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Fターム[4J011AB05]の内容

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Fターム[4J011AB05]に分類される特許

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【課題】 貯蔵安定性に優れる塩化ビニル系共重合体ラテックス、および重合中に発生するスケールが少なく、pHが3〜8である塩化ビニル系共重合体ラテックスの製造方法を提供する。
【解決手段】 塩化ビニル−不飽和カルボン酸エステル共重合体100重量部に対して、スルホン酸塩又は硫酸エステル塩を有する有機化合物0.20〜10.0重量部及び高級脂肪酸塩0.05〜3.0重量部を含有し、pH3〜8であることを特徴とする塩化ビニル系共重合体ラテックス、並びにその製造方法。 (もっと読む)


【課題】所望の形状・寸法の電解質等を形成することが可能であり、しかも、イオン液体を化学的ないし物理的に安定化し得る皮膜付イオンゲルを得る。
【解決手段】イオンゲルからなるコア12の表面に皮膜14を形成し、皮膜付イオンゲル10とする。コア12(イオンゲル)は、第1の高分子のネットワークにイオン液体が取り込まれて形成された、前記第1の高分子と前記イオン液体の相溶化合物である。一方、皮膜14は、コア12に含まれる前記第1の高分子と、第2の高分子とが相互反応することで得られた反応生成物(高分子)で形成される。 (もっと読む)


【課題】重合体のロット間のバラツキを低減することができる、半導体リソグラフィー用重合体の製造方法を提供する。
【解決手段】重合溶媒の存在下で、重合開始剤を使用して、単量体をラジカル重合させて重合体を製造する方法であって、予め、重合反応容器内に、重合溶媒の少なくとも一部および/または単量体の少なくとも一部を仕込んだ後、重合反応を開始する前に、前記重合反応容器内を20kPa以下まで減圧した後に該重合反応容器内の気体を不活性ガスで置換するガスパージ工程を有する、半導体リソグラフィー用重合体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】低臭気、ポリマーシステム液の貯蔵安定性向上効果が良好かつ硬質発泡合成樹脂の寸法安定性向上効果が良好なポリマー分散ポリオールを製造する。
【解決手段】ポリオールX中で重合性不飽和基を有するモノマーMを重合してポリマー分散ポリオールを製造する方法であって、ポリオールXが、水酸基価5〜84mgKOH/g、オキシエチレン基含有量40〜100質量%のポリエーテルポリオールYと、アミン化合物に環状エーテルを付加重合した水酸基価250〜900mgKOH/gのアミン系ポリオールZとを含み、(Y+Z)がXのうちの80質量%以上であり、質量比Y:Zが85:15〜97:3であり、Xの平均水酸基価が20〜180mgKOH/gであり、Mがエチレン性二重結合含有ニトリルと、エチレン性二重結合含有カルボン酸、その誘導体およびカルボン酸ビニルエステルから選ばれる1種以上とを含む。 (もっと読む)


【課題】塩化ビニル自体の優れた特性を確保しながら、塩化ビニル系の成形体として軽量化を図ることができるとともに、二次加工性をも確保することができる塩化ビニル系中空粒子、その製造方法、該中空粒子を含有する塩化ビニル系樹脂組成物及び該塩化ビニル系樹脂組成物を用いて得られた塩化ビニルプレートを提供することを目的とする。
【解決手段】(1)主成分としての塩化ビニルと多官能性モノマーとを含むモノマー成分、重合開始剤、分散剤を極性溶媒に混合して懸濁液を調製し、(2)該懸濁液を加熱してモノマー成分を重合し、該モノマー成分の重合率が75%以下の時点で未反応塩化ビニルを除去して、樹脂粒子を形成し、(3)該樹脂粒子を脱水及び乾燥する工程を含む塩化ビニル系中空粒子の製造方法。 (もっと読む)


【課題】設置面積が小さく、処理時間が短い、内部を汚染させ難い膜形成装置を提供する。
【解決手段】真空ポンプPに通じる配管81が接続される排気口8を有する真空チャンバ1と、この排気口が形成された真空チャンバの壁面を下とし、この真空チャンバ下部に配置され、基板Wを保持すると共にこの基板の冷却を可能とするステージ2と、真空チャンバ内に、原料有機分子を気化させて導入し得る原料導入手段4と、原料導入手段を介して真空チャンバ内に導入された原料有機分子を基板表面に堆積させた後、基板上方に対向配置されてこの堆積した原料有機分子に光を照射して重合反応を引き起こす光照射手段3とを備える。原料導入手段は、照射面を囲う環状のシャワーヘッド43を有し、このシャワーヘッドから噴出された原料有機分子を基板表面へと導くガイド手段5を設けた。 (もっと読む)


【課題】ホルムアルデヒドやアセトアルデヒドの発生量が少ない硬化方法の提供。
【解決手段】(a)(メタ)アクリレート、(b)重合開始剤及び(c)硬化促進剤を含有してなる硬化性組成物を、不活性気体雰囲気下で、硬化してなる硬化方法。(a)(メタ)アクリレート、(b)重合開始剤及び(c)硬化促進剤を含有してなる硬化性組成物を、不活性気体雰囲気下で、養生し、硬化してなる硬化方法。(a)(メタ)アクリレート、(b)重合開始剤及び(c)硬化促進剤を含有してなる硬化性組成物を、不活性気体でバブリングし、硬化してなる硬化方法。不活性気体が、窒素、ネオン、アルゴン、キセノン及び二酸化炭素からなる群のうちの1種又は2種以上である該硬化方法。(d)酸性リン酸化合物を含有してなる該硬化方法。 (もっと読む)


【課題】熱可塑性樹脂と混和性のよい新規重合体と熱可塑性樹脂を含む樹脂の提供。
【解決手段】(a)下記式(1)で表される末端修飾重合体および(b)熱可塑性樹脂を含有する熱可塑性樹脂組成物。


(式中、R1及びR2は1価の有機基を示すか、又はR1とR2が結合して隣接する炭素原子と共に環構造を形成してもよい。R4は水素原子またはメチル基であり、R5は1価の有機基を示す。R6は1価の有機基を示す。lは1〜10の数を示し、mは10〜1000の数を示し、nは1〜5の数を示す。) (もっと読む)


【課題】 2種類以上の液体状のモノマーを異なるエバポレータで気化させて混合することができるフラッシュ蒸着方法及び装置を提供する。
【解決手段】フラッシュ蒸着装置10は、反応室30と、連続搬送されるフィルム20を支持するためのドラム32と、複数のエバポレータ40,50と、各エバポレータ40,50に接続され、液体状のモノマーを保持するモノマータンク46,56と、モノマータンク46,56からモノマーをエバポレータ40,50に送液するための送液ポンプ44,54と、エバポレータ40,50から排出される気化されたモノマーを合流させる合流部80と、合流部80に接続された混合機82と、混合機82に接続されたノズル84を備えている。 (もっと読む)


【課題】分子量分布が狭く、且つ分子量分布及び分子量の調製ロット間の差が小さい安定したフォトレジスト用重合体を製造することができるフォトレジスト用重合体の製造方法を提供すること。
【解決手段】コンデンサーユニット4が配設された反応槽2と、コンデンサーユニット4に接続されるバッファータンク3と、流量及び圧力が制御された窒素ガスを、バッファータンク3及びコンデンサーユニット4を介して反応槽2に供給可能な窒素供給ライン5と、バッファータンク3に、圧力制御バルブ7を介して接続される減圧ライン6と、を備えた重合反応設備1を使用し、反応槽2の内圧を制御しつつ重合反応を行い、フォトレジスト用重合体を含有する重合体溶液を得る重合反応工程を有するフォトレジスト用重合体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】 固体粒子が均一にしかも高い割合で含有され、且つサイズ均一性と分散性に優れた複合粒子、及びその製造方法を提供することができる。
【解決手段】 高分子化合物と固体粒子とを含有して構成される複合粒子の製造方法であって、(1)モノマーと有機溶剤とを含有する第1の液体と、固体粒子と、を混合して混合液を得る工程、(2)前記混合液と第2の液体とを混合してエマルションを形成する工程、(3)前記エマルションの分散質から第1の液体を分留する工程、及び(4)前記分留の後に前記分散質に残ったモノマーを重合する工程、を有する複合粒子の製造方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】含フッ素ポリマーの乳化重合における乳化剤として好適に使用することができるカルボン酸誘導体、及び、その製造方法を提供し、また、上記カルボン酸誘導体からなる界面活性剤、水性分散体、及び、含フッ素ポリマーの製造方法を提供する。
【解決手段】
下記一般式(I)
【化1】


(式中Rfは、H、F、フルオロアルキル基、又は、フルオロアルコキシ基を示し、Rfは、F、フルオロアルキル基、又は、フルオロアルコキシ基を示し、Mは、H、NH、Li、Na又はKを示す。)で表されるカルボン酸誘導体。 (もっと読む)


本発明は、単量体及び/又は触媒及び/又は開始剤が長さ/径の比が0.3−3.5の練り直し混練器(1)に投入される工程、熱が供給される工程、既に反応し終わった製品と練り直される工程、反応し終わった製品が混練器(1)から取出される工程を含む高粘度製品の処理方法、特に熱可塑性樹脂及びエラストマーの単独重合又は共重合などの重合方法である。本発明による処理方法は、混練器(1)内の生成物はその沸点まで加熱され、生成物の一部が気化されて生成物の発熱が気化物の冷却により吸収されることを特徴とする。
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混合機中の、
a)水溶性モノエチレン不飽和モノマー
b)少なくとも2個の重合可能な基を有するモノマー、モノマー(a)に対して0.001〜5モル%
の共重合により、架橋した、微粒子のゲル状ポリマーを連続的に製造する方法が開示される。ニーダーの入口に添加する物質を軸方向に混合機の端部に搬送する。本発明の方法は、少なくとも1個の以下の条件:
i)ニーダー中の充填度が少なくとも71%である
ii)水溶性モノエチレン性不飽和モノマーがヒドロキノンの半エーテル150ppmまでを含有する
iii)重合帯域の温度が65℃より高い
iv)ニーダーが逆混合比0.33未満を有する
ことが満たされることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】プラズマ重合により、より低い誘電率の膜を製造する方法およびより低い誘電率の高分子膜を提供すること。
【解決手段】式(1)で示される化合物のガスを含む混合ガスを減圧下の反応室に供給する工程と、反応室内に形成されたプラズマ中を通過させることにより反応室内に設置された基板表面に前記ガスを吹き付けて、前記有機化合物を骨格に含む高分子膜を基板表面上に成長させる工程とを含む高分子膜の製造方法。該製造方法により得られる高分子膜。


(PCAは炭素原子数7以上のポリシクロ脂肪族炭化水素基。ALKは炭素原子数1〜10の二価の脂肪族炭化水素基。mは1または2。nは0または1。R1およびR2は炭素原子数1〜6のアルキル基、炭素原子数2〜6のアルケニル基、炭素原子数2〜6のアルキニル基、炭素原子数1〜6のアルコキシ基、炭素原子数6〜10のアリール基または炭素原子数6〜10のアリールオキシ基。) (もっと読む)


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