【課題】シルメチレン結合を有するケイ素系ポリマーからなる付加硬化型オルガノポリシルメチレンの提供、並びに該付加硬化型オルガノポリシルメチレンを含有して成り、硬化すると、耐熱性、電気絶縁特性、耐水性、成型加工性に優れ、気体透過性の少ない硬化物を与えるオルガノポリシルメチレン組成物及びその硬化物を提供する。
【解決手段】（Ａ）下記一般式（１）：


で表され、ケイ素原子に結合したアルケニル基を１分子中に少なくとも２個有するオルガノポリシルメチレン。 （もっと読む）

【課題】シルメチレン結合を有するケイ素系ポリマーからなる縮合硬化型オルガノポリシルメチレンの提供、並びに該縮合硬化型オルガノポリシルメチレンを含有して成り、硬化すると、耐熱性、電気絶縁特性、耐水性、成型加工性に優れ、気体透過性の少ないオルガノポリシルメチレン組成物及びその硬化物を提供する。
【解決手段】下記一般式（１）：


で表され、ケイ素原子に結合したアルコキシ基、水酸基、またはハロゲン原子を１分子中に少なくとも２個有するオルガノポリシルメチレン。 （もっと読む）

【課題】 成形加工性に優れ、近赤外線吸収性を有するかつ硬化性組成物及びその硬化物を提供することである。さらにまた耐リフロー性を有することにより近赤外線吸収光学部品用として有用な硬化物となる。
【解決手段】 ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を含有する有機化合物、ヒドロシリル化触媒、ＳｉＨ基含有ケイ素化合物、および近赤外線吸収剤からなる硬化性組成物及びその硬化物が近赤外線吸収光学部品用の組成物及び硬化物となる。 （もっと読む）

【課題】 発泡体の表面粘着性の上昇を押さえ、かつ、加熱養生後も黄変せず、硬くなりにくい変成シリコーン樹脂発泡体を提供すること。
【解決手段】 耐光性安定剤（Ｅ）として、ヒンダードフェノール系酸化防止剤、ヒンダードアミン系光安定剤、紫外線吸収剤を含んでなる変成シリコーン樹脂発泡体であって、紫外線吸収剤が、ベンゾエート系紫外線吸収剤、シアノアクリレート系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤、蓚酸アニリド系紫外線吸収剤、マロン酸エステル系紫外線吸収剤、ベンゾオキサジン系紫外線吸収剤、オキサゾロン系紫外線吸収剤、サリシレート系紫外線吸収剤、反応性紫外線吸収剤を反応・結合させた共重合樹脂型紫外線吸収剤から選ばれる少なくとも１種である変成シリコーン樹脂発泡体。 （もっと読む）

【課題】ポリカーボネート樹脂の撥水性、撥油性、防曇性、防汚性、汚れ除去性、耐湿性、潤滑性、耐摩耗性、離型性、耐薬品性、耐擦傷性といった表面特性を改質する。
【解決手段】ポリカーボネート樹脂とポリカルボシラン化合物とを含むポリカーボネート樹脂組成物。ポリカルボシラン化合物を用いることにより、透明性、耐熱性、耐衝撃性等の機械特性といったポリカーボネート樹脂本来の特性を損なうことなく、表面特性を改質することができる。 （もっと読む）

【課題】
耐熱耐久性、耐光耐久性に優れ、かつ、集合基板封止後の基板の反りが小さい硬化物を与えうる硬化性組成物を得ることである。
【解決手段】
（Ａ）ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を１分子中に少なくとも２個含有する有機化合物、（Ｂ）１分子中に少なくとも２個のＳｉＨ基を含有する化合物（ただし、シロキサン骨格のみからなる化合物を除く）、（Ｃ）ヒドロシリル化触媒を必須成分として含有する硬化性組成物であり、耐熱耐久性、耐光耐久性に優れ、かつ、樹脂硬化後の薄板（被着体）の反りが小さい硬化性組成物。 （もっと読む）

本発明は、本質的に有機溶剤不含で、かつ架橋の際にも本質的にアルコールを遊離しないトリス−シリル化アミノ官能性ケイ素化合物をベースとする水性組成物及びその製造法、及び金属表面、ガラス表面又は鉱物表面、例えば、コンクリート及び煉瓦を疎水化するための、定着剤としての又は特に岩石を固定するためのその使用に関する。 （もっと読む）

【解決手段】熱硬化型オルガノポリシロキサン組成物１００質量部に、（Ｅ）平均粒子径が２００μｍ以下で、真比重が０．５以下である有機樹脂製中空フィラー：０．１〜５０質量部、及び（Ｆ）平均粒子径が１〜３０μｍで、かさ密度が０．１〜０．５ｇ／ｃｍ³である無機充填剤：０．５〜３０質量部を含有することを特徴とする低比重シリコーンゴム組成物。
【効果】本発明のシリコーンゴム組成物によれば、軽量で、ゴム強度、シール特性に優れたシリコーンゴムを得ることができ、該シリコーンゴムは、定着ロール用として好適である。 （もっと読む）

【課題】所定のリタデーション値を有し、高透明であり、位相差の耐熱性に優れた位相差フィルムを提供する。
【解決手段】（１）所定のシリコーン樹脂と、（２）光重合開始剤及び／又は（３）熱重合開始剤とを含む樹脂組成物を硬化させて、１００℃で１０時間の加熱処理をした後の位相差フィルムの位相差値変化量が０〜２０ｎｍである位相差フィルムであり、また、樹脂組成物における上記（１）成分の不飽和基を０．１％〜５０％減少させる一次硬化により樹脂成形体を得た後、この樹脂成形体を所定の形状に切り出して延伸治具に固定し、任意方向に延伸倍率５〜７００％の範囲で延伸させて延伸樹脂成形体を得て、この延伸樹脂成形体を延伸治具に固定した状態で更に加熱及び／又はエネルギー線を照射して二次硬化させ、その後、室温まで冷却する位相差フィルムの製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 トランスミッションオイルの泡立ちが少なく、耐油性に優れたシールを与える脱アルコール型の一液型室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物を提供する。
【解決手段】 下記成分（Ａ）〜（Ｅ）を含むことを特徴とする低起泡性室温硬化型オルガノポリシロキサン組成物。
（Ａ）１分子当たり少なくとも２つのシラノール基またはアルコキシ基を有し、重合度が１０以上であるジオルガノポリシロキサン １００質量部
（Ｂ）無機充填剤 １０〜３００質量部
（Ｃ）下記一般式（７）で示されるアルコキシシラン、その部分加水分解物、又はその組み合わせ
Ｒ^１_4-nＳｉ（ＯＲ）_ｎ （７）
（式中、Ｒは、互いに独立に、炭素数１〜４のアルキル基であり、Ｒ^１は、互いに独立に、炭素原子数１〜２０の置換もしくは非置換の一価の基、及びｎは２〜４の整数である） １〜３０質量部
（Ｄ）硬化触媒 ０．０１〜１５質量部
（Ｅ）シランカップリング剤 ０．０５〜１５質量部。 （もっと読む）

【課題】保存安定性に優れており、Ｓｉ含有量が多く且つレジスト材料の染み込み量が少ないシリコン含有膜を形成することができると共に、裾引き等のないレジストパターンを安定して形成することができる多層レジストプロセス用シリコン含有膜形成用組成物及びシリコン含有膜並びにパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本シリコン含有膜形成用組成物は、（Ａ）テトラアルコキシシラン由来の構造単位（ａ１）、及びヘキサアルコキシジシラン由来の構造単位（ａ２）を含有しており、前記構造単位（ａ１）の含有割合を１００モル％とした場合に、前記構造単位（ａ２）の含有割合が１０〜３０モル％であるポリシロキサンと、（Ｂ）有機溶媒と、を含有するものである。 （もっと読む）

【課題】自ら被膜となり、燃焼時に必要な空気の供給を抑制する効果を併せ持つ、難燃剤を提供する。
【解決手段】（ａ）以下の式で表わされるアミノ基を含むシラン化合物
Ｒ_４−ｎ−Ｓｉ−（ＯＲ’）_ｎ
（式中、Ｒはアミノ基含有の有機基を表わし、Ｒ’はメチル基、エチル基またはプロピル基を表わし、ｎは１〜３から選択される整数を表わす）；及び
（ｂ）Ｈ_３ＢＯ_３及びＢ_２Ｏ_３からなる群から選択される少なくとも１種のホウ素化合物：
を、（ａ）成分１モルに対して（ｂ）成分０．０２モル以上の比率で反応させて得られる反応生成物を含む、高分子物質と、
（ｃ）リン化合物からなる群から選択される少なくとも一種の化合物と、
を含む、難燃剤。 （もっと読む）

【課題】
成型加工性、透明性、耐熱性、耐光性に加え、耐クラック性に優れる多面体構造ポリシロキサン変性体および該変性体を用いた組成物および硬化物を提供する。
【解決手段】
（Ａ）アルケニル基および／またはヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）をヒドロシリル化反応可能なヒドロシリル基および／またはアルケニル基を有する環状シロキサン化合物（ｂ）で変性して得られる多面体構造ポリシロキサン変性体、
（Ｂ）アルケニル基および／またはヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）を分子末端にヒドロシリル化反応可能なヒドロシリル基および／またはアルケニル基を有する直鎖状シロキサン化合物（ｃ）で変性して得られる多面体構造ポリシロキサン変性体、
を含有することを特徴とするポリシロキサン組成物。 （もっと読む）

【課題】成型加工性、透明性、耐熱性、耐光性に優れ、さらには、耐クラック性、耐冷熱衝撃性に優れる、特には液状の多面体構造ポリシロキサンを用いることを特徴とするポリシロキサン系組成物と硬化物を提供する。
【解決手段】アルケニル基および／またはヒドロシリル基を含有する多面体構造ポリシロキサン系化合物（ａ）に対して、前記（ａ）成分とヒドロシリル化反応可能なヒドロシリル基および／またはアルケニル基を有する化合物（ｂ）を変性して得られた多面体構造ポリシロキサン変性体（Ａ）、および、シリコーン系粒子（Ｂ）、を必須成分としてなるポリシロキサン系組成物。 （もっと読む）

【課題】レジスト材料の染み込み量が少ないシリコン含有膜を形成することができ、且つ裾引き等のないレジストパターンを安定して形成することができる多層レジストプロセス用シリコン含有膜形成用組成物及びシリコン含有膜並びにパターン形成方法を提供する。
【解決手段】本シリコン含有膜形成用組成物は、下記一般式（１）で表される化合物（ａ１）、下記一般式（２）で表される化合物（ａ２）、及び下記一般式（３）で表される化合物（ａ３）に由来する重合体（Ａ）と、溶剤（Ｂ）と、を含有する。


〔式中、各Ｒ^１はそれぞれ独立に炭素数１〜４のアルキル基を示し、各Ｒ^２は１価の有機基を示し、Ｒ^３は水素原子、フッ素原子又は１価の有機基を示し、各Ｒ^４は１価の有機基を示す。〕 （もっと読む）

【課題】低粘度でありながら高チクソ性を有し、一回の塗装で厚膜化が可能であり、しかも得られる硬化塗膜はゴム強度、表面平滑性に優れ、長期間優れた防汚性能が発揮される室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物の製造方法及び該製造方法により得られた組成物によりコーティングされた基材を提供する。
【解決手段】（Ａ）１分子中に少なくとも２個のケイ素原子に結合した水酸基及び／又は加水分解性基を有するジオルガノポリシロキサン、（Ｂ）分子中にケイ素原子を有するアルキレンオキサイド化合物、（Ｃ）シリカ、（Ｄ）加水分解性基を１分子中に２個以上有するシラン及び／又はその部分加水分解縮合物を含有する室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物の製造方法であって、（Ａ）成分、（Ｂ）成分及び（Ｃ）成分を加熱混合し、次いで残りの成分を混合することを特徴とする室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 高熱伝導性を有し、取扱作業性が優れる熱伝導性シリコーン組成物を提供する。
【解決手段】 (Ａ)２５℃における粘度が１００ｍＰa・ｓ以上であるオルガノポリシロキサン、(Ｂ)平均粒子径０.１〜１００μｍのアルミニウム粉末、(Ｃ)平均粒子径０.０５〜５０μｍの酸化亜鉛粉末、(Ｄ)脂肪族不飽和結合を有する一価炭化水素基を含有する特定のオルガノポリシロキサン、脂肪族不飽和結合を含有さない一価炭化水素基を含有する特定のオルガノポリシロキサン、又はそれらの混合物、及び(Ｅ)特定のシラン化合物又はその部分加水分解縮合物から少なくともなる熱伝導性シリコーン組成物。 （もっと読む）

【課題】加硫されたゴム配合物の動的粘弾性及び機械特性を向上させ、特にトレッドストックがタイヤのスノートラクションを向上させ、ウェットトラクションは同等であるが転がり抵抗をより低くし、反発性を増大させ、ヒステリシスを低減し、タイヤ性能を全般的に改良したタイヤ構成物品の提供。
【解決手段】エラストマー；シリカ、カーボンブラック、及びこれらの混合物から選ばれる補強性充填剤；硬化剤；及びアミノＡＭＳ、アミノ／メルカプタンｃｏ−ＡＭＳ、アミノ／ブロック化メルカプタンｃｏ−ＡＭＳ、これらの混合物、並びに弱酸で中和された固体及びその水溶液からなる群より選ばれる１種若しくはそれ以上の化合物を含むアミノアルコキシ変性シルセスキオキサン（ＡＭＳ）を含む加硫性ゴム組成物。 （もっと読む）

【課題】分散処理を行わなくとも、金属酸化物微粒子が安定に分散され、高い屈折率及び高い透明性を有することができる樹脂組成物、並びに該樹脂組成物を用いて光半導体素子を封止してなる光半導体装置を提供する。
【解決手段】金属酸化物微粒子分散液の存在下で、特定のケイ素化合物と、メトキシ基含有量が１０〜５０重量％であるポリジメチルシロキサン化合物又は式（II）：


（式中、R^３及びR^４は、それぞれ独立してメチル基、エチル基又はプロピル基を示す）で表されるケイ素化合物とを反応させて得られる、前記金属酸化物微粒子を含有してなる樹脂組成物、並びに前記樹脂組成物を用いて光半導体素子を封止してなる光半導体装置。 （もっと読む）

【課題】耐薬品性（特に耐エンジンオイル性）に優れ、かつ油面接着性に優れた硬化物を与える室温硬化型オルガノポリシロキサン組成物、及びその硬化物よりなるシールを提供する。
【解決手段】（Ａ）一般式（１）〜（４）で示されるオルガノポリシロキサンから選ばれる１種又は２種以上、（Ｂ）表面が脂肪酸及び／又はパラフィン系の処理剤で処理されている重質炭酸カルシウム、（Ｃ）吸油性炭素粉末、（Ｄ）一般式（５）で示されるシラン又はその部分加水分解物、（Ｅ）硬化触媒及び（Ｆ）分子内にイソシアネート基を１個有する有機化合物を含有することを特徴とする油面接着性室温硬化型オルガノポリシロキサン組成物。 （もっと読む）