本発明は、対応する連続射出成形過程の最初の５分間に製造される対応する射出成形品から１００ｍｍの距離において測定される電場の全体値が−３０〜０ｋＶ／ｍおよび好ましくは−２０〜０ｋＶ／ｍにあることを特徴とする、ポリカーボネートからつくられる支持材料に関する。 （もっと読む）

本発明はポリカーボネート樹脂のアセトン抽出物において測定される式（Ｉ）


（式中、Ｒ^１およびＲ^２は独立して水素またはＣ_１〜Ｃ_１２−アルキルであるかまたはＲ^１およびＲ^２は全体としてＣ_４〜Ｃ_１２−アルキリドであり、Ｒ^３およびＲ^４は独立して水素、Ｃ_１〜Ｃ_１２−アルキルまたはフェニルであるか、またはＲ^３およびＲ^４はそれらが結合している炭素原子と共にシクロヘキシルまたはトリメチルシクロヘキシルを形成し、Ｒ^５は水素、Ｃ_１〜Ｃ_１２−アルキル、Ｃ_５〜Ｃ_１２−シクロアルキル、フェニルまたはクミルである。）のカルバメート誘導体の割合が０．２〜３００ｐｐｍであることを特徴とするポリカーボネートに関する。
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本発明は、苛性ソーダを含むアルカリ加水分解によって測定される式（１）


（式中、Ｒ^１およびＲ^２は独立して水素またはＣ_１〜Ｃ_１２−アルキルであるか、またはＲ^１およびＲ^２が全体でＣ_４〜Ｃ_１２−アルキリドあり、Ｒ^３およびＲ^４は独立して水素、Ｃ_１〜Ｃ_１２−アルキルまたはフェニルであるか、またはＲ^３およびＲ^４はそれらが接続している炭素原子と全体でシクロヘキシルまたはトリメチルシクロヘキシルを形成する。）のカルバメート誘導体の割合が０．０１〜１５０ｐｐｍであることを特徴とするポリカーボネートに関する。
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【課題】色相安定性に優れた高品質の光学用ポリカーボネート樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）ビスフェノール類と炭酸ジエステルとをアルカリ性化合物触媒の存在下に溶融重縮合させた後、得られた反応生成物を冷却することなく反応後直ちに、ポリカーボネートに対して、ｐＫａ値が３以下であるイオウ含有酸性化合物またはその誘導体を０．１〜７ppmの範囲で添加し、（Ｂ）亜リン酸を０．１〜１０ppm添加したのち、ついで、（Ｃ）ｐＫａが３以下であるイオウ含有酸性化合物またはその誘導体および（Ｄ）炭素数１０〜２２の１価の脂肪酸と多価アルコールとから誘導されるエステルとを、ポリカーボネートに対して、（Ｃ）酸性化合物を０．１〜３ppm、（Ｄ）エステルを５０〜１０００ppmの量で配合する光学用ポリカーボネート樹脂組成物の製造方法。 （もっと読む）

本発明は、透明性、機械的、電気的特性に優れ、さらに光学的異方性が非常に小さく、成形性寸法安定性に優れた、エンジニアリングプラスチック、特に光学材料に適合するポリエステル共重合体を安定に提供することを目的とする。
上記課題は、ジカルボン酸またはそのエステル形成性誘導体とジヒドロキシ化合物からなるポリエステル重合体であって、ジカルボン酸が脂環族ジカルボン酸および／またはそのエステル形成性誘導体を含み、ジヒドロキシ化合物が一般式（１）で示される化合物を含み、ポリエステル重合体中のジエチレングリコールの量が６ｍｏｌ％以下であることを特徴とするポリエステル重合体により解決される。

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【課題】固有複屈折が極めて小さく、低光弾性係数、高剛性を有する特定のポリカーボネート共重合体を提供する。
【解決手段】６，６’−ジヒドロキシ−３，３，３’，３’−テトラメチル−１，１’−スピロビインダン、７，７’−ジメチル−６，６’−ジヒドロキシ−３，３，３’，３’−テトラメチル−１，１’−スピロビインダン、または７，７’−ジフェニル−ジヒドロキシ−３，３，３’，３’−テトラメチル−１，１’−スピロビインダンなど特定のニ価フェノールに由来する繰り返し単位（Ａ１）と、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）デカンなど特定のニ価フェノールに由来する繰り返し単位（Ｂ１）で実質的に構成され、全カーボネート繰り返し単位における単位（Ａ１）と単位（Ｂ１）の割合がモル比で（Ａ１）：（Ｂ１）＝７０：３０〜９５：５である芳香族ポリカーボネート共重合体。 （もっと読む）

【課題】従来技術に述べる欠点のない長鎖分岐状ポリカーボネートおよびその製法を提供する。
【解決手段】式（１ａ）：


［式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３およびＲ^４は互いに独立してＣ_１−Ｃ_１０アルキルを表し、Ｒ^５、Ｒ^６およびＲ^７は互いに独立して水素またはＣ_１−Ｃ_１０アルキルを表し、またはＲ^１およびＲ^２、並びにＲ^３およびＲ^４は、それらが結合されている炭素原子と共に、Ｃ_５−Ｃ_１０シクロアルキル基を形成し、その場合シクロアルキル基は置換されてもよい。］
に適合する分岐状構造ユニットを含有する、ポリカーボネート。 （もっと読む）

本発明は２相界面法を用いたシステムによるポリカーボネートの連続的な製造方法であって、その方法は触媒の特定の投与割合を適用し低窒素含量を有するポリカーボネートの製造を可能にする。本発明はまた、この方法により得られたポリカーボネートに関する。 （もっと読む）

【課題】 最新データ記憶フォーマットに有用な適当な基板としての新材料の提供。
【解決手段】 テルペン前駆体から誘導された１種以上のビスフェノール由来の構造単位と、１種以上の芳香族ジヒドロキシ化合物コモノマー由来の構造単位と、Ｃ_１〜Ｃ_４０線状又は枝分れ二価炭化水素基から誘導された１種以上のジエステル由来の構造単位と、１種以上の炭酸ジエステル由来の構造単位とを含んでなるポリエステルカーボネート。また、ポリエステルカーボネートの製造法及びそれから得られる物品。 （もっと読む）

低又は検出不能レベルのフリース転位生成物を含有し、レゾルシノール、ヒドロキノン、メチルヒドロキノン、ビスフェノールＡ及び４，４’−ビフェノールの１種以上から誘導された繰返し単位を含むポリカーボネートが、ジヒドロキシ芳香族化合物の１種以上とビス−メチルサリチルカーボネートのようなエステル置換ジアリールカーボネートとの溶融反応によって製造される。低い又は多くの場合に検出不能なレベルのフリース転位生成物は、フリース反応を抑制する極めて効果的な触媒系と、ジフェニルカーボネートを用いる類似の重合反応に必要な温度よりも低い溶融重合温度を使用することとの相俟った結果として得られるポリカーボネート生成物で見られる。 （もっと読む）

本発明は、ポリカーボネートの製造方法であって、（ｉ）供給ポートを通して押出機に、ポリカーボネートオリゴマー、活性化カーボネート残基及びエステル交換反応触媒を含む複数の反応成分を導入する段階であって、押出機は供給ポート、第一のバックベントポート及びポリカーボネート流出ポートを含み、供給ポートは第一のバックベントポートとポリカーボネート流出ポートとの間に位置し、供給ポートから第一のバックベントポートまでの反応成分の流れ抵抗は供給ポートからポリカーボネート流出ポートまでの反応成分の流れ抵抗以下である段階と、（ii）反応成分を１００〜４００℃の範囲内の１以上の温度で押し出す段階であって、反応成分の押出し中に活性化カーボネート残基が第一のバックベントポートを通して除去される段階とを含んでなり、それによってポリカーボネートを製造する方法に関する。 （もっと読む）

【課題】 金属腐食、ガラスのくもり、成形品のふくれなどの原因となる酢酸ガス、フェノールガス、炭酸ガスの全てについて、低減した液晶性樹脂またはその組成物を提供することを課題とする。
【解決手段】少なくとも２種類の芳香族ジオール由来の構造単位を含む液晶性樹脂であって、ヘリウムガス雰囲気下で融点＋１０℃（ただし融点が３２５℃未満の場合は３３５℃）で３０分間保持した際に上記液晶性樹脂から発生する酢酸ガスが１００ｐｐｍ以下、フェノールガスが２０ｐｐｍ未満かつ炭酸ガスが１００ｐｐｍ未満である液晶性樹脂。 （もっと読む）

本発明は、分子鎖が、下記一般式（１）と（２）で示される繰返し単位：−ＣＯ−Ｒ^１−ＣＯ−（１）（式中、Ｒ^１は炭素数１〜１２の二価脂肪族基を表す。）−Ｏ−Ｒ^２−Ｏ−（２）（式中、Ｒ^２は炭素数２〜１２の二価脂肪族基を表す。）及び必要に応じて加えられる（３）で示される繰返し単位：−ＣＯ−Ｒ^３−Ｏ−（３）（式中、Ｒ^３は炭素数１〜１０の二価脂肪族基を表す。）からなり、重量平均分子量が４０，０００以上であり、分子量５００以下のオリゴマー含有率が１，０００〜２０，０００ｐｐｍである脂肪族ポリエステル共重合体（ａ）、及び他の生分解性樹脂（ｂ）からなる脂肪族ポリエステル系生分解性樹脂組成物に関し、オリゴマーを含有する高分子量脂肪族ポリエステル共重合体を使用して、機械的物性及び生分解性において優れ、且つ表面への粉吹きを抑制し、それに伴う外観の悪化等の問題のない生分解性樹脂成形品が得られる。 （もっと読む）

【課題】色相のバラツキがなく、更に、耐熱性および耐加水分解性も良好な芳香族ポリカーボネート樹脂組成物を提供する。
【解決手段】以下の成分（ａ）〜（ｃ）から成り、成分（ａ）１００重量部、成分（ｂ）０．００００１〜０．０５重量部、成分（ｃ）０．０００１〜０．５重量部である芳香族ポリカーボネート樹脂組成物。（ａ）粘度平均分子量が１６，０００以上であり、かつ、ビスフェノール構造単位に対する分岐構造単位の割合が０．３〜０．９５ｍｏｌ％である芳香族ポリカーボネート樹脂（ｂ）フタロシアニン系化合物、アンスラキノン系化合物および群青の群から選ばれる少なくとも１種以上の着色剤（ｃ）数平均分子量が６２〜４，０００であるポリアルキレングリコール類 （もっと読む）

【課題】
１，１−ビス（４′−ヒドロキシ−３′−メチルフェニル）シクロヘキサンの精製方法。
【解決手段】
この方法では、１，１−ビス（４′−ヒドロキシ−３′−メチルフェニル）シクロヘキサンを実質的にアルコールからなる第１の溶媒に溶解して第１の溶液を形成し、第１の溶液を濾過し、濾過した第１の溶液に実質的に水からなる第２の溶媒を添加して第２の溶液を形成する。第２の溶液は、第１及び第２の溶媒の合計重量１００部当たり約４０〜約９５部の第１の溶媒を含む。さらに、第２の溶液から１，１−ビス（４′−ヒドロキシ−３′−メチルフェニル）シクロヘキサンを結晶化して第１の結晶性生成物を形成し、第１の結晶性生成物を第３の溶媒に溶解して第３の溶液を形成する。第３の溶媒は芳香族化合物からなる。そして、第３の溶液から１，１−ビス（４′−ヒドロキシ−３′−メチルフェニル）シクロヘキサンを結晶化して第２の結晶性生成物を製造する。 （もっと読む）

【課題】 廃芳香族ポリカーボネート（例えば不要となったＣＤ、ＣＤ−ＲＯＭ、ＤＶＤ等の芳香族ポリカーボネート製品）を分解して得られた芳香族ジヒドロキシ化合物を使用して高品質の芳香族ポリカーボネート樹脂を製造する方法を提供する。
【解決手段】 廃芳香族ポリカーボネート樹脂を炭素数１〜４のアルコール、塩素化化合物有機溶媒および金属水酸化物の存在下、エステル交換反応により分解して得られた芳香族ジヒドロキシ化合物（Ａ）１〜１００重量％および別の芳香族ジヒドロキシ化合物（Ｂ）９９〜０重量％からなる芳香族ジヒドロキシ化合物（Ｘ）を使用して芳香族ポリカーボネート樹脂を製造する方法において、当該芳香族ジヒドロキシ化合物（Ｘ）はその１６重量％濃度のアルカリ水溶液のハーゼン色数が５０以下であることを特徴とする芳香族ポリカーボネート樹脂の製造方法。 （もっと読む）

下記の式（Ｉ）（式中、Ａ^１は式Ｃ_６Ｈ_３Ｒ^２（式中、Ｒ^２はＣ_１〜Ｃ_６アルキル基及び上述の基の１種以上を含む組合せからなる群から選択される。）を有する三置換芳香族基である。）を有するシクロヘキシリデンビス（アルキルフェノール）と、下記の式（II）（式中、Ａ^２は置換又は非置換芳香族基であり、Ｒ^１はＣ_１３〜Ｃ_２２アルキル基からなる群から選択される。）を有する長鎖アルキル置換ビスフェノールと、炭酸ジエステル化合物と、適宜下記の式（III）（式中、Ａ^３は二価置換及び非置換芳香族基から選択される。）を有する１種以上の芳香族ジヒドロキシ化合物とから導かれる構造単位を含んでなるポリカーボネートコポリマー。
【化１】


【化２】


【化３】

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本発明はポリカーボネート樹脂の製造方法に関し、特にホスフォラニリデンアンモニウム塩またはホスフォラニリデンアンモニウム塩とアルカリ金属またはアルカリ土類金属を含有する化合物の混合物の触媒下で重合して溶融重合条件で安定で反応性が優れており、溶融重合と固相重合工程で優れた触媒活性を維持して高分子量のポリカーボネート樹脂を短時間且つ効率的に製造することができる効果がある。 （もっと読む）

【課題】 吸水に伴う膨張が小さく、線膨張係数が小さく、最大曲げ強度が大きく且つ一定のガラス転移温度を有するポリカーボネート樹脂からなる光ディスク用基板を提供する。
【解決手段】 光線が透過することのない基板と、基板上に形成された情報信号部と、その上層に形成された光透過性の保護層からなる光ディスクにおいて、該基板が２種類以上のビスフェニル構造単位を有し、ポリスチレン換算重量平均分子量(Mw)が30,000〜65,000、ガラス転移温度(Tg)が139℃〜170℃、30℃における線膨張係数が63ppm以下および最大曲げ強度が80MPa以上であるポリカーボネート樹脂からなることを特徴とする光ディスク用基板。 （もっと読む）

本発明は、流動性の改良されたコポリカーボネート、その製造方法、ある製品の製造へのその使用、それから得られる製品、およびポリカーボネートを提供する新規なビスフェノールに関する。 （もっと読む）