【課題】従来から知られるレジスト組成物では、レジストパターン製造時のフォーカスマージン（ＤＯＦ）が必ずしも十分ではない場合があった。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩と、アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液に溶解し得る樹脂とを含有するレジスト組成物。


［式（Ｉ）中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。Ｌ^１は炭素数２〜１７の２価の脂肪族飽和炭化水素基を表し、該２価の脂肪族飽和炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。但し、該２価の脂肪族飽和炭化水素基を構成するメチレン基のうち、環Ｗと結合するメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わらない。環Ｗは、炭素数２〜３６の複素環を表す。Ｚ^＋は、有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】反射防止膜としての機能を有するとともに、パターン転写性能及びエッチング耐性に優れ、微細化したパターンの転写時においてもパターンが曲がらないレジスト下層膜形成方法及びそれに用いるレジスト下層膜用組成物並びにパターン形成方法を提供することである。
【解決手段】本レジスト下層膜形成方法は、レジスト下層膜用組成物（例えば、フェノール性水酸基を有する化合物、溶剤及び促進剤を含有する組成物等）を被加工基板に塗布する塗布工程と、得られた塗膜を、酸素濃度が１容量％以上、且つ温度が３００℃以上の酸化性雰囲気下において成膜させる成膜工程と、を備えるものである。 （もっと読む）

【課題】式（Ｉ）で表される化合物を含む加硫ゴムの粘弾性特性を改善することが求められていた。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物からなり、メディアン径が１００μｍ以下である粒子と、シリカ、タルク及びクレイからなる群から選ばれる１以上からなり、メディアン径が１００μｍ以下である粒子とを含む組成物。（式（Ｉ）中、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表すか、或いは、Ｒ^１とＲ^２とが互いに結合して、それらが結合している窒素原子とともに環を形成する。ｍは、２〜９の整数を表す。Ｍ^ｎ＋は、Ｈ^＋又はｎ価の金属イオンを表す。ｎは、１又は２の整数を表す。）
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【課題】電子デバイスおよび該電子デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】式（ＩＩＩ）のトリアリールアミン化合物の少なくとも１つ、このような化合物を含む組成物、並びに、これらの混合物を含有する少なくとも１つの層を含む電子デバイスおよび該電子デバイスの製造方法に関する。
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【課題】有機薄膜トランジスタの長期的な信頼性を向上させることのできる有機保護膜組成物を提供する。
【解決手段】下記の一般式１および一般式２の構造単位を含むオリゴマーまたはポリマーと、架橋剤と、を含む。


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【課題】特に紫外線及び可視光線を使用する放射線硬化性組成物のための新規光開始剤及びそれらの混合物、それらの調製のための中間体、及び中間体からの開始剤の調製方法を提供する。
【解決手段】式Ｉ及びＩＩ：


で示される新規ケトン系開始剤を用いる。 （もっと読む）

【課題】滑り性、耐突刺し性及び表面光沢に優れた、少なくとも表層及び回収層を備える樹脂製多層容器を提供すること。
【解決手段】表層及び回収層、好ましくは更にバリア層及び／または接着層を備え、該回収層が、（Ａ）低密度ポリエチレン、（Ｂ）高密度ポリエチレン、（Ｃ）メタロセン触媒を用いて得られたエチレン系ポリオレフィン、及び（Ｄ）不飽和cis構造炭素二重結合を有する脂肪酸アミドを含有する樹脂製多層容器であり、（Ｄ）は、好ましくは、（Ｄ_１）Ｈ_２Ｎ−ＣＯ−(−ＣＨ_２−)_ｎ−ＣＨ＝ＣＨ−(−ＣＨ_２−)_ｎ−ＣＨ_３；（Ｄ_２）Ｈ_２Ｎ−ＣＯ−(−ＣＨ_２−)_ｍ−２−ＣＨ＝ＣＨ−(−ＣＨ_２−)_ｍ−ＣＨ_３；または（Ｄ_３）Ｈ_２Ｎ−ＣＯ−(−ＣＨ_２−)_ｋ＋４−ＣＨ＝ＣＨ−(−ＣＨ_２−)_ｋ−ＣＨ_３の式（ｍ、ｎ及びｋは、６〜１０の整数）。 （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージン（ＤＯＦ）でレジストパターンを製造することができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基；Ｌ^１は、＊^１−ＣＯ−Ｏ−、＊^１−ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｌ−ＣＯ−Ｏ−、＊^１−ＣＨ_２−Ｏ−ＣＯ−又は＊^１−ＣＯ−Ｏ−（ＣＨ_２）_ｌ−Ｏ−ＣＯ−（＊^１は、−Ｃ（Ｑ^１）（Ｑ^２）−の炭素原子との結合手を表し、ｌは１〜６の整数を表す）；ｍは０〜２の整数を表し、ｎは１〜１２の整数を表し、ｏは０又は１を表す；Ｒ^１は、水素原子、フッ素原子又はヒドロキシ基を表す。）；Ｚ１^＋は、有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】レジストパターンの製造時において優れたフォーカスマージン（ＤＯＦ）でレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】（Ａ）アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂、（Ｂ）式（ＩＩ）で表される酸発生剤及び（Ｄ）式（Ｉ）で表される化合物を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ炭化水素基、アルコキシ基、アシル基、アシルオキシ基等；ｍ及びｎはそれぞれ０〜４の整数；Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基；Ｌ^１は、＊−ＣＯ−Ｏ−Ｌ^ａ−又は＊−ＣＨ_２−Ｏ−Ｌ^ｂ−、＊は−Ｃ（Ｑ^１）（Ｑ^２）−との結合手、Ｌ^ａ及びＬ^ｂは互いに２価の飽和炭化水素基；環Ｗ^１は複素環；Ｚ^＋は有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】従来の酸発生剤を含むレジスト組成物では、得られるレジストパターンのラインエッジラフネス（ＬＥＲ）が必ずしも十分に満足できない場合があった。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式（Ｉ）中、
Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立に、炭素数１〜６のアルキル基を表すか、又は、Ｒ^１及びＲ^２は互いに結合し、それらが結合している炭素原子とともに炭素数５〜２０の脂肪族環を形成する。
Ｒ^３及びＲ^４は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。
Ｘ^１は、２価の炭素数１〜１７の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよく、該飽和炭化水素基を構成する−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい。
Ｚ^１＋は、有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】化合物の製造方法、および新規化合物の提供。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される化合物（Ｉ）と、下記一般式（ＩＩ）で表される化合物（ＩＩ）とを反応させることを特徴とする下記一般式（ｂ１−１）で表される化合物（Ｂ１）の製造方法。［下記式中、Ｘは二価の連結基又は単結合であり；Ｒは水素原子、フッ素原子、アルキル基又はフッ素化アルキル基であり；Ｒ’は脂肪族基であり；ｎは１〜１０の整数であり；Ｍ^＋は、アルカリ金属イオンである。Ａ^＋は有機カチオンであり、Ｚ⁻は臭素イオン、塩素イオン、化合物（Ｉ）よりも酸性度が低い酸になりうるイオン、ＢＦ_４⁻、ＡｓＦ_６⁻、ＳｂＦ_６⁻、ＰＦ_６⁻またはＣｌＯ_４⁻である。］
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【課題】優れたフォーカスマージンを有するパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（ＩＡ）で表されるアニオンを有するヨードニウム塩と、酸に不安定な基を有し、かつアルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得るアクリル樹脂と、酸発生剤とを含むレジスト組成物。［式（ＩＡ）中、Ｒ^１は、水素原子、炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の脂環式炭化水素基、炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基又は炭素数７〜２１のアラルキル基を表す。Ｒ^２は、炭素数７〜１２の脂肪族炭化水素基、炭素数７〜２０の脂環式炭化水素基、炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基又は炭素数７〜２１のアラルキル基を表す。Ｒ^１及びＲ^２は互いに結合してＮとともに炭素数４〜２０の環を形成してもよい。］
（もっと読む）

【課題】ラインエッジラフネス、パターン形状、液浸液追随性及びドライエッジング耐性のいずれにも優れる感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（Ｉ−１）又は（Ｉ−２）で表される繰り返し単位を含有する樹脂、及び（Ｃ）アセトニトリル溶媒中で測定した波長１９３ｎｍにおけるモル吸光係数εが、トリフェニルスルホニウムノナフルオロブタンスルホネートに対する相対比で０．８以下である放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感放射線性樹脂組成物。


上記一般式（Ｉ−１）及び（Ｉ−２）中、ＡＲ_１及びＡＲ_２は、芳香族基を表す。Ｒ_１は、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基を表す。Ａ_１及びＡ_２は、各々独立に、水素原子、アルキル基、ハロゲン原子、シアノ基又はアルキルオキシカルボニル基を表す。ＺはＣ−ＡＲ_２とともに環を形成する連結基を表す。 （もっと読む）

【課題】 照射した光を減衰又は遮蔽する着色剤等の物質が高濃度で存在する場合や厚い膜厚の場合でも少エネルギー量で硬化可能な感光性組成物を提供する。
【解決手段】 下記（１）〜（３）を含有する感光性組成物であって、ラジカル開始剤（Ａ）、酸発生剤（Ｂ）及び塩基発生剤（Ｃ）の内の少なくとも１つが活性光線の照射により活性種（Ｈ）を発生し、該活性種（Ｈ）がラジカル開始剤（Ａ）、酸発生剤（Ｂ）又は塩基発生剤（Ｃ）と反応して新たな活性種（Ｉ）を生成して該新たな活性種（Ｉ）による重合性物質（Ｄ）の重合反応が進行し、該活性種（Ｈ）又は（Ｉ）が酸又は塩基であり、前記重合反応と並行して塩基発生剤（Ｃ）に活性光線を照射することにより発生した塩基により重合性物質（Ｄ）の重合反応が進行する感光性組成物。
（１）ラジカル開始剤（Ａ）、又はラジカル開始剤（Ａ）及び酸発生剤（Ｂ）
（２）塩基発生剤（Ｃ）
（３）重合性物質（Ｄ） （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージンを有するレジストパターンを得ることができる塩、酸発生剤及びレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基を表す；Ｌ^１は、２価の飽和炭化水素基を表し、該飽和炭化水素基を構成しているメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい；ｓは０〜３の整数；Ｒ^１は、ｓが１の場合アルキル基を表し、ｓが２又は３の場合互いに独立してアルキル基を表すか、あるいは同一の炭素元素に結合する２つのＲ^１が該炭素原子とともにカルボニル基を形成してもよく、前記アルキル基を構成しているメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい；Ｚ^＋は、有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】タイヤ製造に用いられる加硫ゴムが有する粘弾性特性を改善させるための添加剤が求められていた。
【解決手段】式（Ｉ）で示されるチオスルホナート化合物。


［式（Ｉ）中、Ｒ^１は炭素数１〜１２のアルカンジイル基を表し、Ｒ^２は置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６〜１０のアリール基を表し、ｎは１又は２を表す。］ （もっと読む）

【課題】タイヤ製造に用いられる加硫ゴムが有する粘弾性特性を改善させるための添加剤が求められていた。
【解決手段】式（Ｉ）で示されるチオ硫酸化合物又はその塩、及び、これとゴム成分と充填剤とを混練して得られるゴム組成物。


［式（Ｉ）中、Ｒ_１およびＲ_２は、互いに独立して炭素数１〜１０のアルカンジイル基を表す。］
塩としては、アルカリ金属塩が好ましく、ナトリウム塩がより好ましい。かかるゴム組成物を用いて、空気入りタイヤが得られる。 （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージン（ＤＯＦ）を有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式中、Ｑ^１及びＱ^２はフッ素原子又はペルフルオロアルキル基；Ｌ^１及びＬ^２は２価の飽和炭化水素基、該基に含まれるメチレン基は酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい；環Ｗは２価の脂肪族環を表し、該環に含まれるメチレン基は、酸素原子等で置き換わっていてもよく、該環に含まれる水素原子はヒドロキシ基、アルキル基、アルコキシ基等で置換されていてもよい；Ｒ^１は脂肪族炭化水素基、該基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい；Ｒ^２は水素原子、アルキル基等を表す；ｓは０〜３の整数；ｔは０〜２の整数；Ｚ^＋は有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】本発明は、フォトリソグラフィー法を適用した場合に、ばらつきの少ない、三次元形状の再現性に優れた感光性ネガ型樹脂組成物を提供することを目的の一つとする。
【解決手段】本発明は、（ａ）エポキシ基を有する化合物と、（ｂ）（ｂ１）で表わされるカチオン部構造および（ｂ２）で表されるアニオン部構造を含有する第１のオニウム塩と、（ｃ）（ｃ１）で表わされるカチオン部構造および（ｃ２）で表されるアニオン部構造を含有する第２のオニウム塩と、を含むことを特徴とする感光性ネガ型樹脂組成物である。 （もっと読む）

【課題】従来のレジスト組成物では、得られるレジストパターンのラインウィズスラフネス（ＬＷＲ）が必ずしも満足できない場合があった。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式（Ｉ）中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。Ｘ^１は、２価の炭素数１〜１７の飽和炭化水素基を表し、前記２価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子はフッ素原子で置換されていてもよく、前記２価の飽和炭化水素基に含まれるメチレン基は酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい。Ｒ^１は、炭素数１〜２０の炭化水素基を表し、該炭化水素基に含まれる水素原子はヒドロキシ基、シアノ基又はニトロ基で置換されていてもよく、該炭化水素基に含まれるメチレン基は酸素原子又はカルボニル基に置き換わっていてもよい。Ｚ^１＋は、有機カチオンを表す。］ （もっと読む）