Fターム[4H006AB76]の内容
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Fターム[4H006AB76]に分類される特許
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アゾ化合物
【課題】フェニル基とフェニル基がアゾ基で連結された従来の化合物は単に合成中間体としての用途が記載されているだけであった。
【解決手段】式(I)で示されるアゾ化合物。
(式(I)中、R1は、炭素数4〜20の直鎖状アルキル基、炭素数4〜20の分岐状アルキル基、炭素数4〜20の直鎖状アルコキシ基又は炭素数4〜20の分岐状アルコキシ基を表す。R2及びR3は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜8の直鎖状アルキル基、炭素数1〜8の分岐状アルキル基、炭素数1〜8の直鎖状アルコキシ基又は炭素数1〜8の分岐状アルコキシ基を表す。
R4及びR5は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜8の直鎖状アルキル基、炭素数5〜8のシクロアルキル基、炭素数1〜8のアルケニル基又はテトラヒドロフルフリル基を表す。)
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有機電子写真感光体
【課題】特定の製造方法から得られたトリアリールアミンダイマーを含む有機電子写真感光体の提供。
【解決手段】トリアリールアミンダイマーは、反応促進剤としてポリエチレングリコールまたはポリエチレングリコールのジ−又はモノ−アルキルエーテルを用い、
ウルマン反応を用いて製造される。
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電子写真装置
【課題】繰返し使用においても高耐久で異常画像の発生がなく、品質の安定したフルカラー画像を高速で形成可能なタンデム方式のフルカラー電子写真装置を提供する。
【解決手段】少なくとも導電性支持体上に特定構造を有するナフタレンテトラカルボン酸ジイミド誘導体を含有する感光層を設けた感光体(1Y,1M、1C,1Bk)と、帯電手段(2Y,2M,2C,2Bk)と、像露光手段(3Y,3M,3C,3Bk)と、現像手段(4Y,4M,4C,4Bk)と、転写手段(5Y,5M,5C,5Bk)とを少なくとも具備してなる画像形成要素を複数配列したフルカラー電子写真装置とする。
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感放射線性組成物
【課題】 高感度、高解像度、高エッチング耐性、低アウトガス量、及び得られるレジストパターン形状が良好な環状化合物、該化合物を含む感放射性組成物、および該感放射性組成物を用いるレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】 下記式(1)で示される、特定条件を満たす環状化合物、該化合物を含む感放射性組成物、および該感放射性組成物を用いるレジストパターン形成方法。
【化1】
(1)
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ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
【解決手段】3種の特定構造を含有する酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂成分(A)と、活性光線又は放射線に感応して酸を発生する化合物(B)とを含有し、(B)が特定構造を有するスルホニウム塩化合物であるポジ型レジスト材料。
【効果】本発明のレジスト材料は、微細加工技術、特にArFリソグラフィー技術において極めて高い解像性を有し、良好なマスク忠実性、特にLERの小さいパターンを与える。
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フッ素不含複素芳香族光酸発生剤およびそれを含有するフォトレジスト組成物
【課題】フッ素不含複素芳香族光酸発生剤およびそれを含有するフォトレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】フッ素不含光酸発生剤およびフッ素不含光酸活性剤を含有するフォトレジスト組成物は、PFOS/PFAS光酸発生剤含有フォトレジストの代替例として使用可能である。光酸発生剤は、フッ素不含複素芳香族スルホン酸陰イオン成分の存在によって特徴付けられる。光酸発生剤は、好ましくはオニウム陽イオン成分を含有し、より好ましくはスルホニウム陽イオン成分を含有する。フォトレジスト組成物は、好ましくは酸感受性画像形成ポリマーを含有する。この組成物は、193nm(ArF)画像形成放射線を使用して材料パターンを形成するのに、特に有用である。
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新規ジェミニ型フェノール化合物
【課題】酸化防止剤、耐熱安定剤、重合禁止剤、紫外線吸収剤等のプラスチック添加剤や、老化防止剤等のゴム添加剤、医薬品、界面活性剤、除草剤、殺虫剤、殺菌剤、可塑剤、安定剤等の中間物質、感熱記録媒体の顕色剤等としての利用が可能な、新規なジェミニ型フェノール化合物を提供する。
【解決手段】主鎖部分中にアミド基、尿素基等の水素結合性会合基を有する1鎖型フェノール化合物が、スペーサーを介して対象に結合したジェミニ型構造を有し、4−ヒドロキシフェニル基のパラ位にアミド、尿素基等を有する化合物。
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新規なアクリル酸エステル化合物、その製造中間体、及びその製造方法
【課題】分子中に電荷輸送機能(ホール輸送性)を持つ構造単位と、良好な連鎖重合性を持つ官能基を有し、容易に重合して高密度の架橋膜形成が可能であり、この架橋膜が良好な電荷輸送性と機械的耐久性や耐熱性を併せ有するような化合物を提供する。
【解決手段】下記アクリル酸エステル化合物。
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(メタ)アクリレート化合物
【課題】新規(メタ)アクリレート化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式(1)で示される(メタ)アクリレート化合物。
【化1】
(一般式(1)中、R1およびR2はそれぞれ独立に水素原子またはメチル基を表し、Xは3価以上の多価アルコールまたはヒドロキシベンゼン由来の有機基残基を表し、mおよびnはそれぞれ1以上の整数を表し、かつ、m+nが3以上である。)
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ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル、それを用いたポジ型感光性樹脂組成物及び半導体装置
【課題】膜厚が厚くなっても高解像度で高残膜率のパターンを得ることができ、かつ高感度が得られるポジ型感光性樹脂組成物を提供すること。
【解決手段】アルカリ可溶性樹脂(A)100重量部、フェノール化合物の、1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホン酸エステル及び/又は1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−スルホン酸エステル(B)1〜50重量部を含むことを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。
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トリエステルビニルエーテル及びその製法
【課題】硬化性、密着性、紫外光領域での透明性、剛直性などに優れた重合体原料などとして有用な新規な化合物であるトリエステルビニルエーテルの提供。
【解決手段】式(I):
(式中、nは2〜10の整数を示す)
で表される化合物。
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アミン化合物、電子写真感光体及び画像形成方法
【課題】本発明の目的は、溶媒溶解性及びバインダーとの相溶性が改善された電荷輸送物質の新規な化合物を開発することであり、該化合物を用いて、発振波長が350〜500nmの半導体レーザの像露光を用いて、高密度の静電潜像を形成でき、画像欠陥(ポチ等)の発生を防止できた鮮鋭性が良好な電子写真画像を形成できる電子写真感光体を提供することであり、該電子写真感光体を用いた画像形成方法を提供する。
【解決手段】下記一般式(1)で表わされることを特徴とするアミン化合物。
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アミン化合物混合体、電子写真感光体、画像形成方法及び画像形成装置
【課題】高速複写や低温低湿環境下で発生しやすい感度低下を防止し、電子写真感光体の表面汚染により発生しやすい黒ポチを防止し、また、クラック等の破断傷等の発生を起こさず、高解像性の鮮明な電子写真画像が安定して得られる電子写真感光体、画像形成方法、画像形成装置及びこれに用いるアミン化合物混合体を提供することにある。
【解決手段】下記一般式(1)において、Ar1〜Ar4が下記式(1)を満たすアミン化合物と、下記式(2)を満たすアミン化合物を含有することを特徴とするアミン化合物混合体。
【化1】
式(1) Ar1=Ar2=Ar3=Ar4
式(2) Ar1=Ar2=Ar3≠Ar4
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アミドフェノール化合物およびナフトキノンジアジド化合物
【課題】ポジ型感光性樹脂組成物に用いた場合に、高感度、高解像度を示す、保存安定性の良好な、ハロゲン元素を含まないナフトキノンジアジド化合物と、その製造に有用な中間体であるアミドフェノール化合物を提供する。
【解決手段】下記式(1)で表される化合物。
(式中、R1およびR4は互いに独立にフェニル基を有する1価の有機基であり、R2、R3、R5およびR6は互いに独立に、水素原子または1価の有機基である。Q1およびQ2は、互いに独立であり、少なくとも1つは4-又は5−ナフトキノンジアジドスルホニル基のどちらかである。また、Xはハロゲン元素を含まない2価の基または単結合である。)
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ポリカルボン酸エステル化合物、フォトレジスト基材及びフォトレジスト組成物
【課題】優れた耐熱性、高感度、高解像度、高微細加工性等の特徴を具備するフォトレジスト基材に好適な化合物及び組成物を提供する。
【解決手段】下記式PCE−10で代表されるポリカルボン酸エステル化合物。
以下、上記式に倣って、t-ブチロキシ基、アダマンチルオキシオキシ基、トリメチルシリル基などを、酸解離性溶解抑止基として導入する。
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環状化合物、フォトレジスト基材及びフォトレジスト組成物
【課題】フォトレジスト基材として有用であり、高い塗布溶媒溶解性を有する環状化合物を提供する。
【解決手段】下記式(1)で表される構造を有する環状化合物。
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感光性化合物及びこれを含むフォトレジスト組成物
【課題】通常のフォトレジスト用の高分子よりもサイズが小さく、しかも、よりよく定義された(均一な)構造を有する感光性化合物及びこれを含むフォトレジスト組成物が開示される。
【解決手段】
前記感光性化合物は下記の一般式の構造を有する。また、前記フォトレジスト組成物は、下記の一般式で表わされる感光性化合物1〜85重量%と、前記感光性化合物100重量部に対して光酸発生剤0.05〜15重量部と、有機溶媒200〜5000重量部と、を含む。
前記一般式において、xは1、2、3、4または5であり、yは2、3、4、5または6であり、R及びR’はそれぞれ独立して、炭素数1〜30の鎖状脂肪族炭化水素基、環状脂肪族炭化水素基、または芳香族炭化水素基である。
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色素修飾液晶分子及び色素修飾液晶分子利用の材料
【課題】液晶において、色素が相分離することを回避し、特定の割合の色素が均一に分散することを特徴とする色素修飾液晶分子を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明は、色素部位と、分岐部位と、液晶形成部位とを含む色素修飾液晶分子である。
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含フッ素化合物、液浸露光用ポジ型レジスト組成物、およびレジストパターン形成方法
【課題】新規な含フッ素化合物、該含フッ素化合物を用いた液浸露光用として好適な疎水性を有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】新規な含フッ素化合物;酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、新規な含フッ素化合物(F)とを含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物;当該液浸露光用ポジ型レジスト組成物を用いて支持体上にレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を浸漬露光する工程、および前記レジスト膜をアルカリ現像してレジストパターンを形成する工程を含むレジストパターン形成方法。
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ジルコニウム化合物、該化合物を含有する電荷制御剤および該化合物の製造方法
【課題】電子写真用トナーとして有用な新規ジルコニウム化合物を提供する。
【解決手段】次の一般式(1)
[式中、R1は4級炭素、メチン、メチレンであり、Yは4位と5位に結合する飽和結合又は不飽和結合で結ばれた環状構造を表し、R2、R3は相互に独立してアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン基、水素等を表し、R4は水素又はアルキル基を表し、lは0又は3から12の整数、mは1から20の整数、nは0又は1から20の整数、oは0又は1から4の整数、pは0又は1から4の整数、qは0又は1から3の整数、rは1から20の整数、sは0又は1から20の整数である。但しqが0の場合、全てのR3が同時に水素ではないものとする。]で表される4価のジルコニウム化合物。
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