【課題】４０５±２０ｎｍの波長で高い感度特性を有し、光によって疲労劣化しない高耐久性に優れた電子写真感光体と、該感光体を有する画像形成装置を提供する。
【解決手段】波長４０５±２０ｎｍの光源が、露光手段として使用される電子写真感光体において、該感光体は、導電性支持体と、該支持体上に順次積層した少なくとも電荷発生層と電荷輸送層とから構成される感光層とからなり、該電荷輸送層が、電荷輸送物質として下記一般式（Ｉ）で示されるフェニレンジアミン化合物を含有することを特徴とする電子写真感光体。
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【課題】高感度及び高解像度のフォトレジスト材料を提供する。
【解決手段】カリックスレゾルシナレン化合物と酸解離性溶解抑制基を有する化合物とを１〜３種の塩基性有機化合物を縮合剤として縮合し下記式（４）で表される化合物を合成し、これを高感度及び高解像度のフォトレジスト組成物に使用する。
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【課題】基材密着性に優れ、可撓性を有し、しかも、低粘度である、新規な（メタ）アクリレート誘導体を提供する。
【解決手段】次の一般式（Ｉ）で表されるで表されるグリシジルアルキル（メタ）アクリレートと特定の活性水素含有官能基を有する化合物との反応物である（メタ）アクリレート誘導体。
【化１】


（一般式（Ｉ）中、Ｒ^１は水素原子またはメチル基、Ｒ^２は炭素数４〜１０の直鎖状または分岐状のアルキレン基を表す。） （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、2−（2，4−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェノキシ）脂肪酸クロリドの製造において、脱水操作を行なうことなしに、安全に高収率でかつ高純度な製品を工業的有利に製造する方法を提供するものである。
【解決手段】
2，4−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェノール1モルに対し、2.8〜3.5モル倍量のアルカリ金属の水酸化物を芳香族有機溶媒存在下に反応系外へ生成水を除去することなく反応させることにより、2，4−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェノールのアルカリ金属塩とし、1.0〜1.2モル倍量の2−ブロモ脂肪酸を添加し40〜80℃の温度下で反応する。次いで、0.1〜0.5モル倍量の2−ブロモ脂肪酸を40〜80℃の温度下で分割添加して反応することにより得られた2−（2，4−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェノキシ）脂肪酸をクロル化剤と反応させて2−（2，4−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェノキシ）脂肪酸クロリドを得ることにより上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】感光性樹脂組成物の添加剤として用いた場合、環化樹脂とする際の硬化時残膜率が高く、高感度なポジ型のリソグラフィー性能を有するアルコキシメチル化合物の提供。
【解決手段】式（１）で表されるアルコキシメチル化合物。


Ｚ_１は、−ＣＯ−Ｒ_３又は−ＳＯ_２−Ｒ_４（Ｒ_３及びＲ_４は、炭素数１〜９の有機基）であり、Ｒは、メチル基又はエチル基であり、ｋは、１〜４の整数であり、Ｚ_２は、ｋ＝１の時、Ｃ_ｎＨ_２ｎＯＲ_１又はＲ_２であり、Ｒ_１は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基又はイソプロピル基であり、Ｒ_２は、水素原子又は炭素数１〜４の炭化水素基であり、ｎは１〜３の整数であり、ｋ＝２〜４の時、単結合又は２〜４価の有機基である。 （もっと読む）

【課題】より高感度でマスク忠実性の高い厚膜用化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物と、当該フォトレジスト組成物を用いた厚膜レジストパターンの製造方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、厚膜フォトレジスト層を形成するために用いられる厚膜用化学増幅型ポジ型フォトレジスト組成物であって、電磁波または粒子線を含む放射線照射により酸を発生する酸発生剤（Ａ）と、酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂（Ｂ）と、を含有する。酸発生剤（Ａ）は、カチオン成分としてジフェニル［４−（フェニルチオ）フェニル］スルホニウムカチオンと、アニオン成分としてテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートアニオンとを含む。 （もっと読む）

【課題】遠紫外光、ＥＵＶ、電子線等、特にＡｒＦエキシマレーザー光を使用するミクロフォトファブリケ−ション本来の性能向上技術の課題を解決することであり、通常露光更には液浸露光によるパターニングにおいても、露光ラチチュードが広く、ラインエッジラフネスを抑制できる、優れた感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供することにある。
【解決手段】（Ａ）活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、（Ｂ）ラクトン構造を有する特定の繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、及び（Ｄ）酸の作用により脱離する基を有する低分子化合物を含有する感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】電子写真用感光体の正孔輸送剤としての感度が高く、かつ溶剤への溶解性及び結着樹脂との相溶性に優れたジアミン誘導体、及び感度に優れた電子写真用感光体の提供。
【解決手段】下記式（１）で表されるジアミン誘導体を用いる。


式（１）中、Ａｒ^１はアリール基等から２個の水素原子を除去することにより生成される二価基であり、Ａｒ^２、Ａｒ^３はアリール基等であり、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^４ａ〜Ｒ^６ａ、Ｒ^４ｂ〜Ｒ^６ｂ、およびＲ^４ｃ〜Ｒ^６ｃは水素原子、アリール基、アルケニル基等である。 （もっと読む）

【課題】カルボキシル基を有するカリックスレゾルシナレン化合物を、少ない反応工程で得られる製造方法を提供する。
【解決手段】酸触媒下、下記式（１）で表わされるアルデヒド化合物と、下記式（２）で表わされる芳香族化合物を縮合反応させる工程を含む、下記式（３）で表わされる環状化合物の製造方法。
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【課題】電子写真感光体用エナミン誘導体を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表されるエナミン誘導体を用いる。


式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４は水素原子、アルキル基、またはアリール基である。 （もっと読む）

【課題】ＩＣ等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される、露光ラチチュード、ＰＥＢ温度依存性が改善された感光性組成物に有用な有機塩又はその塩を提供する。
【解決手段】特定構造の有機酸又はその塩。（Ｉ_ａ）；Ｒ_１ａ−ＳＯ_２−ＮＨ−ＳＯ_２−Ａ−ＳＯ_２−Ｂ_ａ−Ｒ、（Ｉ_ｂ）；Ｒ_１−ＳＯ_２−ＮＨ−ＳＯ_２−Ａ_０−ＳＯ_２−Ｂ−ＲＡは、２価の連結基。Ａ_０は、フッ素原子で置換された炭素数２〜６のアルキレン基。Ｂａは、酸素原子又は−Ｎ（Ｒｘ）−。Ｂは、単結合、酸素原子又は−Ｎ（Ｒｘ）−。Ｒｘは、水素原子、アリール基、アルキル基又はシクロアルキル基。Ｂａ、Ｂが−Ｎ（Ｒｘ）−の時、ＲとＲｘが結合して環を形成してもよい。Ｒ1ａは、フッ素原子を有する１価の有機基。Ｒ、Ｒ1は、１価の有機基を表す。 （もっと読む）

【課題】分子レジスト材料を用いたレジストパターンのパターン不良を防止できるようにする。
【解決手段】まず、基板の上に、酸不安定基を含まないアルカリ可溶性で且つ三量体以上の環状のオリゴマーと、酸不安定基を含む分子化合物と、光酸発生剤とを含み、且つポリマーを含まないレジスト材料からレジスト膜１０２を形成する。続いて、形成されたレジスト膜１０２に極紫外線よりなる露光光を選択的に照射することによりパターン露光を行う工程。続いて、パターン露光が行われたレジスト膜１０２を加熱し、その後、加熱されたレジスト膜１０２に対して現像を行って、レジスト膜１０２からレジストパターン１０２ａを形成する。 （もっと読む）

【課題】優れた形状及びラインエッジラフネスを有するパターンを形成することができる化学増幅型フォトレジスト組成物等を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される酸発生剤及び式（ＩＩ）で表される構造単位を有する樹脂を含有する化学増幅型フォトレジスト組成物。


［Ｑ^１及びＱ^２は、フッ素原子又は炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基を表す。Ｘ^０は、２価のＣ_１-17飽和炭化水素基を表す。Ｙ^１は、炭素数３〜３６の飽和環状炭化水素基を表す。Ｒ^１は、水素原子又はメチル基を表す。Ｘ^２は、単結合又は−［ＣＨ_２］_ｋ−を表す。ｋは、１〜８の整数を表す。Ｙ^２は、炭素数４〜３６の飽和環状炭化水素基を表す。］ （もっと読む）

【課題】アリールアミン化合物を収率良く製造する方法を提供する。
【解決手段】塩基の存在下、アミン化合物による芳香族ハロゲン化物のアミノ化反応において、触媒として２座ホスフィン類とニッケル系化合物との錯体を用いるアリールアミン化合物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性が向上し、良好な形状のレジストパターンを形成することができるレジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）、および露光により塩基を発生する光塩基発生剤成分（Ｆ）を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分（Ｂ）が、下記一般式（Ｉａ）で表されるアニオン部を有する酸発生剤（Ｂ１）を有し、前記光塩基発生剤成分（Ｆ）が下記一般式（ｆ１）で表される化合物からなる光塩基発生剤（Ｆ１）を含むことを特徴とするレジスト組成物。
［化１］
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【課題】レジスト組成物用酸発生剤として好適な新規化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】一般式（ｂ１−１４）で表される化合物；かかる化合物からなる酸発生剤；酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）及び露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有し、該酸発生剤成分（Ｂ）はかかる化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含むレジスト組成物。式中、Ｒ^７”〜Ｒ^９”はそれぞれ独立にアリール基又はアルキル基を表し；Ｒ^７”〜Ｒ^９”の内いずれか２つが相互に結合して式中のイオウ原子と共に環を形成してもよく；Ｒ^７”〜Ｒ^９”の内少なくとも１つは、水素原子の一部または全部がアルコキシカルボニルアルキルオキシ基で置換された置換アリール基であり；Ｘ⁻はアニオンである。
［化１］
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【課題】化学増幅型レジスト組成物において、優れた解像度とライン幅ラフネスを有し、ＡｒＦ液浸工程において水への溶出の少ない新規な酸発生剤およびその製造時に用いられる中間物質を合成する製造方法を提供。
【解決手段】酸発生剤は下記化学式で表される。ＸはＣ１〜１０のアルキレン、−Ｘ_１−Ｏ−Ｘ_２−またはＮ、ＳおよびＦからなる群から選択されたヘテロ原子であり、前記Ｘ_１およびＸ_２は各々独立にＣ１〜１０のアルキレンであり、Ｙは１つ以上の芳香族環を含むＣ５〜３０の炭化水素環であり、前記炭化水素環の環状の１つ以上のＨ原子が−Ｏ−Ｙ_１、−ＣＯ−Ｙ_２、Ｃ１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基など、前記Ｙ_１およびＹ_２は各々独立に炭素数１〜６のアルキル基であり、ｎは０または５の整数であり、Ａ^＋は有機対イオンである。
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【課題】レーザーによる画像記録が可能であり、充分な耐刷性を維持しつつ良好な汚れ性、現像性が得られる平版印刷版原版、製版方法及び新規な重合性モノマーを提供する。
【解決手段】支持体上に、ラジカル重合開始剤、ならびにスルホンアミド基および少なくとも２つのエチレン性不飽和基を有する重合性モノマーを含有する画像記録層を有することを特徴とする平版印刷版原版；上記平版印刷版原版を用いた平版印刷版の製版方法；スルホンアミド基と少なくとも２つのエチレン性不飽和基を有する重合性モノマー。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用の酸発生剤として有用な新規な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物および該レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するレジスト組成物であって、前記酸発生剤成分（Ｂ）が、カチオン部に塩基解離性基を有する化合物からなる酸発生剤（Ｂ１）を含むことを特徴とするレジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】保存安定性に優れた感熱記録材料を提供すること。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で表されるフェノール化合物を、感熱記録層及び支持体からなる感熱記録材料の、該感熱記録層中に含有させる。


（式中、Ｘ、Ｙ及びＺは、それぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素原子数２〜２０の複素環基又はハロゲン原子を表し、ｋは０〜４の数を表し、ｐ及びｒは０〜４の数を表し、ｋ＋ｐ＋ｒは１以上の整数である。） （もっと読む）