【課題】感度及び塗布性に優れ、液晶への汚染が少ない硬化膜を得ることができる感光性樹脂組成物、その硬化膜及び形成方法、前記硬化膜を含む有機ＥＬ表示装置及び液晶表示装置の提供。
【解決手段】式（ａ１）〜（ａ４）の構成単位を有する共重合体、式（Ｂ）のオキシムスルホネート化合物、式（Ｃ１）又は（Ｃ２）の化合物及び溶剤を含有する感光性樹脂組成物、その硬化膜及び形成方法、前記硬化膜を含む有機ＥＬ表示装置及び液晶表示装置。
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【課題】熱交換器または熱交換器用部材（以下、適宜、対象部材という）にＶＯＣ等の汚れ物質が付着しても、対象部材表面に生じる結露水によって洗い流され、その結果、対象部材の高い親水性を長期にわたって維持することができる、対象部材をコーティングするための塗料組成物に用いられる水溶性樹脂を提供することを課題とする。
【解決手段】熱交換器または熱交換器用部材をコーティングするための塗料組成物に用いられる水溶性樹脂であって、３−アリロキシ−２−ヒドロキシ−１−プロパンスルホン酸（ＨＡＰＳ）またはその塩と、アクリル酸またはその塩との共重合体であり、当該共重合体における全単量体の構成単位１００モル％に対するＨＡＰＳまたはその塩の構成単位の比率が２３モル％以上、かつ当該共重合体の平均分子量が５万以上であり、前記比率と前記平均分子量との積が３，０００，０００以上５，０００，０００以下であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】従来の酸発生剤を含むレジスト組成物を電子線用レジスト組成物として用いても、得られるレジストパターンの解像度が必ずしも十分に満足できない場合があった。
【解決手段】式（Ｉ）で表される塩。


［式（Ｉ）中、Ｑ^１及びＱ^２は、互いに独立に、フッ素原子等を表す。Ｌ^１は、炭素数１〜１７の２価の飽和炭化水素基等を表す。環Ｗは、炭素数３〜３６の脂肪族環を表す。ｓは、０〜３の整数を表す。ｔは、０〜２の整数を表す。Ｒ^１は、炭素数１〜１８の脂肪族炭化水素基等を表す。Ｒ^２は、水素原子等を表す。Ｚ^＋は、有機対イオンを表す。］ （もっと読む）

【課題】イマージョンリソグラフィ工程において使用される溶媒に対して安定であり、感度、レジストパターンプロファイル形状に優れるレジスト組成物を提供すること。
【解決手段】（ａ１）酸解離性溶解抑制基を有する（メタ）アクリル酸エステルから誘導される構成単位、（ａ２）ラクトン単位を有する（メタ）アクリル酸エステルから誘導される構成単位、並びに（ａ４）多環式基を有する（メタ）アクリル酸エステルから誘導される構成単位を有し、かつ（ａ０）（ａ０−１）ジカルボン酸の無水物含有構成単位及び（ａ０−２）フェノール性水酸基含有構成単位を有さない、酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する樹脂成分（Ａ）と、露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）と、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分を溶解する有機溶剤（Ｃ）と、含窒素有機化合物（Ｄ）とを含むポジ型レジスト組成物。 （もっと読む）

【課題】優れた走行耐久性を有する磁気記録媒体を作製可能な、ビニル系ポリマーからなる磁気記録媒体用結合剤を提供する。
【解決手段】磁性粉末、非磁性粉末の表面に吸着する官能基（極性基）を有することが好ましい。これにより塗料中の粉末の分散性を高めることができる。結合剤に導入することが好ましい極性基としては、スルホン酸（塩）基、カルボン酸（塩）基、リン酸（塩）基を挙げることができる。なお、スルホン酸（塩)基とは、スルホン酸基（−ＳＯ３Ｈ）、ＳＯ3Ｎａ基、ＳＯ3Ｋ基、ＳＯ3Ｌｉ等のスルホン酸塩基、およびそれらの塩を含むものとする。カルボン酸（塩)基、リン酸(塩)基についても同様である。 （もっと読む）

【課題】色素多量体、該色素多量体を含有する着色硬化性組成物、並びにカラーフィルタを提供する。
【解決手段】ジピロメテン系金属錯体化合物由来の色素骨格を含み、一般式（Ａ）で表される構造単位を含む色素多量体。一般式（Ａ）中、Ｘ^Ａ１、Ｘ^Ａ２は重合によって形成される連結基を表し、Ｌ^Ａ１、Ｌ^Ａ２は単結合等を表し、Ｄｙｅはジピロメテン系金属錯体化合物から任意の水素原子が外れた色素残基を表す。ＤｙｅとＬ^Ａ２とは、共有結合、イオン結合、及び、配位結合のいずれで連結されていてもよい。ｍは０〜３の整数を表す。
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【課題】現像欠陥の発生を好適に抑制可能なレジスト被膜を形成することができる感放射線性樹脂組成物の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、下記式（１）で表される基を有するフッ素含有化合物［Ａ］と、感放射線性酸発生体［Ｂ］と、を含有する感放射線性樹脂組成物である。


（式（１）中、Ｒ^Ｃは、置換されていてもよい（ｐ＋１）価の芳香族環式基であり、Ｑは、１価の親水基から水素原子１つを除いた連結基であり、Ｒ^Ｅは、水素原子、又はフッ素原子を含んでいてもよい炭素数１〜１０の炭化水素基である。ｐは、１〜５の整数である。但し、ｐが２〜５の場合、複数のＱ及びＲ^Ｅはそれぞれ独立して上記定義を有する。「＊」は結合手を示す。） （もっと読む）

【課題】リソグラフィー特性やパターン形状に優れたポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸解離性溶解抑制基を含む化合物（Ａ）と、−ＳＯ_２−を含む環式基を有し、かつ酸解離性溶解抑制基を有さない化合物（Ｈ）とを含有し、化合物（Ａ）及び化合物（Ｈ）以外に酸発生剤成分を含有しないポジ型レジスト組成物；化合物（Ｈ）は、一般式（３−１）で表される基を含有する化合物であることが好ましい［式中、Ａ’は酸素原子もしくは硫黄原子を含んでいてもよい炭素数１〜５のアルキレン基、酸素原子または硫黄原子であり、ａは０〜２の整数であり、Ｒ^８はアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン化アルキル基、水酸基、−ＣＯＯＲ”、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｒ”、ヒドロキシアルキル基またはシアノ基であり、Ｒ”は水素原子またはアルキル基である］。
［化１］
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【課題】新規な化合物と、該化合物に由来する構造単位を有する樹脂と、該樹脂を含むレジスト組成物等を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で表される化合物。［式（Ｉ）中、Ｗ^１は、炭素数３〜３６の飽和炭化水素環を表す。Ａ^１は、単結合又は炭素数１〜１７の２価の飽和炭化水素基を表し、該２価の飽和炭化水素基に含まれる−ＣＨ_２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−で置き換わっていてもよい。Ｒ^１は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基を表す。Ｒ^２及びＲ^３は、それぞれ独立に、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基を表す。］
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【課題】耐熱性、成形性および耐薬品性が向上した炭素繊維強化プラスチックを提供し、さらに種々の用途に適用可能な成形体を提供する。
【解決手段】官能基含有ポリ-４-メチル-１-ペンテンと、前記官能基含有ポリ-４-メチル-１-ペンテンの官能基と反応可能な基が導入されるように表面処理された炭素繊維とを含む、炭素繊維強化ポリ-４-メチル-１-ペンテン複合材料。官能基含有ポリ-４-メチル-１-ペンテンは、ポリ-４-メチル-１-ペンテンをグラフト変性したものであることが好ましく、炭素繊維の表面処理は、サイジング処理であることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】切削加工やプレス加工による流路フリーで、ミクロンオーダーの流路が内在し、従来に比べて厚さを薄くすることが可能なセパレータを備えた出力密度を向上した直接メタノール型燃料電池を提供する。
【解決手段】メタノール水溶液が燃料として供給されるアノードと、酸化性ガスが供給されるカソードと、アノードとカソードの間に介在される電解質膜と、電解質膜と反対側のアノード面に配置された第１セパレータと、前記電解質膜と反対側の前記カソード面に配置された第２セパレータとを備え、前記第１、第２のセパレータはカルボニル基が結合された環状官能基を有する第１ビニルモノマーとカルボキシル基を有する第２ビニルモノマーと芳香族基を有する第３ビニルモノマーとの共重合体、およびこの共重合体に分散された炭素粉末を含む膜である直接メタノール型燃料電池。 （もっと読む）

【解決手段】酸不安定基で置換又は非置換のナフトール基を有する繰り返し単位を含有する高分子化合物と、酸発生剤と、有機溶媒とを含むレジスト組成物を基板上に塗布し、加熱処理後に高エネルギー線で上記レジスト膜を露光し、加熱処理後に有機溶剤による現像液を用いて未露光部を溶解させ、露光部が溶解しないネガ型パターンを得ることを特徴とするパターン形成方法。
【効果】上記繰り返し単位を含む高分子化合物と酸発生剤とを含むフォトレジスト膜は、有機溶剤による現像のポジネガ反転の画像形成において、未露光部分の溶解性が高く、露光部分の溶解性が低く溶解コントラストが高く、酸拡散を抑制する。このフォトレジスト膜、格子状パターンのマスクを用いて露光、現像することで微細なホールパターンを寸法制御よく形成でき、更にアミノ基又はアミン塩を有する保護膜を適用することでホールパターンの開口不良を防ぎ、寸法均一性を向上できる。 （もっと読む）

【課題】優れた解像性を有し、矩形性が良好な微細パターンを形成できるとともに、酸発生剤から発生する酸が弱い場合も良好なレジスト特性が得られ、感度も良好なフォトレジスト組成物を構成できる高分子化合物、該高分子化合物を用いたフォトレジスト組成物、および該フォトレジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ溶解性が変化し得る高分子化合物であって、下記一般式（２）（式中、Ｒ₁は炭素数２０以下の脂肪族環式基であり、ｎは０または１〜５の整数を表し、Ｒ₂は水素原子、フッ素原子又は炭素数２０以下の低級アルキル基又は炭素数２０以下のフッ素化低級アルキル基を表す。）で示される化合物から誘導される構成単位（ａ１）と、ラクトン含有単環または多環式基を含む（メタ）アクリル酸エステルから誘導される構成単位（ａ３）と、を含有することを特徴とする高分子化合物。
［化１］
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本発明は、不飽和脂肪酸基を有する高分岐ポリカーボネートを含有する、ポリマー分散液に関し、本発明はさらに、不飽和脂肪酸基から誘導される基を有する高分岐ポリカーボネート、前記高分岐ポリカーボネートの製造方法、及び前記高分岐ポリカーボネートを、水性アクリレート分散液ベースの被覆剤の硬化特性を改善させるために用いる使用に関する。 （もっと読む）

【課題】フッ素を含まない縮合環複素芳香族光酸発生剤、およびそれを含むレジスト組成物を提供する。
【解決手段】本発明は、フッ素を含まない光酸発生剤（ＰＡＧ）と、それを含むフォトレジスト組成物とに関する。ＰＡＧは、オニウムカチオン性成分、および１つまたは複数の電子求引性置換基を含む、フッ素を含まない縮合環複素環式芳香族化合物スルホネートアニオン性成分の存在を特徴とする。ＰＡＧのオニウムカチオン性成分は、好ましくはスルホニウムまたはヨードニウムカチオンである。フォトレジスト組成物は、酸感応性イメージング・ポリマーをさらに含む。フォトレジスト組成物は、１９３ｎｍ（ＡｒＦ）リソグラフィを用いて半導体基板上に材料パターンを形成するのに特に有用である。 （もっと読む）

本出願は、マイクロカプセルまたはマイクロカプセル含有組成物に関し、当該マイクロカプセルは、重合性ラクタム共重合体を含む。より詳細には、いくつかの態様は、マイクロカプセル化粒子のコーティングの形成における重合性ラクタム共重合体の使用を対象とする。これらの重合性ラクタム共重合体は、アニオン性、非イオン性、またはカチオン性の表面改質マイクロカプセル化粒子を生じ得る。
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【課題】 ラインエッジラフネス、ＢＬＯＢ欠陥、並びにスカムの発生が改良され、更に、液浸露光時に於ける液浸液に対する追随性が良好であるレジストパターンを形成することが可能な感活性光線性または感放射線性樹脂樹脂組成物、及び該樹脂組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】 （Ａ）酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び、（Ｃ）下記（ｘ）〜（ｚ）の群から選ばれる少なくとも１つの基と、フッ素原子または珪素原子の少なくともいずれかを有し、かつ少なくとも１つの分岐部を介してポリマー鎖を３つ以上有する樹脂：（ｘ）アルカリ可溶基；（ｙ）アルカリ現像液中で分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する基；（ｚ）酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解度が増大する基、を含有することを特徴とする感活性光線性または感放射線性樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】放射線感度、現像マージンが高く、耐熱性、耐溶剤性、低誘電性、光線透過率、耐光性、耐ドライエッチング性が優れた層間絶縁膜を形成可能なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。
【解決手段】［Ａ］ヒンダードアミン構造及び／又はヒンダードフェノール構造を有するアルカリ可溶性樹脂、並びに［Ｂ］１，２−キノンジアジド化合物を含有するポジ型感放射線性樹脂組成物である。［Ａ］成分は、好ましくは、（ａ１）不飽和カルボン酸又は不飽和カルボン酸無水物から選ばれる１種以上を含む単量体、並びに（ａ２）ヒンダードアミン及び／またはヒンダードフェノール構造を含むアクリル酸エステル単位、（ａ１）及び（ａ２）の化合物に加えて、（ａ３）エポキシ基含有不飽和化合物を含む単量体から得られる共重合体であってよい。 （もっと読む）

【課題】耐光性や耐熱性及び形状保持性にも優れた成形体を短時間で形成することができる樹脂組成物の提供。
【解決手段】該組成物は、脂肪族（メタ）アクリレート系オリゴマー（Ａ）と、（メタ）アクリレート系モノマー（Ｂ）及び／又はα−メチレンラクトン構造を有するモノマー（Ｃ）とを含み、モノマー（Ｃ）は、下記一般式（１）；[化１]


（式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、同一若しくは異なって、水素原子、炭素数が１〜２０のアルキル基、アリール基、シクロアルキル基、−ＯＡｃ基、−ＣＮ基、−ＣＯ−Ｒ^５基、又は、−Ｃ−Ｏ−Ｒ^６基を表す。Ａｃ基はアセチル基を表す。）で表されるモノマーである成形用アクリル樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】押出機にてアクリル系樹脂を製造する方法に於いて、押出変動を抑制して反応性及び反応均一性を大幅に向上させると共に、アクリル系樹脂中の樹脂由来の異物や欠陥を抑制させる事ができるアクリル系樹脂の製造方法を提供する。
【解決手段】固体状の樹脂原料を可塑化し、第１段目反応の反応試剤を供給５して反応を行う第１押出機１と、第１押出機から供給された溶融樹脂に第２段目反応の反応試剤（副原料）を供給１０して反応及び／又は脱揮を行う第２押出機２と、第１押出機の樹脂吐出口６と第２押出機原料供給口７を連結した設備を有するタンデム型反応押出機でアクリル系樹脂を製造する方法において、第１押出機及び／又は第２押出機における押出機最高温部温度Ｑ℃の値を１８０℃以上３２０℃以下、反応時間ｔ分の値を０．２分以上６０分以下としたアクリル系樹脂の製造方法。 （もっと読む）