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Fターム[4J036JA08]の内容

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Fターム[4J036JA08]に分類される特許

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【課題】成形性に優れ、硬化物のガラス転移温度(Tg)が高く、半導体パッケージを製造した場合にその反りを低減することができる電子回路基板材料用樹脂組成物を提供する。
【解決手段】(A)フェノール樹脂と、(B)エポキシ樹脂と、(C)無機充填材とを含有する電子回路基板材料用樹脂組成物に関する。前記(A)成分が、分子内に2つ以上の水酸基を有し、かつ前記水酸基のうち少なくとも1つ以上の水酸基を有するナフタレン骨格を持つノボラックフェノール樹脂を含有する。前記(B)成分が、分子内に2つ以上のエポキシ基を有する多官能エポキシ樹脂を含有する。前記(A)及び(B)成分100質量部に対する前記(C)成分の含有量が130〜250質量部である。硬化後のガラス転移温度(Tg)が220℃以上である。 (もっと読む)


【課題】組成物の流動性に優れると共に、近年の電子部品関連材料に適する耐湿信頼性と、環境調和のためハロゲンフリーで高い難燃性を実現する熱硬化性樹脂組成物、その硬化物、及び該組成物を用いた半導体封止材料、並びにこれらの性能を与えるフェノール系樹脂、及びエポキシ樹脂を提供する。
【解決手段】複数のフェノール性水酸基含有芳香族骨格(ph)がアルキリデン基又は芳香族炭化水素構造含有メチレン基を介して結合した樹脂構造(α)の芳香核にナフチルメチル基又はアントニルメチル基を有し、かつ、該樹脂構造(α)のフェノール性水酸基の5〜50モル%がナフチルメチルエーテル化又はアントニルメチルエーテル化した樹脂構造を有するフェノール樹脂をエポキシ樹脂原料又はエポキシ樹脂用硬化剤として使用する。 (もっと読む)


【課題】人体への影響が少なく、物性に優れた繊維強化複合材料用エポキシ樹脂組成物を提供する。
【解決手段】本発明は、脂環式エポキシ樹脂(A)と、2官能以上の液状エポキシ樹脂(B)と、2官能以上の反応性希釈剤(C)と、酸無水物硬化剤(D)と、硬化促進剤(E)とを含み、脂環式エポキシ樹脂(A)の含有量が、脂環式エポキシ樹脂(A)と2官能以上の液状エポキシ樹脂(B)と2官能以上の反応性希釈剤(C)との質量の和に対して5質量%〜20質量%であり、2官能以上の反応性希釈剤(C)の含有量が、0質量%〜20質量%であると共に、酸無水物硬化剤(D)の含有量は、脂環式エポキシ樹脂(A)と2官能以上の液状エポキシ樹脂(B)と2官能以上の反応性希釈剤(C)とに含まれるエポキシ基に対する酸無水物硬化剤(D)に含まれる酸無水物の理論配合比率が0.9当量〜1.3当量である繊維強化複合材料用エポキシ樹脂組成物である。 (もっと読む)


【課題】本発明は、硬化後の、可視光から近紫外光の反射率が高く、耐熱劣化性やタブレット成型性に優れ、なおかつトランスファー成型時にバリが生じ難い熱硬化性光反射用樹脂組成物及びその製造方法、並びに当該樹脂組成物を用いた光半導体素子搭載用基板及び光半導体装置を提供することを目的とする。
【解決手段】熱硬化性成分と白色顔料とを含む熱硬化性光反射用樹脂組成物であって、成型温度100℃〜200℃、成型圧力20MPa以下、成型時間60〜120秒の条件下でトランスファー成型した時に生じるバリ長さが5mm以下であり、かつ熱硬化後の、波長350nm〜800nmにおける光反射率が80%以上であることを特徴とする熱硬化性光反射用樹脂組成物を調製し、そのような樹脂組成物を使用して光半導体素子搭載用基板および光半導体装置を構成する。 (もっと読む)


【課題】本発明は、印刷回路基板用絶縁性樹脂組成物及びこれを含む印刷回路基板に関する。
【解決手段】本発明の一実施形態による印刷回路基板用絶縁性樹脂組成物は特定の化学式で表される液晶オリゴマー20から40重量部と、エポキシ樹脂20から40重量部と、硬化触媒0.1から0.5重量部とを含む。本発明の一実施形態によると、印刷回路基板が低重量化、薄板化及び小型化されても印刷回路基板の電気的、熱的、機械的安定性が確保されることができる。また、既存の基板工程でも安定化された駆動特性を示し、低い誘電率を示すとともに、接着強度、耐薬品性及び曲げ特性に優れるようになることができる。 (もっと読む)


【課題】硬化後の硬化物の熱による寸法変化を小さくすることができ、更に硬化物の耐熱性を高めることができるエポキシ樹脂材料及び該エポキシ樹脂材料を用いた多層基板を提供する。
【解決手段】本発明に係るエポキシ樹脂材料は、下記式(1)で表されるエポキシ樹脂と、上記エポキシ樹脂のエポキシ基と反応可能な官能基を2つ以上有する硬化剤とを含む。下記式(1)中、Xはカルボニル基又はスルホニル基を表す。本発明に係る多層基板11は、回路基板12と、回路基板12の回路が形成された表面12a上に配置された硬化物層13〜16とを備える。硬化物層13〜16は、上記エポキシ樹脂材料を硬化させることにより形成されている。
【化1】
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【課題】誘電特性、熱膨張率を維持しながら、湿式粗化工程において絶縁層表面の算術平均粗さが小さく、その上に十分なピール強度を有するめっき導体層を形成することができる樹脂組成物を提供すること
【解決手段】エポキシ樹脂、リン原子を含有するフェノールエステル化合物、リン原子を含有するチオフェノールエステル化合物、リン原子を含有するN−ヒドロキシアミンエステル化合物、リン原子を含有する複素環ヒドロキシ基がエステル化された化合物、ホスファゼン系フェノール樹脂のベンゾイル化物、9,10-ジヒドロ-9-オキサ-10-ホスファフェナントレン10-オキシド系のベンゾイル化物等の反応活性の高いエステル基を有し、エポキシ樹脂の硬化作用を有するリン原子を含有する活性エステル硬化剤を含有する樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】押出成形法等により容易に成形可能であり、耐熱性と強靱性とを両立でき、二次加工性に優れ、かつ、金属電極又は基板に強力に接着できる配線基板を製造することができる熱硬化性成形材料を提供する。
【解決手段】エポキシ樹脂、非晶性熱可塑性樹脂、エポキシ硬化剤、及び、無機フィラーを含有する熱硬化性成形材料であって、前記熱硬化性成形材料全体に占める無機フィラーの割合が20〜60体積%であり、前記熱硬化性成形材料中の樹脂成分の全体積に占めるエポキシ樹脂の割合が40〜95体積%であり、前記無機フィラーは、モース硬度が4〜8である無機フィラーを含有し、かつ、前記熱硬化性成形材料中の無機フィラーの全体積に占める前記モース硬度が4〜8である無機フィラーの割合が50〜100体積%である熱硬化性成形材料。 (もっと読む)


【課題】その硬化物において低誘電率、低誘電正接でありながら、優れた耐熱性を兼備させた熱硬化性樹脂組成物、その硬化物、これらの性能を発現する半導体封止材料、プリプレグ、回路基板、及びビルドアップフィルムを提供する。
【解決手段】エポキシ樹脂と、エポキシ樹脂用硬化剤とを必須成分とすることを特徴とする熱硬化性樹脂組成物であって、前記エポキシ樹脂用硬化剤として、脂肪族環状炭化水素基を介してフェノール類が結節された分子構造を有するフェノール樹脂(a−1)、芳香族ジカルボン酸又はそのハライド(a−2)、及び、芳香族モノヒドロキシ化合物(a-3)を反応させて得られる構造を有する活性エステル樹脂(A1)と、不飽和脂環式化合物とフェノール化合物とが重付加反応した構造を有する多官能フェノール化合物(A2)とを併用する。 (もっと読む)


【課題】熱硬化性樹脂の含浸性や熱硬化性樹脂とガラスクロスの接着性が良好であり、耐熱性や絶縁信頼性に優れた積層板、プリント配線板を提供すること。
【解決手段】(A)(a)1分子中に少なくとも2個のN−置換マレイミド基を有するマレイミド化合物と、(b)1分子中に少なくとも2個の1級アミノ基を有するアミン化合物を反応させて得られる不飽和マレイミド基含有化合物、及び(B)熱硬化性樹脂、を含有する熱硬化性樹脂組成物を、(C)下記一般式(I)で表されるシランカップリング剤で処理されたガラスクロスに含浸し、加熱乾燥し、Bステージ化して得られるプリント配線板用プリプレグである。


(式中、R1は炭素数1〜5の二価の炭化水素基、R2は水素又は炭素数1〜10の一価の炭化水素基、XはOCH3、OC25、又はOC37を表し、mは0〜5の整数を示す。複数あるX及び複数ある場合のR2は互いに同一でも異なってもよい。) (もっと読む)


【課題】本発明は、誘電率や保存安定性に優れるとともに、導電層との密着性を有する熱硬化性樹脂組成物を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、エポキシ系樹脂と、硬化剤と、硬化促進剤と、有機溶剤とからなる樹脂組成物において、前記硬化剤が活性エステル型硬化剤を含み、かつ、該活性エステル型硬化剤はエポキシ樹脂100重量部に対し、50〜200重量部であり、前記硬化促進剤がイミダゾール系化合物およびリン系化合物を含み、かつ、該硬化促進剤の含有量が前記活性エステル型硬化剤100重量部に対して0.8〜10重量部であることを特徴とする、熱硬化性樹脂組成物を提供する。 (もっと読む)


【課題】無色透明で、高耐熱性を有する光学用途、オプトデバイス用途、表示デバイス用途、機械部品材料、電気・電子部品材料等として有用な硬化物を与えることができ、さらに、短時間で成型可能な熱硬化性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】下記平均組成式(I)及び条件(1)を満たす変性オルガノポリシロキサンと、カチオン硬化剤とを含有し、150℃における熱板ゲルタイムが30秒以下であり、硬化後の組成物のガラス転移温度が100℃以上であることを特徴とするものである。
平均組成式(I):
(R13SiO1/2)m(R22SiO)n(R3SiO3/2)p(R4SiO3/2)q(SiO2)r
(式中、R1、R2及びR3は、それぞれ独立に、炭素数が1〜10である一価の炭化水素基を示し、R4は3,4−エポキシシクロヘキシル基を末端に有する炭素数1〜5のアルキル基を示す。)
条件(1):
m、n、p、q及びrは、0.3≦q/(m+n+p+q+r)≦0.6を満たす。 (もっと読む)


【課題】
燃焼時に有害な物質を生成することがなく、難燃性、耐熱性、熱時剛性に優れ、かつ、吸湿性に優れた多層プリント配線板を含む、プリント配線板の製造に用いられるプリプレグ用エポキシ樹脂組成物、該プリプレグ用エポキシ樹脂組成物を用いたプリプレグ、該プリプレグを用いた多層プリント配線板を提供する。
【解決手段】
分子内にエポキシ樹脂と反応性を有するフェノール性水酸基を平均1.8個以上3個未満有し、かつ、平均0.8個以上のリン元素を有するリン化合物、分子内にエポキシ基を平均1.8個以上2.6個未満有する2官能エポキシ樹脂、1分子内にエポキシ基を平均2.8個以上含む多官能エポキシ樹脂、硬化剤、無機充填剤、スズ酸亜鉛化合物を必須成分とするプリプレグ用エポキシ樹脂組成物であって、少なくとも、リン化合物と、2官能エポキシ樹脂及び多官能エポキシ樹脂、または2官能エポキシ樹脂のみを予め反応させた予備反応エポキシ樹脂を配合することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ガラス繊維織物に含浸した際のプリプレグの熱伝導率の低下が小さいために熱伝導率の高いプリプレグを製造することが可能な樹脂組成物と、この樹脂組成物を用いたプリプレグ及び積層板とを提供する。
【解決手段】特定の一般式(1)で表わされるエポキシ樹脂と、特定の一般式(2)で表わされる繰り返し構造及び/又は特定の一般式(3)で表される繰り返し構造を有するフェノール性化合物とを配合してなる熱硬化性樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】優れた低熱膨張性、高ガラス転移温度、低誘電性、銅箔接着性、はんだ耐熱性、銅付き耐熱性、難燃性、ドリル加工性を有し、特に低吸水率性、耐デスミア性に優れ、また、毒性が低く安全性や作業環境に優れる、電子部品等に好適な熱硬化性樹脂組成物、プリプレグ及び積層板を提供する。
【解決手段】下記一般式(I)で表されるポリアゾメチンを有するビスマレイミド誘導体(A)及び、1分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有するエポキシ樹脂(B)を含有する熱硬化性樹脂組成物、並びにこれを用いたプリプレグ及び積層板である。
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【課題】低熱膨張性、耐熱性、接着性に優れる樹脂組成物、これを用いたプリプレグ,反り特性と耐デスミア性に優れた積層板及び、プリント配線板を提供する。
【解決手段】1分子中に少なくとも2個のN−置換マレイミド基を有するマレイミド化合物(a)と下記一般式(I)で表される酸性置換基を有するアミン化合物(b)を反応させて製造される分子構造中に酸性置換基とN−置換マレイミド基を有する化合物(A)と、平均分子量が500〜10000のビスフェノールFノボラック型エポキシ樹脂(B)を含有することを特徴とする熱硬化性樹脂組成物、これを用いたプリプレグ、積層板及びプリント配線板である。
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【課題】 耐熱性と寸法安定性に優れる硬化物と、溶融加工性に優れる半硬化(B−ステージ化)の硬化物が得られ、しかも、ポットライフも長い熱硬化性樹脂組成物と、該樹脂組成物を用いて得られる層間接着フィルムを提供すること。
にある。
【解決手段】 重量平均分子量が5,000〜60,000で、カルボキシル基の酸価が30〜80である直鎖状ポリイミド樹脂(a1)のカルボキシル基をモノエポキシ化合物(a2)で封止したポリイミド樹脂(A)と、エポキシ樹脂(B)と、エポキシ樹脂の硬化剤(C)を含有することを特徴とする熱硬化型樹脂組成物、該組成物の硬化物、該組成物により形成される層を、キャリアフィルム上に有するプリント配線板用層間接着フィルム。 (もっと読む)


【課題】成形性に優れ、熱伝導率が高く、かつ低熱膨張性で耐熱性および耐湿性に優れた成形物を与えるエポキシ樹脂組成物を提供し、更にそれを用いた成形物を提供する。
【解決手段】エポキシ樹脂及び硬化剤を主成分とするエポキシ樹脂組成物において、エポキシ樹脂成分として、ビスフェニレンユニットまたはナフチレンユニットを有する構造のメソゲン基を持つエポキシ樹脂をエポキシ樹脂成分中50wt%以上用い、硬化剤成分として、二官能フェノール性化合物を硬化剤成分中75wt%以上用いて得られるエポキシ樹脂組成物。 (もっと読む)


【課題】本発明は無電解銅めっきとの高接着力を示す半導体パッケージの高密度化に対応可能なめっきプロセスに用いる接着補助層用樹脂組成物及びめっきプロセス用接着補助層、それを用いためっきプロセス用接着補助層付き積層板、並びにめっきプロセス用接着補助層付き多層配線板を提供する。
【解決手段】本発明は、(A)エポキシ樹脂、(B)エポキシ樹脂硬化剤、(C)ポリアミド樹脂の成分を含む樹脂組成物であり、(C)ポリアミド樹脂存在下で、(A)エポキシ樹脂、及び(B)エポキシ樹脂硬化剤を反応させた、ポリアミド変性エポキシプレポリマーを含有することを特徴とするめっきプロセス用接着補助層用樹脂組成物及びめっきプロセス用接着補助層、それを用いためっきプロセス用接着補助層付き積層板、並びにめっきプロセス用接着補助層付き多層配線板であることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、良好な感度及び保存安定性に加え、現像時間に対する未露光部の膜厚変化量が少ないポジ型感光性樹脂組成物、優れた耐光性及び耐熱性を有する表示素子用層間絶縁膜、並びにその形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明は、[A]下記式(1)で表される基を有する構造単位(I)、及び1以上の(メタ)アクリロイルオキシ基を有する構造単位(II)を含む共重合体、[B]下記式(2)で表されるオキシムスルホネート基を有する化合物、[C]ラジカル捕捉剤、並びに[D]溶媒を含有するポジ型感光性樹脂組成物である。

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