【課題】高感度、高解像度であり、溶媒への溶解性も高いフォトレジスト材料を提供する。
【解決手段】下記式（Ｉ）で表される環状化合物。


式中、Ｒは環状アルコキシカルボニルアルコキシカルボニルアリーレン基等を表し、Ｒ^１は環状アルコキシカルボニルアルキル基等を表し、Ｒ^２は水素原子等を表す。 （もっと読む）

【課題】テトラカルボン酸二無水物と収率良く開環重付加反応させることが可能な生分解性を有するジアミン、該ジアミンとテトラカルボン酸二無水物を開環重付加反応させて得られるポリアミド酸及び該ポリアミド酸を脱水閉環反応させて得られるポリイミドの提供。また、生分解性を有すると共に、表面自由エネルギーを変化させる際に照射する紫外線を少なくすることが可能な濡れ性変化層が形成されている積層構造体並びに該積層構造体を有する電子素子アレイ、画像表示媒体及び画像表示装置の提供。
【解決手段】ジアミンは、一般式


（式中、Ｘは、エステル結合であり、ｍ及びｎは、自然数であり、ｐ及びｒは、０又は１であり、ｑは０以上の整数であり、ｍ、ｎ及びｑの和が２０以下）で表される。 （もっと読む）

【課題】顔料粒子がインク中で、安定で、よく分散されている顔料着色剤を有する相変化インクなど、改善された着色相変化インク組成物を提供する。
【解決手段】下記構造を有する化合物を開示する。


（式中、Ｒ_１は少なくとも２３の炭素原子を有するアルキル基、アリール基、アルキルアリール基またはアリールアルキル基であり、Ｒ_２は少なくとも２の炭素原子を有するアルキレン基、アリーレン基、アルキルアリーレン基またはアリールアルキレン基であり、Ｘは第４級アンモニウム塩である。） （もっと読む）

【課題】ＬＷＲが小さく、かつ、パターン形状に優れたレジストパターンを形成可能である感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定のスルホンアミド基を側鎖に有する重合体および
（Ｂ）感放射線性酸発生剤
を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物を提供する。 （もっと読む）

【課題】組成物としたときの保存安定性が良好で、高感度を達成する感光剤、及び該感光剤の原料及び中間体を提供する。
【解決手段】下記式（１）：


で表されるアミノフェノール化合物。 （もっと読む）

【課題】電子写真方式の画像形成装置に搭載される電荷発生物質用の有機化合物の純度を評価する評価方法を提供する。
【解決手段】昇温開始より任意温度までの熱重量分析による質量減少率と昇温開始より熱重量分析終了温度までの質量減少率の差が７５％以上９８％以下となる有機化合物が電荷発生物質に使用可能と判定する有機化合物の評価方法。 （もっと読む）

【課題】ラインエッジラフネスを維持しつつ、優れたパターントップ形状を形成することができる化学増幅型フォトレジスト組成物等を提供することを目的とする。
【解決手段】酸発生剤と樹脂とを含有する化学増幅型フォトレジスト組成物であって、前記樹脂が、酸の作用により２個以上のカルボキシル基を生じ、酸の作用により水酸基を生じず、且つラクトン環を有さないモノマーに由来する構造単位（ｂ１−１）を含む樹脂である化学増幅型フォトレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】塩を含まず、強塩基の３級アミンを発生可能な、適用可能な範囲が広い塩基発生剤、及び、塩基性物質によって又は塩基性物質の存在下での加熱によって最終生成物への反応が促進される高分子前駆体の構造上適用可能な選択肢の範囲が広い樹脂組成物を提供する。
【解決手段】電磁波の照射及び／または加熱により、下記化学式（１）で表わされる塩基を発生し、発生した塩基が加熱により同一分子内でマイケル付加することを特徴とする塩基発生剤、並びに、当該塩基発生剤及び塩基性物質によって又は塩基性物質の存在下での加熱によって最終生成物への反応が促進される高分子前駆体を含有することを特徴とする、樹脂組成物である。
【化１】


（式（１）中の記号は明細書に記載したとおりである。） （もっと読む）

【課題】アルカリ現像液に対する溶解速度を制御することができ、解像度を低下させることなく、高感度で形状が良好なパターンを得ることができる化学増幅型のネガ型レジスト材料として有用なカリックスレゾルシンアレーン誘導体、その製造方法、それを含むネガ型レジスト組成物、及び当該ネガ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記化学式(1)で表されるレゾルシノール誘導体とＲ^３−Ｘで表されるハロゲン化アルキルを反応させ、前記レゾルシノール誘導体の有するフェノール性水酸基に非酸分解性基を導入することにより得られるカリックスレゾルシンアレーン誘導体。


［式中、Ｒ^１はアリール基、置換基を有するアリール基、アルキル基等を表し、Ｒ^２は炭素数１〜５のアルキル基等を表し、ｎは０〜２の整数を表す。］ （もっと読む）

【課題】優れた解像度、ラインエッジラフネス及びフォーカスマージンを有するパターンを形成することができる化学増幅型フォトレジスト組成物等を提供することを目的とする。
【解決手段】酸発生剤と樹脂とを含有する化学増幅型フォトレジスト組成物であって、前記樹脂が、酸に不安定な基及びラクトン環を有するモノマーに由来する構造単位（ｂ３−２）を含む樹脂である化学増幅型フォトレジスト組成物。構造単位（ｂ３−２）の好ましい例は、酸の作用によりカルボキシ基を生じ且つラクトン環を有するモノマーに由来する構造単位である。 （もっと読む）

【課題】クラックが生じにくく、高コントラストの金属酸化物薄膜パターンを製造できる感光性組成物、感光性金属錯体、塗布液、及び金属酸化物薄膜パターンの製造方法を提供すること。
【解決手段】式(1)で表される感光性組成物。式（１）におけるＲ¹〜Ｒ⁴のうちの少なくとも１つは、式（２）〜（５）のいずれかである。式（２）〜（４）におけるＲ¹³は、式（６）又は式（７）である。式（１）におけるＲ¹〜Ｒ⁴のうち、式（２）〜（５）のいずれでもないもの、及び式（６）〜（７）におけるＲ⁵〜Ｒ⁸は、それぞれ、下記（ａ１）〜（ａ１４）のうちのいずれかである。式（５）におけるＹは、下記（ｂ１）〜（ｂ５）のうちのいずれかである。式（６）におけるＲ⁹〜Ｒ¹⁰及び式（７）におけるＲ⁹〜Ｒ¹²は、それぞれ、下記（ｃ１）〜（ｃ１５）のうちのいずれかである。 （もっと読む）

【課題】感度に優れ、高分子前駆体の種類を問わず、露光部と未露光部とで大きな溶解性コントラストが得られる感光性樹脂組成物及びその様な感光性樹脂組成物に利用可能な光潜在性樹脂硬化促進剤を提供する。
【解決手段】塩基性物質によって又は塩基性物質の存在下での加熱によって最終生成物への反応が促進される高分子前駆体、及び、下記式（１）で表わされ且つアミド結合を形成可能なＮＨ基を１つ有する２級アミン及び／又は複素環式化合物を電磁波の照射と加熱により発生する光潜在性樹脂硬化促進剤を含有する、感光性樹脂組成物である。


（各符号は、明細書中で定義したとおりである。） （もっと読む）

【課題】
優れた解像度及び形状を有するパターンを形成することができる化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物を得るための化合物を提供すること。
【解決手段】
下記式（Ｉ）で表される化合物。
【化１】


［式（Ｉ）中、Ｒ^１は、水素原子、フッ素原子、又はフッ素原子で置換されていてもよい直鎖状若しくは分岐状の炭素数１〜４のアルキル基を表す。Ｒ^２及びＲ^３は、互いに独立に、水素原子、又は直鎖状若しくは分岐状の炭素数１〜４のアルキル基を表す。Ｒ^４は、炭素数１〜８の２価の炭化水素基を表す。Ｒ^５は、単結合、炭素数１〜４の２価の炭化水素基又はカルボニル基を表す。Ｒ^６は、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】化学増幅型レジスト材料に用いられる光酸発生剤などとして有用な、フルオロアルカンスルホン酸オニウム塩を製造するための有用な中間体および工業的な製造方法を提供する。
【解決手段】カルボン酸ブロモフルオロアルキルエステルを、スルフィン化剤を用いてスルフィン化する際に、有機塩基を使用することによって、フルオロアルカンスルフィン酸アンモニウム塩を得る。これを酸化してフルオロアルカンスルホン酸アンモニウム塩を得る。これを原料とし、オニウム塩に交換するか、鹸化・エステル化を経てオニウム塩に交換することで、フルオロアルカンスルホン酸オニウム塩を得る。 （もっと読む）

【課題】化学増幅型レジスト材料に用いられる光酸発生剤などとして有用な、フルオロアルカンスルホン酸オニウム塩を製造するための有用な中間体および工業的な製造方法を提供する。
【解決手段】ブロモフルオロアルコールを、スルフィン化剤を用いてスルフィン化する際に、有機塩基を使用することによって、ヒドロキシフルオロアルカンスルフィン酸アンモニウム塩を得る。これを酸化してヒドロキシフルオロアルカンスルホン酸アンモニウム塩を得る。これを原料とし、エステル化を経てオニウム塩に交換することで、フルオロアルカンスルホン酸オニウム塩を得る。 （もっと読む）

【課題】現像性と耐刷性の両立が可能で、さらにインキ着肉性も良好な簡易現像可能な平版印刷版原版を提供する。
【解決手段】（Ａ）式（Ｉ）で示される化合物、（Ｂ）開始剤、および（Ｃ）重合性化合物を含有する重合性組成物。この重合性組成物を含有する画像記録層を有する平版印刷版原版。


式（Ｉ）中、Ｘはｎ価の有機基を、Ｒ_１およびＲ_２は水素原子等を、Ｌ_１、Ｌ_２は−ＣＯ−Ｏ−、アルキレン基等の２価の連結基を、Ｙは―ＳＯ_３Ｎａ等を、ｎは１〜１０の整数を表す。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用として有用な新規な化合物、該化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、下記一般式（Ａ１−１）［式中、Ｐは、分子量５００〜２５００の多価フェノール化合物から（ｎ_１２＋１）個の−ＯＨを除いた基であり、Ｒ^１は酸解離性溶解抑制基であり、Ｒ^２は酸非解離性基であり、ｎ_１２は１〜３の整数である。］で表される化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
［化１］
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【課題】保存安定性が良好で、従来の樹脂のみならず、アルカリ溶解性の高い樹脂と組み合わせた場合でも、感度が高い、感光性樹脂組成物を実現するための光活性剤を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）で表される、中間体としてアミドフェノール化合物を用いて製造した、新規ナフトキノンジアジド化合物。
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【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用である新規な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、酸発生剤成分（Ｂ）が、一般式（ｂ１−１）で表される化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含有することを特徴とするレジスト組成物。［式中、Ｒ^１はアリーレン基又はアルキレン基であり、Ｒ^２、Ｒ^３はそれぞれ独立にアリール基又はアルキル基である。］
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【課題】得られる塩の収率が高い塩の製造方法を提供する。
【解決手段】式（Ａ）で表される塩と式（Ｂ）で表される塩とを、塩化銀の存在下で反応させることを特徴とする式（Ｃ）で表される塩の製造方法。（Ａ）Ｚ^＋Ｘ⁻（Ｂ）Ａ^＋−Ｏ_３ＳＲ（Ｃ）Ｚ^＋−Ｏ_３ＳＲ式（Ａ）、式（Ｂ）及び式（Ｃ）中、Ｚ^＋は、有機カチオンを表し、Ｘ⁻は、Ｂｒ⁻又はＩ⁻を表し、Ａ^＋は、アルカリ金属カチオンを表す。Ｒは、直鎖状又は分岐状の炭素数１〜１２の脂肪族炭化水素基、置換基を有してもよい炭素数４〜３６の脂環式炭化水素基あるいは置換基を有してもよい炭素数６〜１８の芳香族炭化水素基を表す。前記脂肪族炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子及び／又はカルボニル基で置換されていてもよく、前記脂肪族炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基で置換されていてもよい。 （もっと読む）