【課題】 脱脂洗浄性に優れるだけでなく、洗浄後の洗浄液中の油分を選択的に除去できるように油水分離性に優れ、かつ洗浄液の耐久性にも優れた、浸漬式金属洗浄用アルカリ洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】 アルカリ剤（Ａ）と、特定の一般式（１）で表されるポリオキシアルキレンアルキルエーテルの少なくとも１種（Ｂ）とを含有する浸漬式金属洗浄用アルカリ洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】硬質表面上の各種の汚れに対し汎用的に用いることができ、ｐＨ変動が小さく、低温での洗浄においてもこれらの汚れに対して安定した溶解性、除去性を示し、特に今まで律速となっていたすすぎ性を大きく改善でき、しかも環境への負荷を低減でき、安全性の高い硬質表面用洗浄剤組成物ならびに該洗浄剤組成物を用いる硬質表面の洗浄方法を提供すること。
【解決手段】〔１〕アルキルグリコシド、グリセリルエーテル、炭化水素および水を含有する硬質表面用洗浄剤組成物、ならびに〔２〕前記〔１〕記載の洗浄剤組成物を用いて硬質表面を洗浄する方法。 （もっと読む）

【課題】メロシアニン誘導体を使用することによる紫外線による劣化に対するボディケア及び家庭用品の安定化を提供すること。
【解決手段】記載されているのは光分解及び酸化的劣化からボディケア及び家庭用品を保護するための特定のメロシアニン誘導体の使用である。
これらの化合物は、優れた紫外線吸収性を示す。 （もっと読む）

【課題】 車両等の被洗浄物に損傷を与えることなく、汚れを短時間で良好かつ簡単に除去することが可能な洗浄方法、及びこの方法に使用可能であり、洗浄力が高く、取り扱いの便利な洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】 水溶性高分子化合物、水難溶化剤及び水を含む洗浄剤組成物を被洗浄物に対して０．１ＭＰａ〜０．５ＭＰａで加圧噴射する洗浄剤噴射工程と、被洗浄物上に施された洗浄剤組成物を乾燥させて洗浄液膜を形成する乾燥工工程と、被洗浄物表面を洗い流すための清浄液を４ＭＰａ〜７ＭＰａで加圧噴射することにより洗浄液膜と被洗浄物上の汚れとを除去する清浄液噴射工程と、を含むことを特徴とする洗浄方法、及びポリビニルアルコール、水難溶化剤、及び水を含むことを特徴とする洗浄剤組成物が得られた。 （もっと読む）

【課題】 銅箔、銅合金箔等の銅又は銅合金を含有する材質を含んで構成される構造物の洗浄において、洗浄後の水濡れ性が高く、且つ銅イオンコンタミや繰り返し使用に対して耐久性の高い洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】 アルカノールアミン、アルカノールアミン以外のアルカリ剤、非イオン性界面活性剤及び水を含有し、全アルカリ剤に対するアルカノールアミンの重量比が特定範囲にある、銅又は銅合金用洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】金属部品類の加工用油の基油組成を加工後における洗浄剤の組成と近づけることにより、良好な加工性及び洗浄性を維持しながら洗浄後の洗浄剤の蒸留回収率を高める。
【解決手段】洗浄剤として少なくとも９０容量％以上の炭素数１０〜１３の飽和炭化水素成分を基油としたものを用いるとともに、これに極圧剤、油性剤、粘度指数向上剤、酸化防止剤、流動点降下剤、さび止め剤のうち、１種または２種以上を添加剤として混合したものを加工用油として用いるようにした。これによりとくに細孔を多く有する構造を持つ焼結金属部品などのような物理的に汚れと洗浄剤が接触し難い複雑な構造を有する部品等の洗浄や、多数の部品等を洗浄籠に入れて密着した条件下で洗うような高い洗浄性が要求される条件下の部品等に対して、良好な加工及び洗浄ができ、しかも洗浄工程管理が容易であるとともに、洗浄剤消費量が少なく、経済性にも優れた加工及び洗浄が可能となる。 （もっと読む）

【課題】化学機械平坦化処理後の、銅を有する半導体ウェハーに該水性洗浄組成物を有効時間接触させることにより、ウェハー表面から残留汚染物を効果的に除去すると共に銅を有する半導体ウェハーの表面粗さを良好なものとする。
【解決手段】本発明は、集積回路プロセシングにおける化学機械平坦化処理後の、銅配線を有するウェハーに使用される水性洗浄組成物に関し、該組成物は０．１〜１５重量％の含窒素複素環有機塩基と、０．１〜３５重量％のアルコールアミンと、水とを含む。 （もっと読む）

【課題】 例えば、アルミニウムやマグネシウム等が蒸着したマスク、液晶ディスプレイ基板、金属ミラー等のように、被洗浄物の洗浄面にダメージを与えることなく平滑的に、しかも、付着金属の除去したい厚さによって洗浄速度をコントロールできる洗浄剤を提供する。
【解決手段】 ＳＣＮ⁻、Ｉ⁻、ＣｌＯ₄⁻、ＮＯ₃⁻およびＢｒ⁻のようなカオトロピックイオンを含有する、ｐＨが１０以上の水溶液からなる洗浄剤。該カオトロピックイオンの濃度が０．１モル／ｌ以上、最も好ましくは０．８〜１．５モル／ｌである場合に特に効果に優れる。 （もっと読む）

アルカリ液中において腐食感受性である表面を洗浄するための組成物であって少なくとも１種のアルカリ源、元素周期表の第２または第３の主族の元素から選択される少なくとも１種のカチオンを含む少なくとも１種の無機塩を含み、これにより組成物がいずれのトリアゾールおよび／またはいずれのアルカリ金属ホウ酸塩も含まない組成物、該組成物を含む水性濃厚物、該組成物または該水性濃厚物を含む使用溶液、ならびに、上記の水性濃厚物または任意の上記の使用溶液を用いて、アルカリ液中において腐食感受性である表面を洗浄する方法である。 （もっと読む）

【課題】 光学部品や電子部品等の製造において、仮固定に用いるワックスを除去するために使用する洗浄剤であって、環境問題や人体への影響が懸念される塩素系溶剤、フロン系溶剤、芳香族系溶剤を使用することなく、ワックスに対して高い洗浄力を有する洗浄剤用組成物を提供する。
【解決手段】
例えば、２０質量%以上のε−カプロラクトン等の特定の環状化合物を含み、必要に応じて他の有機溶媒や界面活性剤を含有する洗浄剤を使用する。 （もっと読む）

本発明は、ワークピースの、詳細にはストリップ又はシートの、更に詳細にはアルミニウム合金からなるリソストリップ又はリソシートの表面のコンディショニング方法に関する。ワークピースの表面をコンディショニングする方法と、電気化学グレーニングの製造速度を向上させること同時に、ワークピースの電気化学グレーニングされた表面の高品質を維持する、アルミニウム合金からなるワークピースとを提供する目的は、ワークピースの表面を脱脂媒質によって脱脂する工程と、そして、続いて、ワークピースの表面をピックリングにより洗浄する工程との少なくとも２つの工程を含むコンディショニング方法によって解決される。
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本発明は、マイクロエレクトロニクス基板を洗浄するための洗浄組成物を提供し、これは、本質的に完全にかかる基板を洗浄し、金属腐食を防止し、または本質的にそのような基板の金属元素の腐食をもたらさず、先行技術のアルカリ含有洗浄組成物で必要とされる洗浄時間と比較して、比較的短い洗浄時間および比較的低い温度でこれらを行うことができる。本発明は、マイクロエレクトロニクス基板を洗浄するための、マイクロエレクトロニクス基板の金属元素の有意な腐食をもたらさない、そのような洗浄組成物の使用方法も提供する。本発明の洗浄組成物は、（ａ）少なくとも１種の有機溶媒、（ｂ）少なくとも１種の中和されていない無機リン含有酸、および（ｃ）水を含む。本発明の洗浄組成物には、場合により、例えば界面活性剤、金属錯体化またはキレート化剤、腐食阻害剤などの他の成分が組成物中に存在してもよい。本発明の洗浄組成物は、無機リン含有酸成分を中和する有機アミン類、ヒドロキシルアミン類またはアンモニウム塩基などの他の強塩基が存在しないことを特徴とする。本発明の洗浄および残渣除去組成物は、アルミニウム、チタンおよびタングステンを含有するマイクロエレクトロニクスの基板の洗浄に特に適する。 （もっと読む）

本発明は、金属性材料及び繊維性材料から選択される人体以外の材料を、少なくとも1つのジアンヒドロヘキシトールエーテル（化合物A）を含む組成物と接触させる表面処理方法に関する。前記ジアンヒドロヘキシトールエーテルを、可溶化剤、酸性剤、及びアルカリ剤の中から選択される化合物Bと連結させることができる。表面処理を施される繊維性材料は、以下の材料、特にすなわち：木材材料、植物材料、紙材料、及び織物材料から選択される。 （もっと読む）

【課題】 ベンゼン、トルエン、キシレン、１，３，５−トリメチルベンゼン及びナフタレンを実質的に含まず、人体に対して安全性が高く、しかも溶解性に優れている芳香族系溶剤を提供することを課題とする。
【解決手段】 １，２，４−トリメチルベンゼンと１，２，３−トリメチルベンゼンの合計が１０〜３０容量％で、炭素数１０の芳香族分（ＡＣ１０）を６０容量％以上、かつ１，３，５−トリメチルベンゼンが１容量％未満で、ナフタレンが０．１容量％未満であり、ベンゼン、トルエン、及びキシレンが０．０１容量％未満である高沸点芳香族炭化水素溶剤である。 （もっと読む）

洗浄処方物、方法、およびシステムは有効で、温和で、無害である。該洗浄処方物の実施形態は、脂肪酸、鹸化剤、水質調節剤、溶媒、非イオン性界面活性剤、およびアニオン性界面活性剤を含む。一部の実施形態はまた、場合によって、添加剤を含む。実施形態は、コンクリートを洗浄するのに特に有効である。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、窒素含有量の高い窒素化合物を使用せず、且つ汚れとのなじみが良く優れた洗浄力を持ち、人間や自然に対して安全性の高い硬質洗浄剤組成物を提供することにある。
【解決手段】本発明の硬質表面洗浄剤組成物は、窒素含量が０．１〜３質量％であるポリエーテルアミン化合物（Ａ）と、水溶性のポリエーテル系溶剤（Ｂ）を含有することを特徴とする。 （もっと読む）

本発明のフォトレジスト剥離剤および洗浄組成物は、電子デバイスの表面の異なるタイプの金属の重層構造に使用したときに電気化学的腐食に耐性である、非水性かつ非腐食性の洗浄組成物により提供される。そのような非水性フォトレジスト剥離剤および洗浄組成物は、（ａ）少なくとも１種の極性有機溶媒、（ｂ）少なくとも１個の第一級アミン基および１個またはそれ以上の第二級および／または第三級アミン基の両方を有し、下式［式中、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_４およびＲ_５は、Ｈ、ＯＨ、ヒドロキシアルキルおよびアミノアルキル基から独立して選択されてよく；Ｒ_６およびＲ_７は、各々独立してＨまたはアルキル基であり、ｍおよびｎは、各々独立して１またはそれ以上の整数であり、但し、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_４およびＲ_５は、少なくとも１個の第一級アミン基および少なくとも１個の第二級または第三級アミン基が化合物中に存在するように選択される］を有する少なくとも１種のジまたはポリアミン、および、（ｃ）８−ヒドロキシキノリンおよびその異性体、ベンゾトリアゾール、カテコール、単糖、並びに、マンニトール、ソルビトール、アラビトール、キシリトール、エリスリトール、アルカンジオールおよびシクロアルカンジオールから選択される多価アルコールから選択される少なくとも１種の腐食阻害剤を含む。
【化１】

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【課題】環境負荷を低減する代替溶媒技術を提供する。
【解決手段】一般式（1A）〜(1C)：
Ｒｆ−Ｘ−Ｒｈ (1A)
Ｒｈ−Ｘ−Ｒｆ^１−Ｘ−Ｒｈ (1B)
Ｒｆ−Ｘ−Ｒｈ^１−Ｘ−Ｒｆ (1C)
（ここでRfは一価のペルフルオロポリエーテル基を表し、Xは結合基であり、Rhはエーテル性酸素原子を有することのある一価の炭化水素基を表す。Rf¹は二価のペルフルオロポリエーテル基を表し、Rh¹はエーテル性酸素原子を有することのある二価の炭化水素基を表す。Rｆ、Rf¹、RｆまたはRf¹とXの間には、フッ素化されていてもよい直鎖又は分枝を有するアルキレン基を有してもよい。）で表される洗浄、乾燥剤。 （もっと読む）

【課題】 半導体製造装置等の電気部品の接点不良を起こしてしまう危険がなく、また有機則や環境法令を遵守することができ、とくに金属鏡面を手拭き掃除する場合に汚れ残りがなく、乾きやすく、環境にやさしい手拭き溶剤を提供する。
【解決手段】 金属鏡面を拭き取るための拭取り溶剤が、エタノールとシクロヘキサンの混合液からなる。とくにエタノールとシクロヘキサンの混合比を重量モル比で４．５：５．５と５．５：４．５との間の割合にする。 （もっと読む）

【課題】アルミニウム・亜鉛合金などのダイカストメーカーにおいてダイカスト金型、および押出しピンなど付帯部品に溶着した合金類を溶解、除去するために用いられる洗浄剤の提供。
【解決手段】苛性ソーダ、苛性カリのいずれか、あるいはいずれもを総量で0.1％以上含有する水溶液剤に、植物性増粘材、動物性増粘材、膨潤性鉱物、吸水性ポリマーの少なくとも1種を0.1％以上添加する。
【効果】粘性が付与されることから被処理物への付着性、付着量が増加して溶着物の溶解・洗浄能の増進をもたらし、塗付処理後にウエス拭き取りのみで再使用できる。 （もっと読む）