【課題】設置スペースが小さく、かつ耐衝撃性に優れた光触媒用光源ユニット及びそれを用いた空質浄化装置を提供する。
【解決手段】保護管、前記保護管の内部に収容された冷陰極管、前記保護管の一方の端部及び前記冷陰極管の一方の端部を支持する第１の支持体、前記保護管の他方の端部及び前記冷陰極管の他方の端部を支持する第２の支持体、並びに前記保護管を両方の端部の間の位置において支持する第３の支持体を備え、冷陰極管は光触媒に照射する光を発する。 （もっと読む）

本開示は全般的には、縮合三環式化合物を、フラン環を含む縮合四環式化合物に変換するプロセスに関する。より詳細には、本開示は、構造的に対応するシノメニン出発化合物を、超酸を使用したフラン閉環反応に付すことにより、ヒドロコドン化合物またはそれと構造的に関連した化合物、特に（＋）−ヒドロコドンを調製するプロセスに関する。式Ｉ、ＩＩ。本明細書に記載のプロセスに有用な超酸の例として、トリフルオロメタンスルホン酸（ＣＦ_３ＳＯ_３Ｈ）、テトラフルオロホウ酸（ＨＢＦ_４）、フルオロリン酸（ＨＰＦ_６）、フルオロ硫酸（ＦＳＯ_３Ｈ）およびフルオロアンチモン酸（ＨＳｂＦ_８）、フルオロリン酸（ＦＰ（Ｏ）（ＯＨ）_２）、およびこれらの組み合わせがあるが、これに限定されるものではない。

（もっと読む）

【課題】表面が耐久性に優れ且つアナターゼ型、ルチル型及びブルッカイト型からなる群の１種以上の酸化チタンを表面に有しているガラスセラミックスの製造方法、及びこの製造方法で製造されるガラスセラミックスを含む光触媒機能性成形体及び親水性成形体を提供する。
【解決手段】ガラスセラミックスは、酸化物換算組成のガラスセラミックス全物質量に対して、モル％でＴｉＯ_２成分を１５．０％以上８８．９％以下、及びＰ_２Ｏ_５成分を１１．０％以上８４．９％以下含有し、ＺｒＯ_２成分及びＳｎＯ成分からなる群より選択される１種以上の成分を０．１％以上２０．０％以下含有するものである。 （もっと読む）

【課題】表面が耐久性に優れ且つアナターゼ型、ルチル型及びブルッカイト型からなる群の１種以上の酸化チタン結晶を表面に有しているガラスセラミックスの製造方法、及びこの製造方法で製造されるガラスセラミックスを含む光触媒機能性成形体及び親水性成形体を提供する。
【解決手段】ガラスセラミックスは、酸化物換算組成のガラスセラミックス全物質量に対して、モル％でＴｉＯ_２成分を１５．０％以上８８．９％以下、及びＰ_２Ｏ_５成分を１１．０％以上８４．９％以下含有し、Ｎｂ_２Ｏ_５成分、Ｔａ_２Ｏ_５成分、ＷＯ_３成分、及びＭｏＯ_３成分からなる群より選択される１種以上の成分を０．１％以上５０．０％以下含有するものである。 （もっと読む）

【課題】表面が耐久性に優れ且つアナターゼ型、ルチル型及びブルッカイト型からなる群の１種以上の酸化チタン結晶を表面に有しているガラスセラミックスの製造方法、及びこの製造方法で製造されるガラスセラミックスを含む光触媒機能性成形体及び親水性成形体を提供する。
【解決手段】ガラスセラミックスは、酸化物換算組成のガラスセラミックス全物質量に対して、モル％でＴｉＯ_２成分を１５．０％以上８８．９％以下、及びＰ_２Ｏ_５成分を１１．０％以上８４．９％以下含有し、Ｒｎ_２Ｏ成分及びＲＯ成分からなる群より選択される１種以上の成分を０．１％以上６０．０％以下含有するものである（式中、ＲｎはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓからなる群より選択される１種以上とし、ＲはＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｚｎからなる群より選択される１種以上とする）。 （もっと読む）

【課題】優れた光触媒活性を有する光触媒を工業的量産化に適した安価な方法にて製造する方法を提供する。
【解決手段】チタン又はチタン合金上に、結晶質の酸化チタン皮膜及び結晶質の酸化錫皮膜が形成されてなる光触媒の製造方法であって、（１）チタン又はチタン合金１上に、錫皮膜を部分的に形成させることにより錫皮膜形成体を得る工程、並びに（２）工程（１）で得られた錫皮膜形成体を酸化処理することにより、結晶質の酸化チタン皮膜２及び結晶質の酸化錫皮膜３を形成させる工程、を含む光触媒の製造方法。 （もっと読む）

【課題】酸化物または炭素ベースの担体をベースとはせず、同時に高い活性および安定性を有するルテニウムベースの触媒系を提供する。
【解決手段】担体材料および触媒活性材料を含む触媒組成物において、担体材料はフッ化マグネシウムを含んでなり、触媒活性材料はルテニウム含有化合物を含んでいる。塩化水素の酸素を用いる接触気相酸化によって塩素を製造する方法において、触媒はフッ化マグネシウムおよび少なくとも１種のルテニウム化合物を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】高い活性の可視光応答型光触媒が得られるように、ヒドロキシアパタイト粉体からフッ素アパタイトを製造する。
【解決手段】天然骨由来のヒドロキシアパタイトとしての骨灰を遊星ボールミルによりフッ素含有化合物と共粉砕する。これにより、例えばチタニアをさらに共粉砕すれば、フッ素アパタイト、チタンアパタイトおよび可視光型光触媒チタニアの３つの機能性材料の製造を、チタニアとアパタイトとを原料に、メカノケミカル反応の制御で単一の工程で達成し、さらにそれらをナノレベルで複合化した材料を得ることができる。また、廃棄物を原料に、有機溶媒、酸、アルカリ等の危険および有害な薬品を使用せずに簡便かつ安全にフッ素アパタイトを製造することができる。 （もっと読む）

【課題】特定のフルオロエーテルカルボン酸フルオライドを選択的に収率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】本発明は、溶媒中で、触媒の存在下に、−３０〜４０℃の温度で、ヘキサフルオロプロピレンオキサイドとカルボニルフルオライドとを反応させて、下記式（Ｉ）：
ＣＦ_３Ｏ（ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２Ｏ）ＣＦ（ＣＦ_３）ＣＯＦ （Ｉ）
で表されるフルオロエーテルカルボン酸フルオライドを選択的に得る工程を含み、上記触媒は、金属フッ化物、３級アミン、３級ジアミン、及び、テトラアルキルアンモニウム塩からなる群より選択される少なくとも１種であり、上記溶媒は、非プロトン性極性溶媒であることを特徴とするフルオロエーテルカルボン酸フルオライドの製造方法である。 （もっと読む）

新規のクロム含有フッ素化触媒が記載されている。該触媒は、活性を促進させる量の亜鉛を含んでなる。亜鉛は、最大直径で１ミクロン以下の大きさを有する凝集物中に含有されている。凝集物は触媒の少なくとも表面領域全体に分布し、凝集物の４０重量％以上が、該凝集物中における亜鉛の最頻濃度の±１重量％以内である濃度の亜鉛を含有している。
（もっと読む）

新規のクロム含有フッ素化触媒が記載されている。該触媒は活性を促進させる量の亜鉛を含んでなり、クロムの総重量を基準として触媒中のクロムの０．１〜８．０重量％がクロム（ＶＩ）として存在している。炭化水素またはハロゲン化炭化水素が気相中高温でフッ化水素と反応させられるフッ素化プロセスにおける、亜鉛促進性クロム含有触媒の使用も記載されている。
（もっと読む）

【課題】紫外光のみならず可視光に対する活性の高い光触媒、水素の生産効率が高い水素製造方法、及び分解活性の高い有機物分解方法を提供する。
【解決手段】ｄ^ｎ（０＜ｎ＜１０）型の電子配置をとる金属イオンと、酸化物イオン（Ｏ^２−）と、Ｈ、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、Ｃｓ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、希土類元素、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｃ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｎ、Ｐ、Ｓｂ、Ｓ、Ｓｅ、Ｔｅ、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ、及びＩからなる群から選ばれる少なくとも１つの元素Ｂのイオン（但し、元素Ｂが金属元素である場合には、この元素Ｂのイオンはｄ^ｎ（０＜ｎ＜１０）型以外の電子配置をとる。）と、を含む化合物Ａを用いる。 （もっと読む）

【課題】保存安定性が良好で、容易に製造でき、また不斉移動水素化反応においてより高い収率や立体選択性が達成できる、新規なキラルなイリジウムアクア錯体を提供する。
【解決手段】


（式中、Ｒ^ａ、Ｒ^ｂ、Ｒ^ｃ、Ｒ^ｄおよびＲ^ｅは、同一または異なって、それぞれ水素原子、メチル基、エチル基またはフェニル基を示し、Ｒ^１およびＲ^２は、同一または異なって、それぞれ置換基を有していてもよいアリール基であるか、またはＲ^１およびＲ^２が一緒になって環を形成する置換基を有していてもよいＣ_３−４直鎖アルキレン基を示し、Ｒ^３は、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基または置換基を有していてもよいアリールスルホニル基を示し、Ｒ^４は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキルスルホニル基または置換基を有していてもよいアリールスルホニル基を示す。）で表されるイリジウムアクア錯体及びそれを用いた光学活性ヒドロキシ化合物の製造方法。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも１種のＩＺＭ−２ゼオライトと、少なくとも１種の無定形マトリクスと、白金およびパラジウムを除く周期律表の第VIB族および第VIII族の元素によって形成される群から選ばれる少なくとも１種の水素化−脱水素化元素とを含む触媒に関する。触媒はまた、場合によっては、リン、ホウ素およびケイ素から選ばれる制御された量の少なくとも１種のドーピング元素と、場合による元素周期律表の第VB族からの少なくとも１種の元素と、場合による第VIIA族からの元素とを含有する。本発明はまた、この触媒を用いる水素化分解および水素化処理方法に関する。 （もっと読む）

本発明は、酸化クロム又はフッ素化された酸化クロムからなるフッ素化触媒の存在下に、化学式：CClYZCF=CX¹X²(式中、Ｘ^１は水素原子又は塩素原子であり、Ｘ^２はフッ素原子、塩素原子又は水素原子であり、Ｙ及びＺは、同一または異なってそれぞれフッ素原子又は塩素原子である)で表されるハロゲン化プロペンを気相において無水フッ化水素と反応させることによる、化学式：CF₃CF=CX¹X²(式中、Ｘ^１及びＸ^２は上記に同じ) で表される含フッ素プロペンの製造方法を提供するものである。本発明方法は、化学式：CF₃CF=CClX(式中、Xは、Cl、H又はFである)で表される含フッ素プロペンを比較的穏和な条件で高収率で提供する。 （もっと読む）

本発明は、モノフルオロアルキルテトラフルオロホスホラン、ビス（フルオロアルキル）トリフルオロホスホランまたはトリス（フルオロアルキル）ジフルオロホスホランと水との反応による、ビス（フルオロアルキル）ホスフィン酸および／またはフルオロアルキルホスホン酸の製造方法に関する。 （もっと読む）

本発明は、酸化剤で塩化アリル（「ＡＣ」）を接触酸化し（接触酸化は水性反応媒体中で行われ、水溶性マンガン錯体は酸化触媒として用いられる。）、次いでエピクロロヒドリン（「ＥＣＨ」）を分離することによる、エピクロロヒドリンの製造方法に関する。 （もっと読む）

本発明は、下記反応工程を含む２，３，３，３−テトラフルオロプロペンの製造方法を提供するものである：（ｉ）一般式（１）：ＡＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_ｘＦ_ｙＡ_ｚ（式中、ＡはＣｌ、ＢｒまたはＩであり、ｘは０〜２の整数、ｙ及びｚは、それぞれ０〜３の整数であって、x、ｙ及びｚの合計は３である。）で表されるハロゲン化フルオロプロパンを還元して、一般式（２）：ＡＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_３で表される１−ハロゲン化−１，１，２，２−テトラフルオロプロパンとする工程、（ii） 上記（ｉ）工程で得られた１−ハロゲン化−１，１，２，２−テトラフルオロプロパンを気相において触媒に接触させて２，３，３，３−テトラフルオロプロペンとする工程。本発明によれば、安価な原料を用いて高収率で２，３，３，３−テトラフルオロプロペン（ＨＦＯ−１２３４ｙｆ）を製造することができる。 （もっと読む）

本発明は、ビス（パーフルオロアルキル）亜ホスフィン酸、ビス（パーフルオロアルキル）チオ亜ホスフィン酸および誘導体、その合成ならびに特に触媒工程のための空気中で安定な金属錯体の合成のためのその使用に関する。 （もっと読む）

１，１，１，２−テトラフルオロプロペン（１２３４ｙｆ）の製造を目的とした、１，１，２，３−テトラクロロプロペン（１２３０ｘａ）のフッ素化のための単一反応器、気相触媒法を開示する。本発明の方法は、担持又は非担持高圧活性化触媒を用いる触媒的気相フッ素化である。Ｒが、−ＣＣｌ＝ＣＨ₂、−ＣＦ＝ＣＦ₂、−ＣＦ₂−ＣＨ₃、−ＣＦＣｌ−ＣＨ₃、及びそれらの混合物から選択される式ＣＦ₃Ｒのフッ素化生成物が製造される。同時生成物質を、所望の生成物から分離し、同じ反応器にリサイクルさせる。 （もっと読む）