【課題】繊維製品に対して、一回の処理で、優れた洗浄効果と汚れ放出効果を発揮できる洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】ジアリルメチルアミン塩酸塩などの不飽和アミン塩（Ａ）、二酸化硫黄などの構成単位（Ｂ）及びウンデセン酸などの不飽和カルボン酸（Ｃ）を有する高分子化合物を含有し、該組成物の水溶液（濃度１ｇ／Ｌ）の２５℃におけるアルカリ緩衝能（該水溶液の２５℃におけるｐＨを９．５以下にするために要する０．１Ｎ塩酸量）が５ｍｌ以下である洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】 リソグラフィー用レジスト下層膜のためのレジスト下層膜形成組成物、該レジスト下層膜形成組成物を用いたリソグラフィー用レジスト下層膜の形成方法、及びフォトレジストパターンの形成方法を提供する。
【解決手段】 スルホン結合を有する樹脂を含む半導体装置製造のリソグラフィープロセス用レジスト下層膜形成組成物。樹脂が、主鎖又は主鎖と連結する側鎖にスルホン結合が導入されたものである。レジスト下層膜形成組成物を半導体基板上に塗布し、５０〜３００℃で焼成し、レジスト下層膜を形成する工程を含む半導体装置の製造方法。レジスト下層膜形成組成物を半導体基板上に塗布し焼成してレジスト下層膜を形成し、該レジスト下層膜上にフォトレジストを被覆し、このレジスト下層膜とフォトレジストを被覆した基板を露光し、現像し、ドライエッチングにより基板上に画像を転写して集積回路素子を形成する。 （もっと読む）

式


を有する構造を有するポリマーが開示される。この式において、Ｒ^１は、Ｃ_２−１０ｎ−アルキレン基、Ｃ_２−６分枝アルキレン基、Ｃ_６−８シクロアルキレン基、Ｃ_６−１０アルキルシクロアルキレン基、−［（−ＣＨ_２−）_ｐ−Ｘ−］_ｑ−（−ＣＨ_２−）_ｒ−、または少なくとも１個の−ＣＨ_２−単位がメチル基で置換されている−［（−ＣＨ_２−）_ｐ−Ｘ−］_ｑ−（−ＣＨ_２−）_ｒ−から独立して選択され、ここでｐは、２〜６の範囲の整数であり、ｑは、１〜５の範囲の整数であり、ｒは、２〜１０の範囲の整数であり、そしてＸは、Ｏ、Ｓ、および−ＮＲ−から選択され、ここでＲは、水素またはメチルであり；Ｒ^２は、アリル（メタ）アクリレートまたは多官能性（メタ）アクリレートから誘導される構造を表し；Ｒ^３は、水素およびアルキル基から独立して選択され；ｎは、１〜６０の範囲の整数であり；そしてｍは、０〜１０の範囲の値を有する有理数である。
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【課題】ポリフェニレンスルフィドのヒートシール性に優れ、さらに引っ張り伸度向上させることにより、加工性に優れた積層ポリフェニレンスルフィドフィルムを提供することを目的とするものである。
【解決手段】ｐ−フェニレンスルフィド単位を主成分とする二軸配向ポリフェニレンスルフィドフィルム（Ｂ層）の少なくとも片側に、ｐ−フェニレンスルフィド単位以外の少なくとも１種以上の共重合単位を共重合した二軸配向共重合ポリフェニレンスルフィドフィルム（Ａ層）が積層されてなる積層フィルムであり、該Ａ層の厚みが５μｍ以上、５０μｍ以下であり、積層フィルムの破断伸度が１００〜１５０％であることを特徴とする積層ポリフェニレンスルフィドフィルム。
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【課題】重合反応終了後の有機アミド溶媒の回収・精製処理に伴うコストの大幅な低減を図り、かつ、機械強度、溶融安定性、成形性などに優れたポリアリーレンスルフィドの製造方法を提供すること。
【解決手段】有機アミド溶媒中で、アルカリ金属硫化物とジハロ芳香族化合物とを反応させてポリアリーレンスルフィドを製造する方法において、反応系内に水を添加して生成ポリマーの濃厚相と希薄相とからなる液−液相分離状態を形成させ、反応終了後、２００℃以上の高温状態とした反応混合物を、ノズルを通してフラッシュ用タンクに導入し、有機アミド溶媒を蒸発させて９０％以上の回収率で回収する溶媒回収工程を含むポリアリーレンスルフィドの製造方法。 （もっと読む）

【課題】屈折率およびアッベ数の高い光学材料の原料として有用な有機ゲルマニウム化合物、およびそれを効率よく製造する方法を提供すること。
【解決手段】式（１）で表される有機ゲルマニウム化合物、およびエチレンジチオレートナトリウムとテトラハロゲノゲルマニウムとを反応させることにより、この有機ゲルマニウム化合物を製造する方法である。
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【課題】屈折率およびアッベ数が高く、かつ耐熱性、耐候性、透明性に優れており、プラスチックレンズ、プリズム、光ファイバー、情報記録媒体基板、着色フィルター、赤外線吸収フィルター等に好適に用いられる光学製品を提供すること。
【解決手段】一般式（１）で表される有機ゲルマニウム化合物を必須モノマー成分として得られる重合体からなる光学製品である。


（式中、Ｒ₁は、メルカプト基、あるいはメルカプト基を有しており、かつ、炭素数１〜３のアルカン残基、炭素数４〜７のシクロアルカン残基、ヘテロ原子が酸素、窒素もしくは硫黄原子である炭素数３〜７のヘテロ環式化合物残基または炭素数６〜１０の芳香族化合物残基を示す。Ｒ₂は、水素原子、メルカプト基、炭素数１〜３のアルカン残基、炭素数４〜７のシクロアルカン残基、ヘテロ原子が酸素、窒素もしくは硫黄原子である炭素数３〜７のヘテロ環式化合物残基または炭素数６〜１０の芳香族化合物残基を示し、各残基は置換基を有していてもよい。） （もっと読む）

【課題】
本発明では線状ポリアリーレンスルフィドと環式ポリアリーレンスルフィドの混合物から環式ポリアリーレンスルフィド混合物を効率よく製造する方法を提供することを課題とする。
【解決手段】
少なくとも（ａ）線状ポリアリーレンスルフィド，（ｂ）環式ポリアリーレンスルフィド、を含むポリアリーレンスルフィド混合物を、環式ポリアリーレンスルフィドを溶解可能な溶剤と接触させて環式ポリアリーレンスルフィドを含む溶液を調製し、次いで該溶液から溶剤を除去することで環式ポリアリーレンスルフィド混合物を高純度且つ効率的に得る。得られる環式ポリアリーレンスルフィドはアリーレンスルフィドの繰り返し単位数４〜５０の混合物である。 （もっと読む）

式


の第一のヒドロキシル末端ポリスルフィド（この式で、ｎは２〜４０である。）と、式（I）に従う第二のヒドロキシル末端ポリスルフィド、ヒドロキシルおよび／またはチオール含有分子、ならびに硫化リンから成る群から選択された少なくとも１の化合物とを反応させて、第三のヒドロキシル末端ポリスルフィドを得る段階を含むポリスルフィドを調製する方法であって、該化合物が第二のヒドロキシル末端ポリスルフィドまたはヒドロキシルおよび／もしくはチオール含有分子であれば、酸触媒の存在下に該反応が実施され、該化合物が硫化リンであれば、任意的な酸触媒の存在下に該反応が実施される、方法。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、耐酸化性を共に有する有機−無機ハイブリッド高分子組成物と、この組
成物の自己支持性を有する膜の製造方法を提供する。
【解決手段】無機材料と炭化水素からなる有機−無機ハイブリッド高分子組成物であって
、２個の酸素原子間に長鎖炭化水素基を有するジオール化合物とジルコニウムアルコキシ
ドとによりネットワーク構造を有することを特徴とする。また、有機−無機ハイブリッド
高分子組成物膜の製造方法であって、２個の酸素原子間に長鎖炭化水素基を有するジオー
ル化合物とジルコニウムアルコキシドとからなる液状混合物を層状に展延し、加熱してネ
ットワーク構造を生成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、高強度、高弾性率、高耐熱性を有する繊維やフィルムに成形可能なポリベンザゾールの製造に使用され、高い重合能を示し、保存安定性に優れた芳香族ジアミン／芳香族ジカルボン酸塩モノマーを提供するものである。
【解決手段】 下記一般式（１）あるいは／および（２）で表され、メジアン径が５〜１００μｍであり、かつ白色度≧７５であることを特徴とする芳香族ジアミン／芳香族ジカルボン酸塩。
【化１】


【化２】
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【課題】本発明は、低含水アルカリ金属硫化物を効率よく製造する方法に関する。更には該低含水アルカリ金属硫化物を用いてポリアリーレンスルフィドを効率的に製造する方法に関する。
【解決手段】少なくとも（ａ）アルカリ金属硫化物、（ｂ）有機アミド溶媒、（ｃ）水からなり、アルカリ金属硫化物のイオウ成分１モル当たり、（ｂ）を０．８〜１０モル、（ｃ）を０．８〜２０モル含む混合物から、有機アミド溶媒および水を除去して、混合物中の有機アミド溶媒量および水分量を、アルカリ金属硫化物のイオウ成分１モル当たり、それぞれ０．０５モル以上０．８モル未満に調整する工程を、２種以上の反応器で行うことを特徴とする、（ｅ）低含水アルカリ金属硫化物の製造方法、およびそれを用いたポリアリーレンスルフィドの製造方法。 （もっと読む）

本発明の対象は、不飽和ジカルボン酸無水物（Ａ）を、カルボン酸無水物と比較して反応性の少なくとも１個の基および２００〜５００００ダルトンの平均分子量を有する疎水性反応成分（Ｂ）と反応させることによって得ることができるカルボン酸誘導体である。本発明により提案されるカルボン酸誘導体は、硬化したセメント建築材料の表面でのブルーミングの阻止または抑制のためのおよび／または相応するセメント系の疎水化のための剤として卓越して好適である。更に、セメント製品は、本発明により提案される添加剤によって明らかによりいっそう少ない水を吸収し、それによって、鉄筋のフロスト被害および急速な錆び付きは、明らかに減少される。 （もっと読む）

【課題】 屈折率及びアッベ数が高く、かつ耐熱性、耐候性、透明性に優れており、プラスチックレンズ、プリズム、光ファイバー、情報記録媒体基板、着色フィルター、赤外線吸収フィルター等の光学製品を製造する原料として好適なスルフィド化合物及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 一般式（１）で表されるスルフィド化合物及びその製造方法である。
【化１】


（式中、Ｒ¹は、アルカン残基、チアアルカン残基、シクロアルカン残基、ヘテロ環式化合物残基又は芳香族化合物残基を示し、ｎは０又は１を示す。） （もっと読む）

本発明はポリマー化学の分野である。より詳しくは、本発明は、医療用途に適したブロックコポリマーまたは架橋ネットワークなどのポリマーの製造方法を提供する。本発明は、ヒトまたは動物の体内で使用されたときに完全に分解して、毒性あるいは望ましくないかもしれない残留成分を最小限にし得る分解性材料も提供する。
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【課題】本発明は、エピスルフィド化合物を原料とするエピスルフィド系レンズの製造に
おいて、耐熱性が高く、また、レンズ離型時の破損または変形を防止でき、レンズの生産
性が向上するレンズ用樹脂を提供する。
【解決手段】分子内に２つ以上のエピスルフィド基を持つ化合物を含有する重合性組成物
を、注型重合させて得られるエピスルフィド系レンズの製造において、得られるレンズ中
に存在するエピスルフィド基が、０．３質量％以下となるように重合を行う。 （もっと読む）

ポリ（β−チオエーテルエステル）組成物、ポリ（β−チオエーテルエステル）組成物の製造方法、及びポリ（β−チオエーテルエステル）組成物の使用方法が提供される。ポリ（β−チオエーテルエステル）は、チオールエステル組成物及びα，β−不飽和エステルを接触させて混合物を製造し、次いで、混合物を加熱してポリ（β−チオエーテルエステル）を製造することにより製造することができる。幾つかの実施形態では、チオールエステル組成物は、チオールエステル、ヒドロキシチオールエステル、及び架橋チオールエステルを含む。
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【課題】プロトン伝導性の低下や、添加成分のブリードアウト、溶出などを起こすことなく、ラジカル耐久性を向上することができるイオン交換膜及び、新規スルホン酸基含有ポリマーを用いた膜／電極接合体と燃料電池、該スルホン酸基含有ポリマー組成物の提供。
【解決手段】下記化学式で表される構造のスルホン酸基含有ポリマー。


｛Ｘは−Ｓ（＝Ｏ）₂−基又は−Ｃ（＝Ｏ）−基を、ＹはＨ又は１価の陽イオンを、Ｚ¹、Ｚ²、及びＺ³はＯ又はＳ原子、Ａｒ¹は２価の有機基を、Ａｒ²、Ａｒ³及びＡｒ⁴はイオン性基を含まない２価の有機基を、Ａｒ⁵は３価の有機基を表す。｝ （もっと読む）

【課題】 屈折率が高く、耐熱性が高いプラスチックレンズを製造可能な光学樹脂用重合
性組成物を提供する。
【解決手段】 芳香族ポリイソシアネート化合物（例えば、ｍ−キシリレンジイソシアネ
ート）と、脂環族ポリイソシアネート化合物（例えば、ノルボルナンジイソシアネート）
と、特定のポリチオール化合物（例えば、１，１，３，３−テトラキス（メルカプトメチ
ルチオ）プロパンを主成分とする化合物）とを含む混合物を準備し、３０℃〜７０℃の範
囲で、望ましくは３０℃〜４０℃の範囲で攪拌する。この条件で製造された光学樹脂用重
合性組成物によりレンズ基材を成形する際の注入歪みを抑制でき、透明度が高く、高屈折
率で、高耐熱のレンズ基材およびそれを用いた眼鏡レンズを提供できる。 （もっと読む）

光学物品及びコーティングを製造するために容易に重合されるウレタン（メタ）アクリレートオリゴマー類を含有する硬化性チオール−エン組成物が記載されている。
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