【課題】硬質表面に付着した血液汚れを常温でしかも短時間で除去可能な、医療器具用の洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】（ａ）下記一般式（ａ１）で表されるポリオキシエチレン−ポリオキシプロピレンブロックポリマーの１種以上 ０．５〜２０重量％
ＨＯ−（ＥＯ）ｘ−（ＰＯ）ｙ−（ＥＯ）ｚ−Ｈ （ａ１）
（ｂ）下記一般式（ｂ１）で表されるポリオキシアルキレンアルキルエーテルの１種以上 ０．５〜２０重量％
Ｒ¹−Ｏ−〔（ＥＯ）ｓ−（ＰＯ）ｔ〕−（ＥＯ）ｕ−Ｒ² （ｂ１）
（ｃ）アルカノールアミン類 １〜２０重量％、及び
（ｄ）アルカリ金属の水酸化物及びアルカリ金属の珪酸塩から選ばれる一種以上の無機アルカリ剤 １〜１５重量％
を含有し、（ａ）と（ｂ）の重量比（ｂ）／（ａ）が０．２〜５であり、（ｃ）と（ｄ）の重量比（ｄ）／（ｃ）が０．１５〜５である医療器具用洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】重大な金属腐食を伴わずにマイクロエレクトロニクスのデバイスを洗浄するのに有用であり、ＩＬＤに適合する洗浄製剤を提供する。
【解決手段】（ａ）アルファ−ヒドロキシカルボニル化合物のアミンまたはアンモニウム化合物とのオリゴマー型またはポリマー型結合体である、少なくとも１種の「黄変」または「褐変」アルファ−ヒドロキシカルボニル化合物、（ｂ）少なくとも１種の遊離アミン、および、（ｃ）少なくとも１種の有機溶媒または少なくとも１種の有機溶媒および水を含有する、フッ化物不含の有機溶媒をベースとする洗浄製剤を提供する。かかる製剤は、（ｄ）ｐＨ７以上、好ましくはｐＨ約９.５ないし約１０.８の最終生成物を産生するのに十分な量の、少なくとも１種の金属イオン不含塩基、および、（ｅ）多価アルコール、（ｆ）金属キレート化剤および（ｇ）界面活性剤を含む他の任意成分も含み得る。 （もっと読む）

【課題】 靴下汚れの洗浄性が良い液体洗剤組成物の提供。
【解決手段】 下記（ａ）〜（ｅ）成分を含有する液体洗剤組成物。
（ａ）下記一般式（Ｉ）で示される化合物を（ａ）成分中６〜１５質量％含有する非イオン界面活性剤 １０〜５０質量％
Ｒ−Ｏ（ＡＯ）_ｎＨ （Ｉ）
［式中、Ｒは炭素数８〜２２の炭化水素基であり、ＡＯは炭素数２〜４のオキシアルキレン基であり、ｎは０，１及び２から選ばれる数である］、
（ｂ）平均炭素数８〜２０の脂肪酸０．５〜１０質量％、（ｃ）キレート剤０．５〜５質量％、（ｄ）酵素、（ｅ）酵素安定化剤 （もっと読む）

【課題】重大な金属腐食を伴わずにマイクロエレクトロニクスのデバイスを洗浄するのに有用であり、ＩＬＤに適合する洗浄製剤を提供する。
【解決手段】（ａ）フッ化物イオンを提供する少なくとも１種のフッ化物化合物、（ｂ）アルファ−ヒドロキシカルボニル化合物のアミンまたはアンモニウム化合物とのオリゴマー型またはポリマー型結合体である少なくとも１種の「褐変」アルファ−ヒドロキシカルボニル化合物、および（ｃ）水を含有する、半水性洗浄製剤を提供する。かかる製剤は、（ｄ）少なくとも１種の極性、水混和性有機溶媒、（ｅ）ｐＨ７以上、好ましくはｐＨ約９.５ないし約１０.８の最終組成物を産生するのに十分な量の、少なくとも１種の金属イオン不含塩基、および、１種またはそれ以上の（ｆ）多価アルコール、および（ｇ）界面活性剤を含む他の任意成分も含み得る。 （もっと読む）

【課題】油類によって汚染された土壌、特に重油等の石油系化合物、中でもＣ重油に汚染された土壌を効果的に洗浄することのできる、優れた土壌浄化剤組成物を提供すること。
【解決手段】（Ａ１）下記一般式（１）で表される化合物、及び、下記一般式（２）で表される化合物の少なくともいずれかと、（Ｂ）有機アミン化合物を含有することを特徴とする土壌浄化剤組成物である。
Ｒ^１−Ｏ−（ＡＯ）_ｎ−Ｈ （１）
Ｒ^２−ＣＯ−（ＡＯ）_ｎ−Ｏ−Ｒ^３ （２）
ただし、前記一般式（１）及び前記一般式（２）中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ炭素数８〜１６の直鎖又は分岐のアルキル基を示し、Ｒ^３は炭素数１〜８の直鎖又は分岐のアルキル基を示し、ＡＯは炭素数２〜４のオキシアルキレン基を示し、ｎはＡＯの平均付加モル数であって、２〜８の数を示す。 （もっと読む）

【課題】優れた防食性を有するレジスト剥離剤を提供する。
【解決手段】下記式（Ａ）又は（Ｂ）で表される化合物。
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【課題】噴霧乾燥法により粉末洗剤組成物を製造するのに好適なα−スルホ脂肪酸アルキルエステル塩含有ペーストを、α−ＳＦ濃縮物から製造する方法を提供すること。
【解決手段】水分23〜32%のα−スルホ脂肪酸アルキルエステル塩含有ペーストの製造方法であって、
（1）(a)水分6%以下のα-スルホ脂肪酸アルキルエステル塩濃縮物と、
(b)水分23〜32%のα-スルホ脂肪酸アルキルエステル塩含有ペースト及び／又は(c)水とを混合して、（d）水分8〜16%の混合物を得る工程、及び
（2）前記工程（1）で得られた（d）混合物と（e）水とを混合して（f）水分23〜32%のα−スルホ脂肪酸アルキルエステル塩含有ペーストを得る工程、
を含む前記製造方法。 （もっと読む）

本発明は、残渣、特に有機金属または金属酸化物残渣をそこに有するハードディスクデータ記憶装置、インクジェットプリンタカートリッジヘッド等を、その残渣を除去するための十分な時間と温度で本発明の洗浄用組成物と接触させてその残渣を除去することによって洗浄するための組成物および方法に関する。当技術分野で公知の、撹拌、かき混ぜ、循環、超音波処理またはその他の技術を適宜使用することができる。殆どの場合、ハードディスクデータ記憶装置、インクジェットプリンタカートリッジヘッド等を洗浄用組成物中に浸す。その時間と温度は、基板から除去する特定の材料に基づいて決定することができる。ハードディスクデータ記憶装置、インクジェットプリンタカートリッジヘッド等は、該組成物を使用した後、すすぐことができ、または、Ａｌ₂Ｏ₃ではそのようなすすぎは必要ないのですすがなくてもよい。すすぎ液は、イソプロパノールおよび／または脱イオン水を含む。
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【課題】金属（特にアルミニウムおよびモリブデン）の腐食を抑えつつ、優れた洗浄性を有するポリイミド用剥離剤を提供する。
【解決の手段】水、アルカリ剤［Ｂ］、多価アルコールを除く水溶性有機溶剤［Ｃ］、多価アルコール［Ｄ］、下記一般式（１）で表わされるシラン系化合物［Ａ］を含有し、前記［Ｃ］成分の含有量が３０〜９５重量％であるポリイミド用剥離剤。
[（Ｘ_２Ｎ−（ＣＨ_２）_ｌ−）_ｍＮＨ_２−ｍ−（ＣＨ_２）_ｋ−]_ｎＳｉ（ＯＲ）_４−ｎ （１）
［但し、式中ｋ、ｌは１〜４の整数、ｍは０〜２の整数、ｎは１〜３の整数を表す。Ｒは水素又は炭素数１〜４のアルキル基、Ｘは水素又は炭素１〜４のアルキル基である。］ （もっと読む）

【課題】ｐＨ９以下でありながら優れた洗浄力を有し、組成物の保存安定性に優れる洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）アルカノールアミン１０〜５０質量％、（Ｂ）アミノカルボン酸及びヒドロキシカルボン酸より選ばれる酸の１種又は２種以上１〜３０質量％、及び（Ｃ）有機ホスホン酸０．１〜３０質量％を配合してなり、（Ａ）成分と（Ｂ）及び（Ｃ）成分との中和後の未反応アルカノールアミンが０．１質量％以上であるｐＨ７〜９の洗浄剤組成物。 （もっと読む）

（ａ）１以上の金属イオンを含まない塩基；（ｂ）水溶性の金属イオンを含まない多面体シルセスキオキサン；（ｃ）酸化剤；および（ｄ）金属イオンを含まない水を含む、集積回路基板から粒子状物質を除去するための組成物、ならびに（ａ）、（ｂ）、（ｃ）および（ｄ）を含む成分を組み合わせることよって得られる組成物。（ａ）、（ｂ）、（ｃ）および（ｄ）を含む組成物を表面に付与する工程、または（ａ）、（ｂ）、（ｃ）および（ｄ）を含む成分を組み合わせることによって得られる組成物を表面に付与する工程を含む、集積回路デバイスの表面から粒子状物質を除去するための方法。 （もっと読む）

【課題】発泡性に優れ、耐熱性芽胞形成菌に対する殺菌効果及び有機物汚れ除去効果を有すると共に、アルミニウムに対する侵食を防止する殺菌洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）ポリヘキサメチレングアニジン塩０．１〜５質量％、
（ｂ）珪酸塩０．５〜３質量％、
（ｃ）炭素数１２〜２４の第２級アルコールに炭素数２〜４のアルキレンオキシド５〜７モルが付加された第２級アルコールアルキレンオキシド付加物１〜１０質量％、及び
（ｄ）炭素数６〜８の第１級アルコールに炭素数２〜４のアルキレンオキシド４〜２０モルが付加された第１級アルコールアルキレンオキシド付加物１〜１０質量％
を含有する殺菌洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】半導体の基板から有機及び無機のポストエッチ残渣ならびにポリマー残渣及び汚染物質を除去するために使用される水性組成物を提供すること。
【解決手段】組成物が、水溶性有機溶媒、スルホン酸及び水から構成される。 （もっと読む）

２０〜５０ポリエチレンオキシド単位を含む内側ポリエチレンオキシドブロックと、１０〜５０ポリエチレンオキシド単位を含む外側ポリプロピレンオキシドブロックとを有する両親媒性水溶性アルコキシル化ポリアルキレンイミンポリマーを含む、洗濯洗剤及び洗浄組成物であって、特にこのようなアルコキシル化ポリアルキレンイミンに関して、ポリエチレンオキシド単位とポリプロピレンオキシド単位との比が、主鎖内に存在するポリアルキレンイミン単位の数の平方根に比例的に関係する、洗濯洗剤及び洗浄組成物。 （もっと読む）

【課題】各種汚れ、特に変性油汚れに対して高い洗浄力を発揮できるアルカリ性の液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）両性界面活性剤及び／又は非イオン性界面活性剤、（ｂ）アルカリ剤、（ｃ）特定の構成単位（ｃ１）、（ｃ２）を含む水溶性高分子化合物、並びに水を、それぞれ特定範囲で含有する、ｐＨ１０以上（２５℃）の液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】鉄系金属および非鉄系金属を同じ洗浄ラインで洗浄処理することができ、水のすすぎが不必要で、防錆・防食を目的とした薬剤を別途配合することなく使用することができ、且つ、安全性・環境適合性の良い金属洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】次の成分（ａ）〜（ｇ）を含有するものとする；（ａ）炭素数１０〜１２のジカルボン酸 １〜２０重量％、（ｂ）アミノアルコール系アミン １〜１５重量％、（ｃ）脂環式アミンのエチレンオキサイド付加物 １〜２０重量％、（ｄ）金属イオン封鎖剤（キレート剤） ０．１〜５重量％、（ｅ）エーテル型非イオン界面活性剤 ０．１〜１０重量％、（ｆ）グリコールエーテル ５〜５０％、（ｇ）水 ５重量％以上。 （もっと読む）

本発明は、固体清浄組成物の製造方法に関する。上記方法は、蝋質清浄組成物の流動性蝋質粒子を加圧及び／又は振動することを含むことができる。蝋質清浄組成物において、流動性蝋質粒子を加圧及び／又は振動することにより、上記固体の形状及び密度が決定されるが、固体を形成することは要求されない。上記方法は、加圧及び／又は振動のためのコンクリートブロック装置を用いることができる。本発明はまた、上記方法により製造された固体清浄組成物、及び結合剤により共に結合された粒子を含む固体清浄組成物に関する。
（もっと読む）

【課題】 磁気ディスク基板表面の平坦性を損ねることなく、適度にコントロールされたエッチング性を付与することで、強固に付着した微小なパーティクルを基板表面から脱離させ、更に界面活性剤を用いて脱離したパーティクルを洗浄剤中に安定に分散させることで、優れたパーティクルの除去性を実現し、製造時における歩留まり率の向上や短時間で洗浄が可能となる極めて効率的な高度洗浄を可能にする磁気ディスク用ガラス基板洗浄剤を提供することにある。
【解決手段】 界面活性剤（Ａ）を含有してなる磁気ディスク用ガラス基板洗浄剤であって、洗浄液として使用される場合の有効成分濃度における２５℃でのｐＨが５未満であり、ｐＨ及び同濃度における２５℃での酸化還元電位（Ｖ）［単位はｍＶ、ｖｓＳＨＥ］が下記数式（１）を満たすことを特徴とする磁気ディスク用ガラス基板洗浄剤。
Ｖ ≦ −３８．７×ｐＨ＋５５０ （１） （もっと読む）

【課題】本発明は、被研磨基板を、シリカ微粒子を含有する研磨液組成物で研磨した後、水で濯いで得られる被洗浄基板に対して好適に用いられ、優れた洗浄性を呈するハードディスク用基板用の洗浄剤組成物、およびそれを用いたＨＤ用基板の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のＨＤ用基板用の洗浄剤組成物は、下記式（１）で表される非イオン性界面活性剤、水溶性アミン化合物、及び水を含有する。Ｒ¹は、炭素数８〜１８のアルキル基，炭素数８〜１８のアルケニル基，炭素数８〜１８のアシル基、又は炭素数１４〜１８のアルキルフェニル基であり、ＥＯはオキシエチレン基、ＰＯはオキシプロピレン基、ｍ及びｎはそれぞれＥＯ及びＰＯの平均付加モル数であり、ｍ＝１〜２０，ｎ＝０〜２０を表す数であり、ＥＯとＰＯの配列はブロックでもランダムでもよい。
Ｒ¹−Ｏ−（ＥＯ）ｍ（ＰＯ）ｎ−Ｈ （１） （もっと読む）

【課題】 磁気ディスク基板表面の平坦性を損ねることなく適度なエッチング性を付与し、また界面活性剤を用いて基板表面から脱離したパーティクルの分散性を高めることで、優れたパーティクルの除去性を実現し、これにより、製造時における歩留まり率の向上や短時間で洗浄が可能となる極めて効率的な高度洗浄を可能にする磁気ディスク用基板洗浄剤を提供する。
【解決手段】 界面活性剤（Ａ）を含有してなる磁気ディスク基板用洗浄剤であって、洗浄液として使用される場合の有効成分濃度における２５℃でのｐＨが５〜１３であり、ｐＨ及び同濃度における２５℃での酸化還元電位（Ｖ）［単位はｍＶ、ｖｓＳＨＥ］が下記数式（１）を満たすことを特徴とする磁気ディスク基板用洗浄剤。
Ｖ ≦ −３８．７×ｐＨ＋５５０ （１） （もっと読む）