【課題】低誘電率、低損失特性、及び優れた工程性を有する低損失絶縁材として有用である新規なポリｐ−キシリレン系重合体、及びこれを用いた絶縁材、印刷回路基板、機能性素子を提供する。
【解決手段】ポリｐ−キシリレン系重合体は、下記化学式（１）で表される繰り返し単位を少なくとも１種含むことを特徴とする。


（式中、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_７、及びＲ_８の少なくとも一つは独立に置換または非置換のＣ６−Ｃ２０のアリール基であり、ｎは４００〜９００の整数を示す。） （もっと読む）

【課題】 重合による体積収縮がないまたは小さく、しかも、架橋させたときに体積収縮がないまたは小さい架橋重合体を得ることができる新規な環状オレフィン系開環重合体およびその製造方法並びにその架橋重合体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の環状オレフィン系開環重合体は、下記化学式（１）で表される構造単位を繰り返し単位として有することを特徴とする。
【化１】
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【課題】組成物の調製後経時的に劣化せず、組成物から得られた塗膜が安定した導電性を発現することが可能な、π共役系導電性ポリマー含有導電性コーティング用組成物を提供する。
【解決手段】π共役系導電性ポリマー、及び、溶媒又は分散媒を含有する導電性コーティング用組成物であって、前記π共役系導電性ポリマー１００重量部に対して、鉄イオンの総含量が０．００４重量部以下である導電性コーティング用組成物。好ましくは、前記π共役系導電性ポリマー１００重量部に対して、過酸化物の総含量が１５０重量部以下である。 （もっと読む）

【課題】有機溶剤中で可溶であり、有機的に結合されたハロゲンを含有しない中性のポリ（エチレン−３，４−ジオキシチオフェン）またはその誘導体を、経済的かつ簡単な方法によって製造する。
【解決手段】一般式（Ｉ）を、一般式（ＩＩ）のモノマーと、酸化剤とを反応させることによって製造し、その際、反応は、有機溶剤中でおこなわれ、酸化剤は、化学量論的要求量の５０〜９９．９％の量で使用することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】優れた難燃性を発現し、より低い誘電正接を実現する硬化性樹脂組成物及びその硬化物、並びにこれらの性能を与える新規フェノール樹脂を提供する。
【解決手段】フェノール樹脂（Ａ）及びエポキシ樹脂（Ｂ）を必須成分とする硬化性樹脂組成物であって、前記フェノール樹脂（Ａ）が、その分子構造中に下記記構造式（１）
【化１】


（式中、Ｒ^１はそれぞれ独立して水素原子又は炭素数１〜４の炭化水素基又は炭素数１〜４のアルコキシ基を表し、ａは１〜５の整数を示す。）
で表されるフェニルメチルオキシ基を芳香核上の置換基として有するものである。 （もっと読む）

【課題】有機溶媒溶解性に優れ、高い電導度を示す導電性ポリピロール系材料で、導電性塗料の導電性成分として好適に用いられ、高い電導度を示す導電性膜および導電体を製造することができる該材料を提供する。
【解決手段】特定のスルホン酸含有化合物の存在下、ピロール系単量体を酸化重合を行い、該スルホン酸含有化合物にて、プロトネーションされてなるポリピロール系複合体を得て、炭化水素系溶剤、含ハロゲン系用剤、エステル系溶剤等の有機溶媒に溶解し、導電性塗料とする。 （もっと読む）

【解決手段】紫外線、遠紫外線、電子線、ＥＵＶ、Ｘ線、エキシマレーザー、γ線、又はシンクロトロン放射線の高エネルギー線に感応し、下記一般式（１ａ）又は（１ｂ）のいずれかで示されるスルホン酸を発生する化学増幅型レジスト材料用の光酸発生剤。
Ｒ¹−ＣＯＯＣＨ₂ＣＦ₂ＳＯ₃^- Ｈ⁺ （１ａ）
Ｒ¹−Ｏ−ＣＯＯＣＨ₂ＣＦ₂ＳＯ₃^- Ｈ⁺ （１ｂ）
（式中、Ｒ¹はステロイド骨格を有する炭素数２０〜５０のヘテロ原子を含んでもよい一価炭化水素基を示す。）
【効果】本発明の光酸発生剤は、スルホネートに、嵩高いステロイド構造を有しているため、適度な酸拡散制御を行うことができる。また、レジスト材料中の樹脂類との相溶性もよく、これらスルホン酸を発生する光酸発生剤はデバイス作製工程での塗布、露光前焼成、露光、露光後焼成、現像の工程に問題なく使用でき、疎密依存性、露光余裕度の問題も解決できる。 （もっと読む）

【課題】発熱を伴う部分、及び断続的又は連続的に応力負荷がかかる部分で、使用する場合に生じる種々の問題点を解消でき、特に紫外線領域の透明性及び耐熱性を向上させた透明材料を提供する。
【解決手段】脂環式構造及びペルフルオロシクロブチルエーテル構造を有する下記式（１）で表されるポリマー。


（式中、Ｒは、脂環式基が形成される２価の基。） （もっと読む）

【課題】高周波領域で誘電正接が極めて小さいシクロオレフィンポリマーを用いて、低周波領域で誘電正接が極めて小さく耐クラック性に優れる積層板、それを与えるプリプレグ、及び重合性組成物を提供する。
【解決手段】分子内に不飽和結合を２つ以上有し、そのうち少なくとも１つがメタセシス反応性を有するシクロオレフィンモノマー、重合触媒、架橋剤及び多官能（メタ）アクリレート化合物を架橋助剤として含む重合性組成物。及び、上記重合組成物を強化繊維に含浸させた後に重合してなるプリプレグ。さらに、上記プリプレグを該プリプレグ同士及び／または他材料と積層した後に硬化してなる積層体。 （もっと読む）

【課題】式（３）で表されるエポキシ基含有ノルボルネン化合物及びその（共）重合体を効率よく製造する方法の提供。


【解決手段】下記式（１）


で表されるノルボルネンカルバルデヒドと硫化メチレン化合物とを反応させることを特徴とする式（３）で表されるエポキシ基含有ノルボルネン化合物の製造方法。 （もっと読む）

本発明は、少なくとも１つの導電性ポリマーおよび少なくとも１つのポリアニオンを含む水系もしくは非水系の分散液または溶液を調製するための新規なプロセスであって、重合が超音波照射を用いて実施されることを特徴とするプロセス、このプロセスによって調製される水系または非水系の分散液、ならびにその使用に関する。 （もっと読む）

【課題】化学増幅系レジストにおけるかぶりや膜減り現象防止に優れた帯電防止剤、該帯電防止剤を用いた帯電防止膜及び被覆物品を提供することを目的とする。
【解決手段】水溶性導電性高分子、溶媒及びポリペプチド構造を有する水溶性高分子を含み、感荷電粒子線樹脂上に被覆するための帯電防止剤。安価で簡単にレジストへの塗布性を付与できる界面活性剤を用いても、塗布性を維持しながら、レジストへの影響（レジストの溶解やレジストの現像の結果生じるレジストのかぶりや膜べり現象）を抑止できる。界面活性剤を含有させることにより塗布性を向上させた帯電防止剤は、化学増幅系レジスト、および非化学増幅系レジストに対するミキシング抑制に効果がある。 （もっと読む）

【課題】表面的に両親媒性のポリフェニレンおよびヘテロアリーレンポリマー、およびそれから製造した殺生物表面を有する物体を開示する。該ポリマーは該表面と接触したかまたは該殺生物表面に近接する領域に存在する微生物の増殖を阻害し得る。また、表面的に両親媒性のポリマーを固体支持体に結合させる方法を開示する。接触性殺菌剤としての有用性を開示する。
【解決手段】
【化１】


で示される化合物を含むポリマー。 （もっと読む）

【課題】充填剤を高度に充填可能で、得られる成形品の空洞部が少なく且つ外観に優れる繊維強化複合材料を提供する。
【解決手段】スプレイアップ機により繊維強化複合材料を作製する工程において、シクロオレフィンモノマーと重合触媒及び強化繊維を含んでなる成形用組成物を用いる。更に、強化繊維として炭素繊維を用い、且つ重合触媒としてルテニウム系触媒、特にヘテロ環構造含有の配位子を有するルテニウム系触媒を用いることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】防振性能及び耐久性を低下することなく耐熱性に優れた防振ゴムの製造方法及び防振ゴムを提供すること。
【解決手段】天然ゴムを主成分とするゴム成分を含有するゴム組成物の加硫ゴム表面にパラキシリレン樹脂層を形成するコーティング工程を含むことを特徴とする防振ゴムの製造方法であって、好ましくはコーティング工程が、気相蒸着重合法により加硫ゴム表面にパラキシリレン樹脂層を形成するものであることを特徴とする防振ゴムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】電荷キャリア移動度が高く、かつ半導体層の空気安定度が改良された薄膜トランジスタデバイスを提供する。
【解決手段】半導体層を含む薄膜トランジスタデバイスであって、前記半導体層は下式で表される化学的構造を含む化合物を含む、薄膜トランジスタデバイス。
【化１】


式中、各Ｒは水素、置換されてもよい炭化水素およびヘテロ原子含有基から独立に選択され、各Ａｒは、置換されてもよいアリール基またはヘテロアリール基から独立に選択され、各Ｍは任意の共役部分であり、ａは１以上の数を表し、ｂは０〜２０の数を表し、ｎは１以上の数を表す。 （もっと読む）

【課題】半導体封止剤等の原材料として使用できるジシクロペンタジエン類変性フェノール樹脂の製造法の提供。
【解決手段】フェノール類およびジシクロペンタジエン類を酸触媒の存在下で反応させ、ジシクロペンタジエン類変性フェノール樹脂を製造し、得られた反応生成液に、アルカリ性化合物およびゼオライトを添加して、該酸触媒を失活させる変性フェノール樹脂を製造し、反応生成液から濾過により変性樹脂を回収する方法。 （もっと読む）

【課題】 有機トランジスタに用いた場合に高い電荷の移動度を得ることができる高分子化合物を提供すること。
【解決手段】 好適な実施形態の高分子化合物は、下記一般式（１）で表される繰り返し単位を有する。


［式中、Ｒ^１は、アルキル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アリール基、アリールオキシ基、アリールチオ基、アリールアルキル基、アリールアルコキシ基、アリールアルキルチオ基、置換シリル基、置換カルボキシル基、１価の複素環基、シアノ基又はフッ素原子を表し、ｌは２〜８の整数である。なお、複数のＲ^１はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。］ （もっと読む）

【課題】限界解像性に優れ、疎密寸法差の少ない樹脂の製造方法を提供する。
【解決手段】少なくとも下記一般式［１］


（式中、Ｒ¹〜Ｒ⁴のうち少なくとも一つが、特定のアルコキシメチルエステル基を有する官能基を表す。）で表される環状オレフィン単量体と、特定の二種類の環状オレフィン単量体とを、開環メタセシス重合触媒の存在下に重合させた後、水素添加触媒のもとに水素添加することにより、一般式［１］の単量体の開環によって得られる構造単位［Ａ］と、上記特定の二種類の単量体の開環によって得られる各々、構造単位［Ｂ］及び／又は構造単位［Ｃ］からなり、その構成モル比が、［Ａ］／（［Ｂ］＋［Ｃ］）＝１／９９〜１００／０である開環メタセシス重合体水素添加物の製造方法。 （もっと読む）

本発明は、非極性芳香族ポリマーを含む層を導電性ポリマーでコーティングするためのプロセス、およびこのプロセスによって製造される高分子層に関する。 （もっと読む）