【課題】レジスト性能を悪化させることなく、レジスト用樹脂を効率よく製造する方法及び該製造方法によって製造された樹脂を提供する。更には、該樹脂を含有する、解像度、露光ラチチュードが改良されたレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】樹脂溶液に対し、下記（ａ１）と（ａ２）とを含有する混合溶剤を接触させることにより、樹脂粉体を析出させる工程を含むレジスト用樹脂の製造方法、該製造方法によって製造された樹脂、該樹脂を含有する、解像度、露光ラチチュードが改良されたレジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。
（ａ１）アルコール溶剤及び水から選ばれる少なくとも１種、及び
（ａ２）水酸基を有さない溶剤から選ばれる少なくとも１種。 （もっと読む）

【課題】種々の極性の流動性油剤を任意の粘度に増粘させる新規なアクリル系ポリマーを提供する。
【解決手段】１０〜６５質量％のアクリル酸エステルと、１０〜６５質量％の一般式（II）と、６〜１４質量％の一般式（III）とから誘導されるコポリマー。


一般式（II）


一般式（III） （もっと読む）

【課題】高い耐酸性・耐塩基性および機械的強度を有し、さらに炭化水素系溶媒と簡単に分離することができる炭化フッ素系樹脂およびその製造方法、固相フルオラス触媒、固相フルオラス合成反応並びに有機反応用反応場の提供。
【解決手段】炭化フッ素系樹脂は、高分子幹鎖と、これに結合されたペルフルオロアルキル基よりなる置換基により形成される側鎖とよりなることを特徴とする。この炭化フッ素系樹脂においては、高分子幹鎖が巨大網状樹脂よりなることが好ましく、この炭化フッ素系樹脂はスチレン系単量体を用いた樹脂系あるいは、アクリル系単量体を用いた樹脂系が、挙げられる。 （もっと読む）

本発明は、付加重合工程、好ましくはフリーラジカル重合工程により取得可能な両親媒性分岐コポリマーに関し、このコポリマーは以下：
（ａ）開始剤、任意であるが好ましくはフリーラジカル開始剤、
（ｂ）任意であるが好ましくは適合性を有する鎖転移剤（Ｅ及びＥ’）、
（ｃ）少なくとも１つのエチレン性のモノ不飽和モノマー（Ｇ及び／又はＪ）、
（ｄ）少なくとも１つのエチレン性ポリ不飽和モノマー（Ｌ）
の反応生成物であり、
Ｅ、Ｅ’、Ｇ、Ｊ及びＬのうちの少なくとも１つは親水性残基であり；かつ
Ｅ、Ｅ’、Ｇ、Ｊ及びＬのうちの少なくとも１つは疎水性残基であり、
（ｄ）の（ｃ）に対するモル比は０．０００５〜１である。
本発明はさらに、かかる両親媒性分岐コポリマーを含んでなる分岐コポリマー粒子、それらの調製方法、かかるコポリマー及び粒子を含む組成物、並びに、例えば、封入剤、ナノリアクター、ピカリング乳剤（Ｐｉｃｋｅｒｉｎｇ ｅｍｕｌｓｉｆｉｅｒ）、制御性放出剤及び／又は刺激応答性放出剤としてのそれらの用途に関する。 （もっと読む）

【課題】耐候性、耐凍害性等に優れかつハードケーキの形成のない水性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】（Ａ）（ａ）シクロアルキル基および／またはターシャリーブチル基を有する（メタ）アクリル酸エステル、（ｂ）多官能架橋性単量体および（ｃ）ベンゾフェノン系単量体および／またはピペリジン系単量体を含む紫外線安定基および／または紫外線吸収基を有する不飽和単量体を含有する単量体成分を懸濁重合してなる平均粒子径が５〜６０μｍの樹脂粒子および（Ｂ）平均粒子径が０．０１〜１μｍの樹脂粒子を含有する水性艶消塗料用水性樹脂分散体。 （もっと読む）

【課題】耐加水分解性に優れた、立体的に嵩高い置換基を有するシリコーン化合物及びシリコーンモノマーを高純度に合成することができる、シリコーン化合物の製造方法及びそれを利用したシリコーンモノマーの製造方法、並びに該シリコーンモノマーと他のモノマーを共重合させて得られる成形体及び該成形体から成る眼用レンズを提供すること。
【解決手段】特定の構造を有するハロシラン化合物と、特定の構造を有する3-グリシドキシプロピルアルコキシシランとを反応させて特定のシリコーン化合物を得、これを塩基と反応させて特定のシリコーン化合物を得る。このシリコーン化合物をラジカル重合可能な炭素−炭素二重結合を少なくとも１つ有するカルボン酸と反応させて、シリコーンモノマーを得る。 （もっと読む）

【課題】室温で十分安定したネマチック相を有し、かつ、均一なハイブリッド配向性を示す重合体を得ることを可能にする組成物を提供すること。
【解決手段】第１成分として特定の重合性液晶化合物と、第２成分として下記式で表される化合物から選ばれる１種以上の化合物（第１成分とは異なる）と、第３成分として特定の重合性化合物（第１成分及び第２成分とは異なる）とを含有する重合性液晶組成物。


［式中、Ｒ³およびＲ⁴は独立に水素または炭素数１〜１０のアルキルであり；Ｐ⁵は特定
の重合性基であり；ｑ³は０〜１の整数であり；ｊ³は１〜１０の整数である。］ （もっと読む）

【課題】 ポリマー同士の凝集を防止するとともに、ポリマー製品中の疎水性溶媒残存量を少なくする、親水性ポリマー懸濁液の製造法の提供。
【解決手段】 ポリマー重量（ポリマー粒子から溶剤及び水を除いたポリマー重量）に対する水分量が１．５〜１０．０重量％の含水親水性ポリマー粒子及び疎水性溶媒の懸濁液に置換溶媒を添加した後、疎水性溶媒を留去する親水性ポリマー懸濁液の製造法。 （もっと読む）

【課題】短い重合時間すなわち高い重合速度で高品質の（メタ）アクリルアミド系重合体の製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明のアクリルアミド系重合体の製造方法は、リンの濃度が２０ｐｐｍ以下である（メタ）アクリルアミドを単独重合もしくは共重合、または該（メタ）アクリルアミドを、（メタ）アクリルアミドと共重合可能な少なくとも一種の不飽和単量体と共重合させることを特徴とする。 （もっと読む）

本発明は、改質ポリアクリロニトリル繊維、並びにその製造方法及び用途に関するものである。当該繊維は生体蛋白質を改質組成分とし、配合（重量％）は以下の通りである。アクリロニトリルモノマーは50.0〜98.9％であり、開始剤は0.1〜0.4％であり、生体蛋白質は1.0〜50.0％であり、各組成分の重量％の和は100％である。当該繊維の製造方法は、本発明に係る改質ポリアクリロニトリル繊維の配合（重量％）に基づき、以下のプロセスを用いて製造される。１．生体蛋白質溶液の調製；２．改質ポリアクリロニトリル繊維原液の調製；３．改質ポリアクリロニトリル繊維の製造。当該繊維の単糸繊度を30〜100dtexにする。ヘアピースなどの合成毛髪製品の製造に適し、自然な人の毛髪に近似する。 （もっと読む）

【課題】耐候性、耐凍害性等に優れかつハードケーキの形成のない水性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】 （Ａ）（ａ）シクロアルキル基および／またはターシャリーブチル基を有する（メタ）アクリル酸エステル、（ｂ）多官能架橋性単量体および（ｃ）ベンゾフェノン系単量体および／またはピペリジン系単量体を含む紫外線安定基および／または紫外線吸収基を有する不飽和単量体を含有する単量体成分を懸濁重合してなる平均粒子径が５〜６０μｍの樹脂粒子、（Ｂ）平均粒子径が０．０１〜１μｍの樹脂粒子および（Ｃ）増粘剤を含有する水性艶消塗料用水性樹脂分散体。 （もっと読む）

【課題】透明性、（長期）耐光性などの光学特性、長期耐熱性、誘電率などの電気特性及び良好な機械物性を与えるアダマンタン誘導体、その製造方法及び上記アダマンタン誘導体を含む樹脂組成物を提供する。
【解決手段】アダマンチルフェノール誘導体〔式（Ｉ）〕、アダマンチル基含有グリシジルフェニルエーテル誘導体〔式（ＩＩ）〕、アクリル酸のアダマンチルフェノキシプロピルエステル誘導体〔式（ＩＩＩ）〕に関する。例えば、式(II)で表されるアダマンタン誘導体とアクリル酸類とを反応させる式(III)で表されるアダマンタン誘導体の製造方法、式(II)で表されるアダマンタン誘導体とエポキシ樹脂硬化剤とを含む樹脂組成物、及び式(III)で表されるアダマンタン誘導体と、熱重合開始剤又は光重合開始剤を含む樹脂組成物に関する。 （もっと読む）

【課題】感放射線レジスト材料のベース樹脂を製造するための高分子化合物および単量体、ならびに高解像性かつ粗密依存性及び露光マージンに優れたレジスト材料の提供。
【解決手段】高エネルギー線又は熱に感応し、一般式（１ａ）で示される繰り返し単位のスルホン酸を発生する高分子化合物。


（Ｒ¹は水素原子、フッ素原子、メチル基又はトリフルオロメチル基。） （もっと読む）

【課題】光重合性組成物を光重合させることによって形成された相分離構造を有する成形体であって、高い回折効率で鋭い回折スポットを与える成形体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】マトリックス２と、マトリックス２中に配設されたマトリックス２と屈折率が異なる複数の柱状構造体３と、を備えた成形体１であって、標準正規分布の強度分布を有し且つ強度分布の半値幅が０．５°であるレーザ光線を照射したときに得られる角度スペクトルにおいて、回折スポットの半値幅が０．６°以下であり、且つ、回折効率が１０％以上である。複数の柱状構造体３は、略同一方向に配向され、且つ、該配向方向と垂直な面において規則的な格子状に配置されている。 （もっと読む）

エチレン性不飽和カルボン酸、カルボン酸無水物、あるいはカルボン酸ハライド（一括してカルボン酸成分として示す）を、少なくとも６０質量％のＣ₂〜Ｃ₄−アルコキシ基を含むヒドロキシル化合物（一言でポリアルコキシ化合物として示す）と反応させることにより、該反応を重合禁止剤および還元剤の存在下で行うことを特徴とする、カルボン酸エステルのラジカル重合可能な製造方法。 （もっと読む）

【課題】トナーと接触する電子写真機能部品をトナー極性と反するような帯電性にすることができ、メインバインダーとの分散性・相溶性が優れた正荷電制御樹脂を提供する。
【解決手段】本発明は、式（１）で示されるフルオロアルキル基含有（メタ）アクリル酸エステルモノマー、式（２）及び／又は（３）で示されるアミノ基含有モノマー、及び式（４）で示される水酸基含有モノマーを共重合成分として重合した共重合体からなる正荷電制御樹脂に関する。
（もっと読む）

【課題】微細加工技術、特にＡｒＦリソグラフィー技術において極めて高い解像性を有し、ＬＥＲの小さいパターンを与えることができるポジ型レジスト材料の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂成分（Ａ）と、活性光線又は放射線に感応して酸を発生する化合物（Ｂ）とを含有し、樹脂成分（Ａ）が下記一般式（１）で示される繰り返し単位を有する高分子化合物であるポジ型レジスト材料。


（式中、Ｒ¹は水素原子、メチル基、又はトリフルオロメチル基。Ｒ²は水素原子、又はＣＯ₂Ｒ⁴基。Ｒ³は炭素数１〜１５の含フッ素置換基。Ｒ⁴はヘテロ原子を含んでもよい炭素数１〜２０の１価の炭化水素基。） （もっと読む）

【課題】配向角度が小さい光学異方性層を安定的に作製するのに有用な組成物を提供する。
【解決手段】少なくとも一種の式（Ａ）で表される基を構成単位として含むポリマー。


（一般式（Ａ）中、Ｍ⁰¹、Ｍ⁰²はそれぞれ独立に−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−等の二価の連結基を、Ｒ⁰¹は水素原子等を、Ｒ⁰²は置換または無置換の脂肪族炭化水素基を、Ｋ⁰¹は置換芳香族環を表す。） （もっと読む）

【課題】上面に銅によって形成された部分を有する支持体上においても高感度に良好なレジストパターンを得ることが可能な厚膜用化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物及び厚膜レジストパターンの製造方法を提供する。
【解決手段】支持体上に、膜厚１０〜１５０μｍの厚膜ホトレジスト層を形成するために用いられる厚膜用化学増幅型ポジ型ホトレジスト組成物であって、（Ａ）活性光線又は放射線照射により酸を発生する化合物、及び（Ｂ）酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂、を含有し、（Ａ）成分が特定構造のオニウムフッ素化アルキルフルオロリン酸塩を含有する。 （もっと読む）

【課題】ＤＵＶエキシマレーザーを用いるリソグラフィー等の液浸露光用のレジスト組成物として用いた場合に、高感度、高解像度であり、光線透過率が高く、液浸露光時にレジスト組成物からのクエンチャーの溶出が少ない重合体、レジスト組成物及びパターンが形成された基板の製造方法を提供する。
【解決手段】特定のアミン骨格を有する構成単位（Ｍ）を含有するレジスト用の重合体、レジスト組成物、及びレジスト組成物を基板上に塗布してレジスト膜を形成する工程、レジスト膜と露光装置の最終レンズとの間に液浸液を介在させた状態で２５０ｎｍ以下の波長の光で露光する工程及び現像液で現像する工程を有するパターンが形成された基板の製造方法。 （もっと読む）