【課題】低粘度、高チクソ性などに優れ、一回の塗装で厚膜化が可能であり、しかも得られる硬化塗膜はゴム強度、表面平滑性に優れ、長期間優れた防汚性能が発揮される防汚性縮合硬化型オルガノポリシロキサン組成物の製造方法、該方法により得られる組成物、及びこの組成物の硬化物でコーティングされた水中構造物を提供する。
【解決手段】（Ａ）珪素原子に結合した縮合硬化反応性基を有しない非置換又は置換の一価炭化水素基を有するジオルガノポリシロキサンの一部又は全部と、（Ｂ）シリカの一部又は全部を混合し、次いで、（Ａ）、（Ｂ）成分の残部と、（Ｃ）１分子中に２個以上の珪素原子に結合した水酸基及び／又は加水分解性基を有するジオルガノポリシロキサン、（Ｄ）加水分解性基を１分子中に２個以上有するシラン及び／又はその部分加水分解縮合物とを混合する防汚性縮合硬化型オルガノポリシロキサン組成物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】３．７以下の誘電率を有するシリカ系の材料及び膜、並びにそれを作製及び使用するための組成物及び方法を提供すること。
【解決手段】シリカ系材料を調製するための組成物であって、少なくとも１つのシリカ源と、溶剤と、少なくとも１つのポロゲンと、任意選択で触媒と、任意選択で流動添加剤とを含み、該溶剤が、９０℃〜１７０℃の温度で沸騰し、化学式、ＨＯ−ＣＨＲ⁸−ＣＨＲ⁹−ＣＨ₂−ＣＨＲ¹⁰Ｒ¹¹（式中、Ｒ⁸、Ｒ⁹、Ｒ¹⁰及びＲ¹¹は、独立して１〜４個の炭素原子のアルキル基又は水素原子であることができる）；Ｒ¹²−ＣＯ−Ｒ¹³（式中、Ｒ¹²は３〜６個の炭素原子を有する炭化水素基であり；Ｒ¹³は１〜３個の炭素原子を有する炭化水素基である）；及びそれらの混合物によって表される化合物から成る群より選択された組成物によって上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】
本発明の課題は、射出成形可能な優れた作業性および良好な離型性を有するとともに、透明性に優れ、硬度が高く、線膨張が低いといった特徴をも有する硬化物を与えうる射出成形用硬化性組成物を提供することである。
【解決手段】
（Ａ）ＳｉＨ基と反応性を有する炭素−炭素二重結合を１分子中に少なくとも２個含有する有機化合物、（Ｂ）１分子中に少なくとも２個のＳｉＨ基を含有する化合物、（Ｃ）ヒドロシリル化触媒、および、（Ｄ）離型剤を必須成分として含有する硬化性組成物であって、前記硬化性組成物を硬化してなる硬化物はガラス転移点が７０℃以上であり、かつ、硬化物（３ｍｍ厚）の波長４００ｎｍにおける光線透過率が６０％以上である、射出成形用硬化性組成物。 （もっと読む）

【課題】電子デバイスなどの層間絶縁膜に用いられる低い誘電率と優れた機械強度を有する層間絶縁膜を形成できる絶縁膜形成用組成物を提供する。
【解決手段】少なくとも下記一般式（１）で表される化合物と下記一般式（２）で表される化合物とを酸触媒により脱水縮合して得られるポリマーを含有することを特徴とする。
【化１】


（Ｒ_１〜Ｒ_４のうち、少なくとも２つはヒドロキシル基、メトキシ基等から選ばれ、残りはメチル基、エチル基等から選ばれる。Ａはカゴ型構造を有する構造を表し、Ｙ_１〜Ｙ_４のうち少なくとも２つはヒドロキシル基であり、残りは水素、メチル基、エチル基等から選ばれる。） （もっと読む）

【課題】本発明は、落下時のＨＤＤに加わる衝撃を十分吸収できる特性を備えたゴム状弾性体であって、臭素系難燃添加剤を用いることなく、難燃性を備えたゴム状弾性体を提供することを目的とする。
【解決手段】自己消炎性を有するゴム組成物が、エチレンプロピレンゴム100重量部に対し、難燃剤としてリン・窒素含有化合物30〜100重量部含有しており、ゴム硬度（Ｄｕｒｏ−Ａ）30〜50であって、損失正接ｔａｎσが100ＨＺで0.3以上であることを特徴とする。 （もっと読む）

ＳｉＨ含有オルガノポリシロキサン樹脂及び分子中に少なくとも２個の脂肪族不飽和基を有する有機化合物との反応からのシリコーンエラストマーを含むゲル組成物が開示される。 （もっと読む）

シリコーンと第１の溶媒との混合物、薬物（例えば、親水性または親油性の薬剤など）、ジアルキルスルホコハク酸塩〔例えば、ナトリウムジオクチルスルホスクシネート（ＤＯＳＳ）など〕、および第２の溶媒（例えば、アルコールなど）を含む組成物を提供する。ジアルキルスルホコハク酸塩が薬物を可溶化する。本組成物は、薬物を送達するために、局所的に基質、例えば皮膚などに適用することができる。広範な溶解度範囲を有する薬物が、薬物の分離または結晶化を起こすことなく、本組成物中に可溶性かつ相溶性である。 （もっと読む）

【課題】長期間の繰り返し使用によってもトナーやトナーに用いられる外添剤などが表面に固着しにくく、高温高湿環境下で水分の影響を適度に受け、ＤＣ接触帯電方式に用いても、長期間安定した帯電及び画像出力が可能な帯電部材を提供する。
【解決手段】最外層がオキシアルキレン基を有するポリシロキサンから形成されている帯電部材であって、該ポリシロキサン中の水酸基量（帯電部材表面にゲルマニウムプリズムを当接して顕微ＡＴＲ−ＩＲ法にて全反射の赤外線吸収強度を測定した時、Ｃ−Ｈ伸縮振動由来のピーク（２９３２ｃｍ^-1）の強度を１００とし、それに対する水酸基由来のピーク（３３５２ｃｍ^-1）の強度の大きさ）が５０．０％以上１００．０％以下であることを特徴とする帯電部材。 （もっと読む）

ジシリロキサン単位を含むシリコーン樹脂と、炭素ナノ材料と、有機溶媒とを含むナノ材料充填シリコーン組成物；及び、該シリコーン樹脂の硬化生成物と、硬化生成物中に分散される炭素ナノ材料とを含む強化シリコーン樹脂フィルム。 （もっと読む）

【課題】 半導体装置製造のリソグラフィ−工程においてフォトレジストの下層に使用される下層膜を形成するためのリソグラフィ−用下層膜形成組成物を提供する。
【解決手段】 ケイ素含有ポリマー（ａ）、及び多核フェノール（ｂ）を含む半導体装置製造のリソグラフィー工程に用いるレジスト下層膜形成組成物。ケイ素含有ポリマー（ａ）が、ポリシロキサン（ａ１）、ポリシラン（ａ２）、ポリカルボシラン（ａ３）、又はそれらの組み合わせである。多核フェノール（ｂ）が、分子内に２乃至３０個のフェノール性水酸基を有する化合物である。多核フェノール（ｂ）が、分子内に２乃至１０個のフェノール基を有する化合物である。 （もっと読む）

本発明は、中和シリコーンエラストマー分散体、及び中和シリコーンエラストマー分散体を製造する方法に関する。本発明はまた、中和シリコーンエラストマーと酸反応性化合物とを含む組成物に関する。シリコーンエラストマー分散体は、典型的に、シリコーンエラストマー分散体を重炭酸ナトリウム等の塩基と配合させることによって、又は塩基性中和剤を、シリコーンエラストマー分散体を生成するのに用いられる原料の１つ又は複数に添加すると共に、濾過又は任意の他の好適な手段により塩基性中和剤を除去することによって中和される。 （もっと読む）

【課題】有機ケイ素化合物並びにそれを架橋可能な材料、縮合反応によって架橋可能な材料であって、封止材料として使用できる材料、とりわけ継ぎ目封止材料を提供する。
【解決手段】酸素原子以外の連結基による結合を生成する、またはシロキサン結合を生成する有機ケイ素化合物で示される単位を含む有機ケイ素化合物からなる直鎖状、分枝鎖状又は環状であって、好ましくは直鎖状又は分枝鎖状であり、とりわけ継ぎ目封止材料のためには、継ぎ目周辺が疎水化されず、天然石及びガラスと接触する用途に当てはまり、勾配なく均一な完全硬化がされる。 （もっと読む）

【課題】ハードコート特性と防錆機能を有する高分子組成物を提供する。
【解決手段】
（ａ）以下の式で表わされるアミノ基を含むシラン化合物
Ｒ_４−ｎ−Ｓｉ−（ＯＲ’）_ｎ
（式中、Ｒはアミノ基含有の有機基を表わし、Ｒ’はメチル基、エチル基またはプロピル基を表わし、ｎは１〜３から選択される整数を表わす）；及び
（ｂ）Ｈ_３ＢＯ_３及びＢ_２Ｏ_３からなる群から選択される少なくとも１種のホウ素化合物：
を、（ａ）成分１モルに対して（ｂ）成分０．０２モル以上の比率で反応させて得られる反応生成物を含む、高分子物質と、
（ｃ）イミダゾール系窒素へテロ環化合物、トリアゾール系窒素へテロ環化合物、テトラゾール系窒素へテロ環化合物、及びピラゾール系窒素へテロ環化合物、並びにこれらの化合物の塩から成る群から選択される少なくとも一種の化合物と、
を含む、高分子組成物。 （もっと読む）

【課題】ハードコート特性と光触媒機能を有する高分子組成物を提供する。
【解決手段】
（ａ）以下の式で表わされるアミノ基を含むシラン化合物
Ｒ_４−ｎ−Ｓｉ−（ＯＲ’）_ｎ
（式中、Ｒはアミノ基含有の有機基を表わし、Ｒ’はメチル基、エチル基またはプロピル基を表わし、ｎは１〜３から選択される整数を表わす）；及び
（ｂ）Ｈ_３ＢＯ_３及びＢ_２Ｏ_３からなる群から選択される少なくとも１種のホウ素化合物：
を、（ａ）成分１モルに対して（ｂ）成分０．０２モル以上の比率で反応させて得られる反応生成物を含む、高分子物質と、
（ｃ）光触媒活性を有する酸化物半導体と、
を含む、高分子組成物。 （もっと読む）

本発明の技術分野は、湿度の無い状態での保存中でも安定で、室温及び水分が存在する状態で重縮合反応を経由してシリコンエラストマーを与える架橋が可能な単一成分の無錫シリコン組成物に係る。該エラストマーは、種々の支持体に接着し、素早く硬化する。該シリコン組成物は、アルコキシ官能性ポリオルガノシロキサン（ＰＯＳ）、カルボン酸及び／又はカルボン酸無水物、随意的に、燻蒸したシリカ型の無機充填剤、アルコキシ官能性ＰＯＳ樹脂、及び、錫を含まない有機金属化合物を含んでいる。 （もっと読む）

【課題】従来の欠点を改良し、熱伝導性充填剤から発生する水素ガスを抑えることができ、保存性に優れており、硬化後は低硬度の硬化物を与える室温硬化型熱伝導性シリコーンゴム組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）分子鎖両末端が水酸基および／またはオルガノオキシ基で封鎖されたジオルガノポリシロキサン、（Ｂ）パラジウム粉末以外の熱伝導性充填剤、（Ｃ）加水分解性基を２個以上有するオルガノシランおよびその部分加水分解縮合物のどちらか一方または両方、ならびに（Ｄ）パラジウム粉末、を含有してなる室温硬化型熱伝導性シリコーンゴム組成物。 （もっと読む）

【解決手段】（Ａ）両末端がトリアルコキシシリル基で封鎖されたポリオルガノシロキサン、
（Ｂ）両末端がジアルコキシモノオルガノシリル基で封鎖されたポリオルガノシロキサンからなるポリオルガノシロキサン、
（Ｃ）式（１）


で表される片末端トリオルガノオキシポリオルガノシロキサン硬化剤、
（Ｄ）式（２）


で示されるオルガノトリアルコキシシラン、
（Ｅ）シリカ粉、
（Ｆ）チタンキレート触媒
を必須成分とする室温硬化性ポリオルガノシロキサン組成物。
【効果】本発明によれば、硬化前の組成物が低粘度であり、硬化後の特性は高い密着性を発現し、これらのバランスにより優れた剥離性を生じさせ、更には保存性も良好である硬化物が得られるものである。 （もっと読む）

【課題】熱伝導性に優れ、低硬度でオイルブリードの発生し難い硬化物を与える熱伝導性シリコーン組成物及びそれを用いた半導体装置を提供する。
【解決手段】（Ａ）両末端がジアルコキシモノオルガノシリル基で封鎖されたポリオルガノシロキサンもしくは両末端がトリアルコキシシリル基で封鎖されたポリオルガノシロキサン、ならびに（Ｂ）片末端にジアルコキシモノオルガノシリル基を有するポリオルガノシロキサンもしくは片末端にトリアルコキシシリル基を有するポリオルガノシロキサンの合計量１００重量部（但し、重量基準で（Ａ）／（Ｂ）＝（０〜９５）／（１００〜５）となる量）に対し、（Ｃ）脂肪酸１〜１０重量部、（Ｄ）硬化触媒０．０１〜１０重量部、（Ｅ）熱伝導性充填剤２００〜２０００重量部を含有し、硬化後の熱伝導率が２．０Ｗ／（ｍ・Ｋ）以上であることを特徴とする熱伝導性シリコーン組成物及びそれを用いた半導体装置。 （もっと読む）

【課題】 取扱作業性が良好で、低弾性率の硬化物を形成する硬化性シリコーン組成物を提供する。
【解決手段】 (Ａ)一般式：Ｘ−Ｒ²−(Ｒ¹₂ＳiＯ)_mＲ¹₂Ｓi−Ｒ²−Ｘ｛式中、Ｒ¹は脂肪族不飽和結合を有さない炭素数６以下の一価炭化水素基、Ｒ²はアルキレン基、Ｘは、平均単位式：(ＹＲ¹₂ＳiＯ_1/2)_a(ＳiＯ_4/2)_b（式中、Ｒ¹は前記と同じ、Ｙは単結合、水素原子、前記Ｒ¹、エポキシ基含有アルキル基、アルコキシシリルアルキル基、または炭素数７以上のアルキル基、但し、一分子中、少なくとも１個のＹは単結合、少なくとも１個のＹは炭素数７以上のアルキル基、ａ、ｂは正数、かつａ／ｂは０.２〜４.０の数）で表されるオルガノポリシロキサン残基、前記Ｒ¹、またはアルケニル基、但し、少なくとも１個のＸは前記オルガノポリシロキサン残基、ｍは１以上の整数｝で表されるジオルガノポリシロキサンおよび(Ｂ)エポキシ樹脂用硬化剤からなる硬化性シリコーン組成物。 （もっと読む）

【課題】光学素子等の封止材料として有用な高硬度で、耐熱性、耐クラック性に優れた硬化性組成物を提供する
【解決手段】(Ａ)(a)２個のヒドロシリル基を有する特定の有機ケイ素化合物と、
(b)付加反応性炭素−炭素二重結合を１分子中に２個有する多環式炭化水素との付加反応生成物であって、かつ、付加反応性炭素−炭素二重結合を１分子中に少なくとも２個有する付加反応生成物、
(Ｂ)ケイ素原子に結合した水素原子を１分子中に３個以上有する化合物、および
(Ｃ)ヒドロシリル化反応触媒
(Ｄ)一分子中にヒンダードアミン構造とフェノール構造を有する安定化剤
を含む多環式炭化水素基含有シリコーン系硬化性組成物。 （もっと読む）