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Fターム[4J002FB15]の内容

高分子組成物 (583,283) | 前処理された配合成分の使用 (8,048) | 有機物質で処理された配合成分 (6,515) | Si含有化合物による処理 (3,143) | S含有Si化合物 (303)

Fターム[4J002FB15]に分類される特許

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【課題】硬化前は高流動性を有し、硬化して高強度の硬化物を与える白色熱硬化性シリコーン樹脂組成物及び該組成物の硬化物をリフレクターとして用いた光半導体装置を提供する。
【解決手段】(A)ヒドロキシ基を含有するポリスチレン換算の重量平均分子量が500〜20000のレジン状オルガノポリシロキサン、(B)アルコキシ基もしくはヒドロキシ基又はこれらの組み合わせを含有し、シルフェニレン部位を有する有機ケイ素化合物(C)白色顔料、(D)(C)成分以外の無機充填剤、及び(E)硬化触媒、を含む白色熱硬化性シリコーン樹脂組成物;光半導体素子と上記組成物の硬化物を含むリフレクターとを備える光半導体装置。 (もっと読む)


【課題】高光反射率及び低光透過率といった優れた光特性を有する硬化物を与える白色熱硬化性シリコーン樹脂組成物及び該組成物の硬化物をリフレクターとして用いた光半導体装置を提供する。
【解決手段】(A)ヒドロキシ基を含有するポリスチレン換算の重量平均分子量が500〜20000のレジン状オルガノポリシロキサン、(B)直鎖状構造のジオルガノポリシロキサン残基を有し、ヒドロキシ基を含有するオルガノポリシロキサン、(C)白色顔料、(D)(C)成分以外の無機充填剤、(E)蛍光増白剤、及び(F)硬化触媒、を含む白色熱硬化性シリコーン樹脂組成物;光半導体素子と上記組成物の硬化物を含むリフレクターとを備える光半導体装置。 (もっと読む)


【課題】高い機械的強度を得ることができると共に、塗布形状の保持性を高く得ることができるエポキシ樹脂組成物を提供する。
【解決手段】半導体素子2を基板3に実装して形成された半導体装置4に関する。室温で液状のエポキシ樹脂組成物1を前記半導体素子2の周囲又はその一部のみに塗布し硬化させることによって前記半導体素子2と前記基板3とが接着されている。前記半導体素子2と前記基板3との隙間の全体にわたって充填させないようにしている。前記エポキシ樹脂組成物1が、エポキシ樹脂、硬化剤、無機充填材を含有する。前記無機充填材として、平均アスペクト比が2〜150の鱗片状無機物が、前記エポキシ樹脂組成物1全量に対して0.1〜30質量%含有されている。前記エポキシ樹脂組成物1のチクソ指数が3.0〜8.0である。 (もっと読む)


【課題】環境保護の観点からタイヤに対する省燃費化、省資源化、耐摩耗性の改善の要求のために、スコーチ性に優れ、低粘度のゴム組成物を与え、その架橋物の転がり抵抗に相当する損失正接を低減し、ウエットグリップに相当する低温部の損失正接の低下が少ないゴム組成物およびその製造方法を提供する。
【解決手段】不飽和基含有ゴムに、シランカップリング剤により表面処理された表面処理シリカ系フィラー、シリカ系フィラー及びシランカップリング剤を含むゴム組成物及びその架橋物である。 (もっと読む)


【課題】ブタジエン系重合体ゴムにシリカ及びヒドラジド化合物を配合した、耐摩耗性、低燃費性、及びウェットグリップ性に優れたゴム組成物、及びそれを用いたタイヤを提供すること。
【解決手段】本発明のゴム組成物は、ゴム成分として、(A)質量平均分子量が0.6〜170万である溶液重合した変性ブタジエン重合体及び/又は変性スチレン−ブタジエン共重合体からなる変性ブタジエン系重合体ゴムを10質量%以上含み、補強充填剤として、(B)100〜350m/gのBET比表面積で、表面の含水率が0.50〜5.00質量%のシリカをゴム成分100質量部に対して80〜250質量部含み、また、(C)ヒドラジド化合物をゴム成分100質量部に対して0.2〜4質量部を含むことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】無色透明性及び寸法安定性のバランスに優れたポリイミド樹脂組成物、及びそれを含むポリイミド系複合フィルムを提供すること。
【解決手段】
ポリイミド(A)と、
有機化層状珪酸塩(B)と、
を含むポリイミド樹脂組成物であって、
前記ポリイミド(A)は、テトラカルボン酸二無水物と下記式(1)で表されるジアミンとを重合することにより得られる重合体であり、
【化1】


前記有機化層状珪酸塩(B)は、交換性陽イオンの一部が有機オニウムイオンにより置換された層状珪酸塩である、ポリイミド樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】半導体素子を封止する際の流動性および硬化性に優れた樹脂組成物を得ることができる樹脂組成物の製造方法、樹脂組成物および半導体装置を提供すること。
【解決手段】本発明の樹脂組成物の製造方法は、回路基板110上に設置された半導体チップ120を封止する樹脂組成物であって、その封止の際に、回路基板110と半導体チップ120との間の隙間にも充填される樹脂組成物を製造する製造方法であって、硬化性樹脂の粉末材料および第1の無機充填材の粉末材料を含む原材料を粉砕する粉砕工程と、第2の無機充填材の粉末材料に対し、表面処理を行う表面処理工程と、粉砕後の前記原材料と、表面処理された前記第2の無機充填材とを混合する混合工程と、前記混合工程で混合された混合物を混練する混練工程とを有する。 (もっと読む)


【課題】耐熱性、動特性に優れるとともに、加硫成形時の可塑剤のブリードに起因する融着不良、成形不良を解消することができる防振ゴム組成物を提供する。
【解決手段】下記の(A)および(B)成分とともに、下記の(C)成分を含有する防振ゴム組成物であって、(C)成分の配合量が、(A)成分100重量部に対して5〜20重量部の範囲である防振ゴム組成物とする。
(A)キサントゲン変性クロロプレンゴム。
(B)可塑剤。
(C)アミン系シランカップリング剤、エポキシ系シランカップリング剤、ビニル系シランカップリング剤、メルカプト系シランカップリング剤およびスルフィド系シランカップリング剤からなる群から選ばれた少なくとも一つのシランカップリング剤で表面処理されたシリカ。 (もっと読む)


【課題】より高度な耐熱性および耐放射線性を有し、燃焼した場合にもハロゲンガス等の有毒または腐食性のガスを発生することのない、ノンハロゲン難燃性ゴム組成物、およびそれを用いてなるノンハロゲン難燃性電線またはケーブルを提供する。
【解決手段】ジエン含有量が10質量%以下のエチレン・プロピレン・ジエンゴムを含有し、ポリマー全体のジエン含有量が0.5質量%〜3.0質量%であるポリマーと、シラン処理水酸化マグネシウムおよび、脂肪酸またはリン酸エステル処理水酸化マグネシウムを含有させて、ノンハロゲン難燃性ゴム組成物とする。 (もっと読む)


【課題】透明被膜の白化が抑制され、優れた耐擦傷性や密着性を発揮することが可能な中空シリカ微粒子とその製造方法を提供する。
【解決手段】動的光散乱法により測定される平均粒子径が5〜300nm、比表面積が50〜1500m/gであり、外殻の内部に空洞が形成されてなる中空のシリカ微粒子であって、熱重量測定(TG)により、200℃〜500℃の温度範囲において1.0重量%以上の重量減少を示す。また、この中空シリカ微粒子は、200℃〜500℃の温度範囲での示差熱保持測定(DTA)において、正のDTAピークを有する。中空シリカ微粒子が分散したオルガノゾルを調製し、30℃〜300℃の温度範囲で、該オルガノゾルにシラン化合物およびアルカリ触媒を添加し、シリカ配合量に対して水分量が0.1〜50重量%の条件で、該シラン化合物と該中空シリカ微粒子を反応させ製造する。 (もっと読む)


【課題】ろ過処理したときに粒径が大きなシリカを精度よく除去し、塗工性に優れたろ過処理樹脂ワニスを得ることができ、かつ該ろ過処理樹脂ワニスの量産性を高めることができる樹脂ワニスを提供する。
【解決手段】本発明に係る樹脂ワニスは、エポキシ樹脂と、硬化剤と、シランカップリング剤により表面処理されたシリカとを含有する。本発明に係る樹脂ワニスでは、23℃及び3.83[1/s]での粘度が、150mPa・s以上、1000mPa・s以下であり、23℃及び3.83[1/s]での粘度(mPa・s)の23℃及び191.5[1/s]での粘度(mPa・s)に対する粘度比が、1.0以上、3.0以下である。 (もっと読む)


【課題】熱分解温度やガラス転移温度が高い有機−無機ハイブリッド樹脂硬化物を提供する。
【解決手段】トリアジン環を含む熱硬化性樹脂に無機ナノ粒子が分散した構造であり、可視光に対して透明である有機−無機ハイブリッド樹脂硬化物を特徴とする。熱硬化性樹脂は、耐熱性が高い2,2−ビス(4−シアナトフェニル)プロパンに代表されるシアネート樹脂、あるいはビスマレイミドジフェニルエタンと2,2−ビス(4−シアナトフェニル)プロパンの共重合体であることが望ましい。樹脂中に分散する無機ナノ粒子はシリカ,チタニア,アルミナ,ジルコニアの少なくとも1種類以上の金属酸化物粒子から成り、無機ナノ粒子の粒径は、無機ナノ粒子の高い比表面積効果が得られる1nm〜100nmであることが望ましい。本発明により、ガラス転移温度や熱分解温度が高く、硬化温度が低い有機−無機ハイブリッド樹脂硬化物を提供できる。 (もっと読む)


【課題】ウエハーレベルパッケージ、とりわけ圧縮成形でウエハー状に形成されたウエハーレベル工程で製造される半導体装置において、高信頼性を提供すること。
【解決手段】(A)脂環式エポキシ樹脂、(B)エポキシ樹脂用硬化剤、(C)無機充填材、及び(D)硬化促進剤を含む液状樹脂組成物であって、(C)無機充填材が全液状樹脂組成物中に、80重量%以上95重量%以下含まれ、25℃での粘度が50Pas以上で500Pas以下である事を特徴とする液状樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】優れた耐トラッキング性、耐熱性、耐熱水性及び難燃性を併せ持ち、かつSPSが本来有する良好な成形性、耐薬品性、機械的強度を有する難燃性スチレン系樹脂組成物及びその成形体を提供する。
【解決手段】(A)主としてシンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体70〜99質量%及び(B)スチレン系エラストマー30〜1質量%からなるスチレン系重合体混合物100質量部に対して、(C)酸化マグネシウム、アルミナ1水和物及びタルクから選択される少なくとも1種5〜40質量部、(D)難燃剤5〜30質量部、(E)難燃助剤1〜10質量部並びに(F)繊維強化材20〜200質量部を含む難燃性スチレン系樹脂組成物である。 (もっと読む)


【課題】優れた機械的強度、寸法安定性、表面平滑性、加工性、透明性、耐久性を有するとともに、発泡等の問題を生じない樹脂組成物を提供する。
【解決手段】炭酸カルシウムに対して0.01〜1.0重量%の燐を含有し、電子顕微鏡観察で観測されるアスペクト比が2〜50の針状炭酸カルシウム粒子からなる充填剤が含有されていることを特徴とする樹脂組成物である。 (もっと読む)


【課題】難燃性、機械特性、耐油性及び耐磨耗性に優れ、さらに高温下における熱変形に優れた難燃性樹脂組成物及び成形物品を提供する。
【解決手段】(a)密度900kg/m以上のエチレン−α−オレフィン共重合体30〜80質量%、(b)ポリプロピレン樹脂20〜70質量%、(c)密度900kg/m未満のエチレン−α−オレフィン共重合体3〜35質量%、(d)不飽和カルボン酸で変性されたスチレン系エラストマー0〜30質量%からなる樹脂成分(A)100質量部に対し、水酸化マグネシウム(B)100〜280質量部を含有する難燃性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】回路基板の絶縁層形成に好適に使用することができ、特に絶縁樹脂シートの形態で使用する場合のラミネート性に優れ、熱膨張率が低く、しかも、それを硬化して得られる絶縁層表面の粗度が低くても高いピール強度を有する導体層の形成を可能にする樹脂組成物及び絶縁樹脂シートの提供。
【解決手段】(A)多官能エポキシ樹脂、(B)硬化剤、(C)フェノキシ樹脂及び/又はポリビニルアセタール樹脂、並びに(D)シラザン化合物で表面処理後、シランカップリング剤で表面処理された無機充填材を含有する樹脂組成物であって、当該樹脂組成物中の不揮発分100質量%に対し、成分(D)の含有量が50〜80質量%である樹脂組成物。また、かかる樹脂組成物の層が支持フィルム上に形成されてなる接着フィルム。また、かかる樹脂組成物が繊維からなるシート状繊維基材中に含浸されてなるプリプレグ。 (もっと読む)


【課題】青色レーザ光の波長(400nm)での光線透過率に優れるばかりでなく、線膨張係数も低い光学用成形体を提供する。
【解決手段】微量型高剪断成形加工機を用いて、シリンダー内で、溶融状態の樹脂を、無機微粒子と混練し、剪断成形加工することにより、得られる無機微粒子が分散された樹脂組成物であって、前記樹脂100重量部に対して、前記無機微粒子が5重量部以上40重量部以下であり、前記樹脂が、非晶性脂環構造含有重合体であり、前記微量型高剪断成形加工機の剪断速度が1000〜3000sec−1であり、前記溶融状態の樹脂の温度が、Tg+120℃≦樹脂の温度≦Tg+145℃の範囲である(ここでTgは、非晶性脂環構造含有重合体のガラス転移温度を意味する)、ことを特徴とする樹脂組成物を射出成形した光学用成形体。 (もっと読む)


【課題】ゴム組成物の硬化物のヒステリシスロスを大幅に低下させると共に、耐磨耗性を大幅に向上させることが可能な含硫黄有機ケイ素化合物及びその製造方法、該含硫黄有機ケイ素化合物を含むゴム用配合剤、該ゴム用配合剤を配合してなるゴム組成物並びに該ゴム組成物の硬化物を用いたタイヤを提供する。
【解決手段】加水分解性シリル基、アミノ基及びメルカプト基を有する含硫黄有機ケイ素化合物。 (もっと読む)


【課題】原子力発電所、特にBWRの格納容器内に適用でき、耐熱性、耐放射線性及び電気特性に優れた組成物からなる絶縁体を備えた耐放射線性絶縁電線を提供する。
【解決手段】導体と、前記導体の周囲を被覆する絶縁層を備えた絶縁電線であって、前記絶縁層は、オレフィン系ポリマ100質量部に対し、老化防止剤を10〜15質量部、芳香族系プロセスオイルを5〜40質量部含有し、更に焼成クレーを5〜40質量部含有する耐放射線性絶縁電線である。 (もっと読む)


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