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Fターム[4G169ZA37]の内容

触媒 (289,788) | ゼオライト及びモレキュラーシーブ(MS) (3,577) | アルミノ珪酸塩以外のMS (475) | 結晶性メタロ(金属)シリケート (142)

Fターム[4G169ZA37]に分類される特許

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【課題】シクロヘキサノンオキシムを含む廃水から、好適に有機物を減少させることを可能とする廃水処理方法を提供することを目的とする。
【解決手段】シクロヘキサノンオキシムを含む廃水を、フェントン酸化処理した後に、生物学的処理を行う廃水処理方法。 (もっと読む)


【課題】低温時にエンジンから排出されるNOxを浄化できる尿素SCR触媒及び排ガスの後処理システムを提供する。
【解決手段】排ガス中のNOxをアンモニアで還元するための尿素SCR触媒において、鉄シリケート骨格内にAlイオンを導入したものである。 (もっと読む)


【課題】チタノシリケート含有触媒と併用することにより、酸素、水素及びプロピレンからプロピレンオキサイドを製造するための反応において、結果としてオレフィンオキサイドの高い生成量を与えるような新たな触媒等を提供すること。
【解決手段】貴金属と担体とを構成成分として含有する貴金属担持物であり、水素脱離量(MH)と一酸化炭素吸着量(MCO)との比(MH/MCO)が0.01〜0.40の範囲であることを特徴とする貴金属担持物。ここで、「水素脱離量」とは、前処理後の試料について、昇温速度10℃/分の昇温脱離法に従って観察された50℃から350℃までの範囲に極大値を有する脱離成分が有するピークの面積の和から算出した値であり、また「一酸化炭素吸着量」とは、前処理後の試料について、一酸化炭素パルス法に基づく金属表面積測定方法で測定された値である。 (もっと読む)


【課題】チタノシリケート含有触媒と併用することにより、酸素、水素及びオレフィンからアルキレンオキサイドを製造するための反応において、結果としてアルキレンオキサイドの高い生成量を与える製造方法を提供すること。
【解決手段】パラジウムと担体とを含むパラジウム含有組成物を、プロピレンと接触させて得られるパラジウム含有触媒と、チタノシリケート含有触媒との存在下において、酸素、水素及びオレフィンを反応させる工程を含むことを特徴とするアルキレンオキサイドの製造方法等。 (もっと読む)


【課題】チタノシリケート含有触媒と併用することにより、酸素、水素及びオレフィンからアルキレンオキサイドを製造するための反応において、結果としてアルキレンオキサイドの高い生成量を与えるような製造方法及びそれに用いられる新たな触媒等を提供すること。
【解決手段】パラジウムと担体とを含むパラジウム含有組成物を、アセチレン、エチレンおよび一酸化炭素からなる群から選ばれる化合物と接触させて得られる、含炭素ガス処理されたパラジウム含有触媒と、チタノシリケート含有触媒との存在下において、酸素、水素及びオレフィンを反応させる工程を含むことを特徴とするアルキレンオキサイドの製造方法、及び、それに用いられる含炭素ガス処理されたパラジウム含有触媒等。 (もっと読む)


【課題】オレフィンオキサイドの生成活性が高いチタノシリケート含有触媒を提供すために必要となる新規な製造方法を見出すこと。
【解決手段】チタノシリケート含有触媒の製造方法であって、(1)格子面間隔表示で下記の位置にピークを有するX線回折パターンを示すチタノシリケート粒子を、その粒子のの体積基準d(0.90)値が1μm以下の範囲を満たすまで、湿式法にて粉砕する工程、及び、(2)前記工程により得られた粉砕物に結合剤を添加し、得られた混合物を顆粒として成形する工程を含むことを特徴とする製造方法等。
<X線回折パターンにおけるピークの格子面間隔表示による位置(格子面間隔d/Å)>
12.4±0.8、10.8±0.5、9.0±0.3、6.0±0.3、3.9±0.3、3.4±0.1 (もっと読む)


【課題】チタン−シリコン分子ふるいの製造方法とその分子ふるいを用いたシクロヘキサノンオキシムの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のチタン−シリコン分子ふるいの製造方法は、チタン源、シリコン源、テンプレート剤及び水を有する混合物を加熱して、ゲル混合物を形成する工程と、次に、水をそのゲル混合物中に混入する工程と、更に、水を混入したゲル混合物に対して水熱処理を行う工程と、シリコンゲルを混有するゲル混合物を焼成する工程と、を含み、その中、チタン源は、下記式(I)の構造を有することを特徴とする。
【化1】


本発明の分子ふるいを触媒として、シクロヘキサノンオキシムの製造に用いた場合、高い転化率と選択率が得られる利点を有する。 (もっと読む)


【課題】プロピレンオキシドを過酸化物を用いなくても高活性かつ高選択的に製造することができ、同時に生成するケトンを原材料として再利用することが可能な効率的な製造方法の提供。
【解決手段】下記の工程(A)〜(D)を行う。工程(A):供給ライン1により触媒としてパラジウム錯体および結晶性チタノシリケートを用い、プロピレン、2級アルコールおよび分子状酸素を接触し、プロピレンオキシドおよびケトンを生成する工程。工程(B):供給ライン2により未反応のプロピレンと分子状酸素を分離する工程。工程(C):供給ライン3によりプロピレンオキシドを分離する工程。工程(D):供給ライン6により工程(C)の後のケトンと分子状水素を水素化触媒の存在下で、2級アルコールに転化し、該2級アルコールを該工程(A)における2級アルコールとして循環する工程。 (もっと読む)


【課題】高い生成量でアルキレンオキサイドを製造可能な貴金属触媒の製造方法を提供する。
【解決手段】貴金属を担持させた炭素材料と、樹脂とを、溶媒中で混合する工程を含む貴金属触媒の製造方法。 (もっと読む)


【課題】高い生成量でアルキレンオキサイドを製造可能な触媒の製造方法を提供する。
【解決手段】下記工程1.、工程2.及び工程3.を含む貴金属触媒の製造方法。工程1.炭素材料と、樹脂とを、溶媒中で混合することにより、混合液を作製する工程;工程2.工程1.で作製した混合液から担体を得る工程;工程3.工程2.で得た担体に貴金属を担持する工程 (もっと読む)


【課題】ケトンとアンモニアとの反応により得られる副生成物の生成を低減し、ケトン、過酸化物及びアンモニアからオキシムを良好な収率で製造すること。
【解決手段】ケトン、過酸化物及びアンモニアからオキシムを製造する方法であって、隔膜の一方の側で過酸化物及びアンモニアを触媒の存在下に反応させ、得られた反応物を隔膜の他方の側でケトンと接触させることを特徴とする。触媒は、隔膜の一方の側の隔膜表面に担持されてなることが好ましい。過酸化物としては、有機過酸化物が好ましい。 (もっと読む)


【課題】ワンポット反応において、生成した過酸化水素が拡散する前にTiサイトに接触できるように、過酸化水素合成に活性なPdサイトと、酸化反応に活性なTiサイトとの位置関係を制御し、過酸化水素の利用効率の向上を図る。
【解決手段】粒状体のコアと、コアを被覆するシェルと、を具備し、コアの表層部は、パラジウムを含み、シェルは、コアからシェルの表面に向かう放射状のメソ細孔を有するチタン含有シリカを含む、コアシェル型触媒。 (もっと読む)


【課題】チタノシリケート重量あたりのオレフィンオキサイドの生成活性を、さらに向上させことが可能なオレフィンオキサイドの製造方法、及び、当該製造方法に用い得るチタノシリケートの製造方法が求められている。
【解決手段】環式アミン及び4級アンモニウム塩からなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物、13族元素を含有する化合物、ケイ素含有化合物、チタン含有化合物、フッ素含有化合物並びに水を混合して懸濁液を得、該懸濁液から固体成分を分離する第1工程と、第1工程で得られた固体成分、酸水溶液及びチタン含有化合物を混合して固液混合物を得、得られた固液混合物から固形物を分離する第2工程と、を含むことを特徴とするチタノシリケートの製造方法、並びに、前記製造方法で得られたチタノシリケートの存在下、オレフィン及び酸化剤を反応させる工程を含むオレフィンオキサイドの製造方法。 (もっと読む)


【課題】高収率でオレフィンとハイドロパーオキサイドからオキシラン化合物を製造することができるチタン含有珪素酸化物成形体の製造方法及びオキシラン化合物の製造方法を提供する。
【解決手段】以下の第一工程、第二工程および第三工程を有するチタン含有珪素酸化物成形体の製造方法。
第一工程:膨潤剤および溶媒を含む溶液に、チタン含有ゼオライト層状前駆体(1)を接触させることによって、膨潤されたチタン含有ゼオライト層状前駆体(2)を得る工程
第二工程:前駆体(2)を加圧して、成形体(3)を得る工程
第三工程:成形体(3)に含まれる膨潤剤を除去する工程 (もっと読む)


【課題】高収率及び高選択的に、オレフィンと有機ハイドロパーオキサイドからオキシラン化合物を製造することができるチタン含有珪素酸化物触媒の製造方法及びオキシラン化合物の製造方法を提供すること。
【解決手段】下記第一工程および下記第二工程を有するチタン含有珪素酸化物触媒の製造方法。
第一工程:トリアルキルシラン化合物と酸とを含む溶液中で、チタン含有ゼオライト層状前駆体を含む固体を処理することによりトリアルキルシリル化を行い、トリアルキルシリル化された固体を得る工程
第二工程:第一工程で得られたトリアルキルシリル化された固体を、焼成に付すること無くシリル化剤で処理することによりチタン含有珪素酸化物触媒を得る工程 (もっと読む)


【課題】 エポキシ化合物を高活性かつ高選択的に製造することができ、溶媒として水性媒体を用い、更に過酸化物を使用しないことから、安全に反応を行うことが可能な、新規なエポキシ化合物の製造法を提供するものである。
【解決手段】 水溶性パラジウム錯体及び結晶性チタノシリケート触媒の存在下、オレフィン、第二級アルコールおよび分子状酸素を水性媒体中で反応するエポキシ化合物の製造法。 (もっと読む)


【課題】プロピレン等のオレフィンと水素と酸素とを長時間、連続的に供給した場合、使用される触媒が有する触媒能力の低下に伴い、アルキレンオキサイドの生成量が徐々に低下する場合があるという問題があった。
【解決手段】触媒の調製方法であり、チタノシリケートと貴金属とを含む触媒と、炭素数1〜12のアルコールとを接触させる工程を含むことを特徴とする方法、並びに、
前記方法により調製された触媒とニトリル化合物の存在下、水素、酸素及びオレフィンを反応させることを特徴とするアルキレンオキサイドの製造方法。 (もっと読む)


糖類の異性化方法について開示する。糖類をフラン誘導体に転換する方法についても開示する。でん粉をフラン誘導体に転換する方法についても開示する。 (もっと読む)


【課題】過酸化水素などの酸化剤と、プロピレンなどのオレフィン化合物とから、優れた収率でオレフィンオキサイドの製造可能な触媒を提供する。
【解決手段】下記に示す値のX線回折パターンを有するチタノシリケートであり、該チタノシリケートの嵩密度は0.05〜0.15g/mlであることを特徴とするチタノシリケート。
X線回折パターン
格子面間隔d/Å(オングストローム)
12.4±0.8
10.8±0.5
9.0±0.3
6.0±0.3
3.9±0.1
3.4±0.1 (もっと読む)


チタン−MWWゼオライトを、チタン化合物、珪素源、硼素源、MWW−構造規定剤、および水から形成されるゲルを、35〜75℃の範囲の温度で8〜30時間の期間にわたって加熱し、予備結晶化ゲルを形成し、そして得られた予備結晶化ゲルを、160℃〜190℃の範囲の温度で5日間以上の期間にわたって加熱し、チタン−MWWゼオライトを形成することにより調製する。ゼオライトを酸に接触させた後、当該ゼオライトは、過酸化水素を用いるオレフィンのエポキシ化に有用である。 (もっと読む)


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