【課題】優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ)で表される塩、この塩を含有する酸発生剤及びこの酸発生剤と樹脂とを含有するレジスト組成物。


［式中、Ｑ^１及びＱ^２は、それぞれフッ素原子又はペルフルオロアルキル基；Ｌ^１は２価の飽和炭化水素基を表し、該基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい；Ｌ^２は、単結合又はアルカンジイル基を表し、該基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい；Ｙは、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基を表し、該基に含まれるメチレン基は、酸素原子、スルホニル基又はカルボニル基に置き換わっていてもよい；Ｚ^＋は有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】優れた解像度及びラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有し、且つ欠陥が少ないレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】（Ａ１）式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、（Ａ２）アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び（Ｂ）酸に不安定な基を有する酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式（Ｉ）中、Ｒ¹は、水素原子又はメチル基を表す。Ａ¹は、炭素数１〜６のアルカンジイル基を表す。Ｒ²は、フッ素原子を有する炭素数１〜１０の炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】パターン倒れ及び欠陥の少ないレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】（Ａ１）式（Ｉ）で表される構造単位を有する樹脂、（Ａ２）アルカリ水溶液に不溶又は難溶であり、酸の作用によりアルカリ水溶液で溶解し得る樹脂及び（Ｂ）式（ＩＩ）で表される酸発生剤を含有するレジスト組成物。


［式中、Ｒ¹は水素原子又はメチル基；Ａ¹はアルカンジイル基；Ｒ²はフッ素含有炭化水素基；Ｒ^３及びＲ^４は、互いに独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基；Ｘ^１は飽和炭化水素基を表し、該基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよく、該基に含まれる−ＣＨ_２−は−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい；Ｒ^５は、環状エーテル構造を含む基；Ｚ^１＋は有機カチオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】フォトレジスト用原料として、優れた性能を有する重合性光酸発生モノマーを提供する。
【解決手段】下記構造を有するモノマー化合物：


式中、各Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３は独立してＨ、Ｆ、Ｃ_１−１０アルキル、フッ素置換Ｃ_１−１０アルキル、Ｃ_１−１０シクロアルキル、もしくはフッ素置換Ｃ_１−１０シクロアルキルであって、ただしＲ^１、Ｒ^２もしくはＲ^３の少なくとも１つはＦであり；ｎは１〜１０の整数であり、Ａはハロゲン化されたもしくはハロゲン化されていないＣ_２−３０オレフィン含有重合性基であり、並びにＧ^＋は有機もしくは無機カチオンである。このモノマーは、スルトン前駆体と、ヒドロキシ含有のハロゲン化されたもしくはハロゲン化されていないＣ_２−３０オレフィン含有化合物のオキシアニオンとの反応生成物である。ポリマーは式（Ｉ）のモノマーを含む。 （もっと読む）

【課題】簡便な方法で脂肪酸銀塩を得ることができる脂肪酸銀塩の製造方法、および、銀粉の変形が抑制され、銀粉の分散が良好となる導電性ペーストの製造方法の提供。
【解決手段】脂肪酸と酸化銀とを反応させて脂肪酸銀塩を得る脂肪酸銀塩の製造方法であって、
複数の撹拌羽根が遊星運動するように設けられたプラネタリー型ミキサーを用い、
脂肪酸および酸化銀の合計１００質量部に対して１〜２００質量部の溶媒を添加し、これらを混練して脂肪酸銀塩を得る、脂肪酸銀塩の製造方法。 （もっと読む）

【課題】優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】下記で表される塩。


［式中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基；Ｌ^１及びＬ^２は、互いに独立に、２価の飽和炭化水素基を表し、該基を構成しているメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい；Ｙは、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基を表し、該基に含まれるメチレン基は、酸素原子、スルホニル基又はカルボニル基に置き換わっていてもよい；Ｚ^＋は、有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】蛍光特性を有さず、かつ、高融点、高光屈折性、及びビスフェノール構造に起因する反応多様性を兼ね備えた新規な化合物及びこの製造方法を提供することを目的とする。また、この化合物の誘導体、これらを含む組成物、及びこの組成物から得られる硬化物を提供することも目的とする。
【解決手段】本発明は、下記式（１）で表される化合物である。


（式（１）中、Ｘは、（ｎ_１＋１）価の芳香族基であり、この芳香族基が置換基を有していてもよい。Ｙは、（ｎ_２＋１）価の芳香族基であり、この芳香族基が置換基を有していてもよい。ｎ_１及びｎ_２は、それぞれ独立して、１〜３の整数である。） （もっと読む）

【課題】 照射した光を減衰又は遮蔽する着色剤等の物質が高濃度で存在する場合や厚い膜厚の場合でも少エネルギー量で硬化可能な感光性組成物を提供する。
【解決手段】 下記（１）〜（３）を含有する感光性組成物であって、ラジカル開始剤（Ａ）、酸発生剤（Ｂ）及び塩基発生剤（Ｃ）の内の少なくとも１つが活性光線の照射により活性種（Ｈ）を発生し、該活性種（Ｈ）がラジカル開始剤（Ａ）、酸発生剤（Ｂ）又は塩基発生剤（Ｃ）と反応して新たな活性種（Ｉ）を生成して該新たな活性種（Ｉ）による重合性物質（Ｄ）の重合反応が進行し、該活性種（Ｈ）又は（Ｉ）が酸又は塩基であり、前記重合反応と並行して酸発生剤（Ｂ）に活性光線を照射することにより発生した酸により重合性物質（Ｄ）の重合反応が進行する感光性組成物。
（１）ラジカル開始剤（Ａ）、又はラジカル開始剤（Ａ）及び塩基発生剤（Ｃ）
（２）酸発生剤（Ｂ）
（３）重合性物質（Ｄ） （もっと読む）

【課題】優れたラインエッジラフネスを有するレジストパターンを得ることができる塩、酸発生剤及びレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基を表す；Ｌ^１及びＬ^２は、互いに独立に、２価の飽和炭化水素基を表し、該基を構成するメチレン基は、酸素原子等で置き換わっていてもよい；Ｚ^１は、単結合、メチレン基、エチレン基、、カルボニル基、酸素原子又は硫黄原子を表す；Ｒ^１はアルキル基を表し、該基を構成するメチレン基は、酸素原子等で置き換わっていてもよい；sは０〜２の整数；Ｙは、置換基を有していてもよい脂環式炭化水素基を表し、該基を構成しているメチレン基は、酸素原子、スルホニル基等で置き換わっていてもよい；Ｚ^＋は有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】エステル溶媒に対する高い溶解性に加えて、アルカリ溶媒への溶解性を有しているとともに、安価な原料のみで簡便に製造できるフラーレン誘導体、その溶液、及びその膜を提供する。
【解決手段】下式（Ｉ）で表わされるフラーレン誘導体。


（式中、Ｒ^１は１以上３以下の水酸基を含み且つ水酸基以外の置換基を有していてもよい炭素数６〜１８の芳香族性を有する炭化水素基を表し、ａは１以上１５以下のＲ^１の平均付加数を表し、ｂは０以上４以下の水素原子（Ｈ）の平均付加数を表し、かつａ＞ｂを満たし、丸で示される構造はフラーレン骨格を表す。） （もっと読む）

【課題】保存安定性が良好で、かつ、露光感度と解像度を両立できる、ポジ型感光性樹脂に使用される新規なテトラキスフェノール化合物を提供する。
【解決手段】本発明は、一般式（１）で表されるテトラキスフェノール化合物である。


（式（１）中、Ａｒはフェノール性水酸基を有するアリール基であり、同一でも異なってもよく、２位、３位、４位、５位、６位のいずれかで置換したものである。） （もっと読む）

【課題】タック性が無く、伸度があり、アルカリ現像可能な光パターニング性を有する光硬化型樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】（ａ）エポキシ基を有する化合物、（ｂ）光塩基発生剤、（ｃ）チオール基を有する硬化剤、及び（ｄ）カルボン酸基又は無水カルボン酸基の少なくとも一方を有する化合物を含有する光硬化型樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】優れた解像度を有するレジストパターンを得ることができる塩、酸発生剤及びレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式中、Ｒ^１〜Ｒ^１３、Ｘ^１は、それぞれ特定の基を表す。またＲ^４とＲ^５、Ｒ^５とＲ^６、Ｒ^６とＲ^７、Ｒ^６とＲ^１３、Ｒ^７とＲ^８、Ｒ^８とＲ^１１、Ｒ^１１とＲ^１２又はＲ^１２とＲ^１３が環を形成してもよく、但し、Ｒ^４〜Ｒ^１３の１つはＸ^１との結合手；---は単結合又は二重結合；ｎ１は１又は２、ｎ２は０又は１；Ｚ^１＋は、有機対イオンを表す。 （もっと読む）

【課題】高銀含有率のアセトンジカルボン酸銀を含み、銀塩の分解温度未満の低温で、且つ短時間の加熱でも導電性、平坦性、密着性に優れた金属銀膜が得られる、保存安定性の高い銀含有組成物、およびそれを用いて形成した金属銀膜備える基材を提供すること。
【解決手段】式（１）で表される銀化合物(A)と、式（２）で表されるアミン化合物(B)とを特定割合で含有することを特徴とする組成物。


（Ｒ¹：Ｈ、−(ＣＹ₂)ａ−ＣＨ₃、−((ＣＨ₂)ｂ−Ｏ−ＣＨＺ)ｃ−ＣＨ₃、Ｒ²：−(ＣＹ₂)d−ＣＨ₃、−((ＣＨ₂)ｅ−Ｏ−ＣＨＺ)ｆ−ＣＨ₃。Ｙ：Ｈ、−(ＣＨ₂)ｇ−ＣＨ₃、Ｚ：Ｈ、−(ＣＨ₂)ｈ−ＣＨ₃。ａ：０〜８、ｂ：１〜４、ｃ：１〜３、d：１〜８、ｅ：１〜４、ｆ：１〜３、ｇ：１〜３、ｈ：１〜２) （もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージン（ＤＯＦ）を有するレジストパターンを得ることができる塩、酸発生剤及びレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式（Ｉ）中、Ｒ^１及びＲ^２は、互いに独立に、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す；Ｘ^１は、２価の炭素数１〜１７の飽和炭化水素基を表し、前記２価の飽和炭化水素基に含まれる水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよく、前記２価の飽和炭化水素基に含まれるメチレン基は、酸素原子、硫黄原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい；Ｒ^３は、置換基を有していてもよい炭素数４〜１８のスルホラン環を表す；Ｚ^１＋は、有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】加熱乾燥工程を経ても、ガスバリア性及び耐摩耗性を十分に満足できる樹脂薄膜を容易に形成することができる樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表される化合物（Ａ）、樹脂（Ｂ）、電荷輸送物質（Ｃ）及び溶剤（Ｄ）を含有してなる樹脂組成物。
（もっと読む）

【課題】優れたフォーカスマージンを有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩を有効成分として含有する酸発生剤と、式（ａ３−２）で表される化合物に由来する構造単位を有する樹脂とを含有するレジスト組成物。


［式中、Ｑ^１及びＱ^２は、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基；Ｌ^１は２価の飽和炭化水素基；Ｌ^２は単結合又は２価の飽和炭化水素基；Ｒ^１は脂肪族炭化水素基；Ｒ^２は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基等；Ｚ^＋は有機対イオン；Ｌ^a5は、酸素原子又は＊−Ｏ−（ＣＨ₂）_k3−ＣＯ−Ｏ−、ｋ３は１〜７の整数、＊は−ＣＯ−との結合手；Ｒ^a22はカルボキシ基、シアノ基又は脂肪族炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】優れたラインエッジラフネス（ＬＥＲ）を有するレジストパターンを得ることができるレジスト組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩、これを含む酸発生剤及びこの酸発生剤を含むレジスト組成物。


［式中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子又はペルフルオロアルキル基；Ｌ^１は、２価の飽和炭化水素基、該基に含まれるメチレン基は、酸素原子又はカルボニル基で置き換わっていてもよい；環Ｗは、２価の脂肪族環、該環に含まれるメチレン基は、酸素原子、硫黄原子等で置き換わっていてもよく、該環に含まれる水素原子は、ヒドロキシ基、アルキル基、アルコキシ基、脂環式炭化水素基又は芳香族炭化水素基で置換されていてもよい；ｓは０〜３の整数；Ｒ^１は、脂肪族炭化水素基；Ｚ^＋は有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】 ラフネス特性に優れ、且つ、膜減りや裾引きのない良好なパターン形状を形成可能な感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びに、この組成物を用いた感活性光線性又は感放射線性膜及びパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 （Ａ）酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）カチオン部に窒素原子を含み且つ活性光線又は放射線の照射により分解して酸を発生するオニウム塩、及び（Ｃ）下記一般式（１−１）または（１−２）で表される、活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。（一般式（１−１）及び（１−２）中の各符号は明細書に記載の意味を表す。）
【化１】
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【課題】ＫｒＦエキシマレーザー、極端紫外線、電子線またはＸ線等の放射線に感応する化合物の提供。
【解決手段】式（７−１）で表される化合物。


（式中、Ｒ１は、酸解離性官能基であり、同一でも異なっていてもよく、Ｒ２Ｂは、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基などからなる群から選ばれる置換基を表し、同一でも異なっていてもよく、Ｒ３、Ｒ７は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基であり、Ｒ４Ｂは、ナフタレン構造を有する炭素数１０〜２０の二価の置換基であり、ｋ０、ｊ０、ｍ０、ｎ０、ｋ１、ｊ１、ｍ１、ｎ１は０〜３の整数であり、ｋ２、ｊ２、ｍ２、ｎ２は０〜４の整数である。） （もっと読む）