＯ₂／Ｍ₂Ｏ［Ｍはアルカリ金属、第３級アンモニウム、第４級アンモニウムまたはグアニジンから選ばれる］（モル比）が３０〜６５の範囲の混合液を調製し、該混合液に６０〜２００℃の温度で、再度珪酸液を断続的または連続的に添加することによりシリカゾルを調製し、該シリカゾルをｐＨ７〜９の範囲にて、６０〜９８℃で加熱する。 （もっと読む）

【課題】 研磨材として好適な異方形状シリカゾルおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】 平均粒子径が３〜２０ｎｍの範囲にあるシリカゾルを脱陽イオン処理してｐＨ２〜５の範囲に調整し、次いで脱陰イオン処理した後、アルカリ性水溶液を添加してｐＨ７〜９に調整した後、６０〜２５０℃で加熱することにより製造する。得られる異方形状シリカゾルは、平均粒子径が４〜２５ｎｍの範囲にあり、短径／長径比が０．０５〜０．５の範囲にある。 （もっと読む）

【課題】 ガラスハードディスク、その他の基板に対する研磨特性に優れる。
【解決手段】 動的光散乱法により測定された平均粒子径（Ｄ１）が４０〜７０ｎｍの範囲にあり、ＢＥＴ法により測定された平均粒子径（Ｄ２）が１０〜５０ｎｍの範囲にあり、異形度（Ｄ１／Ｄ２）が１．５５〜４．００の範囲にある非球状シリカ微粒子が分散してなる異方形状シリカゾルであって、該異方形状シリカゾルの動的光散乱法により測定された粒子径分布において３０〜７０ｎｍの粒子径範囲Ａと７１〜１５０ｎｍの粒子径範囲Ｂにそれぞれ粒子径分布のピークがあり（但し、両ピークに相当する粒子径の差の絶対値が５０〜１００ｎｍの範囲にある場合に限る。）、該粒子径範囲Ａに存在する粒子の体積％と該粒子径範囲Ｂに存在する粒子の体積％の比が６０：４０〜９５：５の範囲にある。 （もっと読む）